複合体は、鋼材とその上に塗布される加熱コーティングとから成る基体を有する。基体は、析出硬化鋼から製造されている。基体は、更に、ホットランナシステムにおける分配チューブ又は材料チューブとして、加熱コーティングを収容するための円形又はアーチ形の表面を備える。加熱コーティングは、複数の層及び／又は層要素を有する層複合材料を構成し、これらは、厚膜ペースト又は箔として相前後して塗布され、乾燥され、そして焼き付けられる。この場合加熱コーティング内に発生される圧縮初期応力は、基体の析出硬化によって適切に増加させられる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、製造が容易であり、赤外線吸収剤が含有された層の変色等がなく、赤外線および電磁波を安定して遮蔽する光学フィルタを提供することを主目的とする。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、透明基材と、前記透明基材上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された金属メッシュとを少なくとも有する光学フィルタであって、前記光学フィルタを構成するいずれかの層が、樹脂バインダと、ハロゲン原子を有する非金属系材料をカウンターイオンとして含むジイモニウム系色素とを含有することを特徴とする光学フィルタを提供する。 （もっと読む）

【課題】 ＣｕとＣｕ_２Ｏとで構成される銅系複合材料板状体が有する優れた放熱効果を最大限引き出すことを目的とする。
【解決手段】 ＣｕとＣｕ_２Ｏを組成とする銅系複合材料のＣｕ_２Ｏの体積率を小とする第１の面１ａと、前記体積率を大とする第２の面１ｂを有するようにする。 （もっと読む）

本発明は、殊に形態学的に定義されたポリマー表面の耐引掻性シーリングおよび装飾用金属塗装に適した多重層の層構造体、ならびに連続層を形成させるための真空技術的方法に関する。 （もっと読む）

【課題】実行するのがより簡単であるにも関わらず、粗さが低く、且つ、従来技術の材料の圧電定数よりも高い圧電定数を有する圧電性材料を得る方法を提供する。
【解決手段】１つまたはそれ以上の圧電性の酸化セラミックに基づいて材料を作成する工程であり、以下の連続するステップを構成する。
ａ）酸化物セラミックの前駆体として、酸化セラミックの粉末とゾルゲル溶液、つまり、圧電性である酸化物セラミック及び／もしくは圧電性の酸化セラミックの前駆体であるゾルゲル溶液を含む分散の層を基板へ液体による方法で蒸着する。
ｂ）ステップａ）を１回またはそれ以上繰り返すステップで、それによって少なくとも２つの層から成る多層構造のフィルムを得る。
ｃ）相当するセラミックに変換する為に前記の層を熱処理する。
ｄ）ステップａ）と同一もしくは異なるゾルゲル溶液で多層構造を浸漬被覆することにより、ステップｃ）で得られた多層構造のフィルムを浸透するステップ。
ｅ）ステップｄ）を１回もしくはそれ以上反復するステップ。
ｆ）前記多層構造を熱処理し、多層構造のフィルムを浸透しているゾルゲル溶液を変換して相当するセラミックに変換するステップであること。 （もっと読む）

【課題】 高い熱伝導率を有し、電気回路保護用の放熱板、熱交換器やヒートポンプ等の熱的機械において、従来使用されている銅やアルミニウム等の代替材料として有用な高熱伝導材を提供する。
【解決手段】 テープ状、シート状、フィルム状、マット状の結晶性カーボン材（黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブ等）と金属（Ｃｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｗ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｚｎ等）とを積層し、複合化させて得られる複合体であって、積層（厚さ）方向の熱伝導率が２００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であり、前記積層方向の熱伝導率がそれと直交する（平面）方向の熱伝導率に対して０．７以下の比率である。 （もっと読む）

窒化チタン基光学コーティングにおいて、窒化チタン層（１８）と基層（１２）との間に損傷遅延基層（１６）を施与することにより、コーティングの構造的安定性が向上される。光学コーティングがソーラー制御を与える場合には、窒化チタン層は主として所望の光学的特性を達成するために選択される。損傷遅延層の厚さは主として所望の光学的特性を達成するために選択される。損傷遅延層の厚さは主として所望の機械的特性を達成するために選択される。損傷遅延層は灰色金属から形成され、ニッケルクロムが好ましい金属である。灰色金属層は窒化チタン層が割れる可能性を低減する。そのような層が割れれたり虫跡を形成する傾向は、基層をプラズマプレグロー（８８）に露光するかおよび／または層が形成される基層の側に滑剤（１４）を用いることにより、さらに低減される。
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【課題】光散乱ＥＵＶＬマスクおよびこれを形成する方法を提供すること
【解決手段】光散乱ＥＵＶＬマスクおよびこれを形成する方法は、超低膨張基板（１００）の上に結晶シリコン層（１１０）を堆積すること（３００）、この結晶シリコン層の上にハードマスクを堆積すること（３１０）、ハードマスクをパターン形成すること（３４０）、結晶シリコン層をエッチングすること（３５０）、ハードマスクを除去すること（３６０）、および結晶シリコン層の上にＭｏ／Ｓｉ層を堆積すること（３６０）を含み、結晶シリコン層のエッチングされた領域は、エッチングされた領域に平坦でない表面を含む。本方法は、さらに、ハードマスクの上にフォトレジスト・マスクを堆積すること（３２０）、フォトレジスト・マスクでパターンを作ること（３３０）、およびこのパターンをハードマスクに転写すること（３４０）を含む。Ｍｏ／Ｓｉ層（１６０）は、結晶シリコン層（１１０）の斜面と共形的な平坦でない表面を備え、Ｍｏ／Ｓｉ層の斜面は、粗面、ぎざぎざの表面、斜面、または曲面として形作ることができ、この平坦でない表面は、露光光学系による集光を避けかつ半導体ウェハへの印刷を妨げるように入射極端紫外放射波を偏向させる。 （もっと読む）

本発明は、アルカリシリケートを含むコーティングゾルを支持体に塗布することにより、次いで、このように得られた層の、２段階熱処理方法に従う熱的圧縮により得られ得る変形可能なガラス質のコーティングを含有する金属性支持体に関する。熱処理は、第一段階で、（Ａ）酸素含有雰囲気において、または（Ｂ）減圧（≦１５ｍｂａｒの残圧を有する）において、次いで、第二段階で、第一層が十分に圧縮されガラス質層が形成されるまで、酸素欠乏雰囲気において行われる。 （もっと読む）

金属基体、実質的にアモルファス、実質的に無孔のアルミノホスフェート膜及びそれらの間の成分を含む複合体であって前記成分は基体の金属元素の酸化物と相互作用して結合したホスフェート基を含む複合体。 （もっと読む）