【課題】 設置スペースを取ることなく、簡易な構成で、プラズマ放電を確実に行わせる。
【解決手段】 外部電極１２と内部電極（原料ガス供給管）１３との間でプラズマを発生させて、プラスチック容器に所定の処理を行う高周波プラズマ処理方法１０ａであって、高周波電極１２とアース電極１３との間に、プラスチック容器が介在しない対向部分を設けるための対向部形成部材２０を備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ガラスカレットとして再利用する際にも、着色することが極めて少ないガラス用コーティング剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、シラノール基を有する水系ポリウレタンの固形分１００重量部に対し、メラミン系硬化剤１０〜３０重量部および平均粒径が１０〜１００ｎｍのシリカ微粒子４０〜１００重量部を配合したガラス用コーティング剤を提供する。また、本発明は、前記ガラス用コーティング剤を被覆したガラスビンを提供する。 （もっと読む）

【課題】材料コストの低減と減圧変形の防止とを可能としたうえで、ガスバリア性の低下を抑制することができる合成樹脂製ボトルを提供する。
【解決手段】底部４を、胴部３の下端に連設された脚部７と、ブロー成形時に延伸され、内容物が充填され口部２が封止された後に外力を付与することにより胴部３内方に反転し凹入状態とされる反転部８とで構成する。反転部８を、環状の第１傾斜パネル１４と、その内側に隣接する環状の第２傾斜パネル１５と、第１傾斜パネル１４の外周縁に沿った外周ヒンジ部１１と、第１傾斜パネル１４と第２傾斜パネル１５との境界に沿った中間ヒンジ部１３と、第２傾斜パネル１５の内周縁に沿った内周ヒンジ部１２とで構成する。更に、少なくとも胴部３乃至底部４の内面に、ガスバリア性を有する被膜を設ける。 （もっと読む）

【課題】日光に暴露されたときにも無極性または低極性の有機溶剤に対するバリア性を長期間に亘って保持できる内面被覆ポリエチレン容器を提供する。
【解決手段】内面被覆ポリエチレン容器１は、高密度ポリエチレンからなる容器本体２と、容器本体２の内面側にプラズマＣＶＤにより形成されたアモルファスカーボン被膜３とを備える。アモルファスカーボン被膜３は５〜１００ｎｍの範囲の厚さを備え、無極性または低極性の有機溶剤に対するバリア性を有する。高密度ポリエチレンは３８０ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下の波長の光線の透過率を１％以下として、該光線による該アモルファスカーボン被膜３のバリア性の低下を抑制するための顔料を含み、容器本体２は該顔料により着色されている。前記顔料は、茶色、黄色、緑色からなる群から選択される少なくとも１種の色の顔料である。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理対象となるプラスチック等の３次元中空容器に発生する変形を防ぐこと。
【解決手段】３次元中空容器を収納する空隙を設けた誘電体で構成される治具が内部に配置され前記３次元中空容器にプラズマ処理を行って成膜する処理槽と、前記処理槽内部にプラズマを発生させる為の高周波電源と、前記３次元中空容器内部にガス導入管を介してプロセスガスを供給するプロセスガス供給装置と、前記処理槽内部から排気を行う真空排気装置とを備え、
導電性を有する部品を前記治具の一部に配置し前記ガス導入管と接続して同電位にしたことを特徴とする成膜装置。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、口部の内壁における着色をほぼ無色とする製品カテゴリーに対応し、かつ、炭素膜の物理化学的な安定性を有する口部極薄炭素膜コーティングプラスチック容器を提供することである。
【解決手段】本発明に係る口部極薄炭素膜コーティングプラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器の内部空間に原料ガスを供給し、原料ガスをプラズマ化してプラスチック容器の内表面全体にプラズマＣＶＤ法によって炭素膜を成膜する炭素膜コーティングプラスチック容器の製造方法において、プラスチック容器の口部を通過する原料ガスのうち口部の中央側に主流を流し、口部の内表面側に分岐流を流し、かつ、数１によって求められるΔｂ値によって換算される分岐流による炭素膜の堆積量を、主流による炭素膜の堆積量の１／３００〜１／２とし、口部の内表面部分のみを他の内表面部分と比べて極薄に炭素膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材としてＰＥＴやポリオレフィンを用いた場合には勿論のこと、ポリ乳酸を用いた場合においても、酸化劣化のみならず、熱変形や熱劣化などを生じることなく成膜が可能であり、しかも酸素や水分に対するバリア性も高く、密着性に優れ、且つ水分による膜剥離も有効に防止された蒸着膜を備えたプラスチック成形品を提供する。
【解決手段】プラスチック基板１と、該基板表面にプラズマＣＶＤ法によって形成された蒸着膜３とからなり、蒸着膜３は、元素比Ｃ／Ｍ（Ｍは金属元素である）が２．５乃至１３であり且つ元素比Ｏ／Ｍが０．５以下の範囲にある有機金属系蒸着層３ａと炭化水素系蒸着層３ｂとを含み、炭化水素系蒸着層３ｂは、厚みが４０乃至１８０ｎｍの範囲にあり、且つＦＴ−ＩＲ測定で波数３２００〜２６００ｃｍ^−１の領域にＣＨ、ＣＨ_２及びＣＨ_３に由来するピークを示し、ＣＨ_２比が３５％以下及びＣＨ_３比が４０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック製容器本体の内面の全面にプラズマを加速度を持って衝突させて、全面に十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器の製造法を提供する。
【解決手段】 外部電極と内部電極を備え、該外部電極は、プラスチック製容器本体の主要部よりやや大きめの相似形の空間を有する反応室を備え、また、該内部電極は、反応室内に配置され、かつ、内部電極は、複数の原料ガス吹き出し孔を備え、また、内部電極には原料ガス供給管が連設され、更に、反応室には真空源が排気管を介して接続され、外部電極には整合器を介して高周波電源が接続され、内部電極には原料ガス供給管を介して接地され、外部電極の周りには磁石が配置されている高周波ブラズマＣＶＤ装置を用いてプラスチック製容器本体の内面に十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器の製造法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器の製造法を提供する。
【解決手段】高周波プラズマＣＶＤ装置を用い、外部電極１２内に薄膜を被着させるべきプラスチック容器本体１を配置し、プラスチック容器本体１内に内部電極１６を配置し、電極間に高周波電圧を印加し、且つ磁力線、内部電極１６の回転等によりプラズマを加速度を持ってプラスチック容器本体１の内面に衝突させ、減圧下で、反応室Ｃ内の反応性ガスの高周波グロー放電分解によりプラスチック容器本体１の内面にガスバリア性薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマの発生エネルギーを損なう事無く、成膜対象となる３次元中空容器及び誘電体冶具に発生する不意の損傷を防げるようにする。
【解決手段】プラズマ処理を行う処理槽と、プラズマを発生させる為の高周波電源と、プロセスガス供給装置と、真空排気装置とを備えた３次元中空容器（８）に成膜を行うプラズマ処理装置において、
前記３次元中空容器（８）が収納出来る空隙を設けた誘電体で構成されている冶具（７，９，１０，１４）の、高周波電力のホット側（１）とアース側（５）のいずれからも電気的に絶縁された箇所に、導電性を有する部品（１２，１３）を配置した事を特徴とする成膜装置。 （もっと読む）