【課題】レジスト用重合体を合成可能なアルカリ解離性基を有する重合性の化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｍ−１−２）で表される化合物。


［一般式（ｍ−１−２）中、Ｒ^９は一般式（１）で表される基等を示す。一般式（１）中、Ｒ^１０は相互に独立にハロゲン原子等、ｍ_１は０〜５の整数を示す。Ｘ^１は単結合、ジフルオロメチレン基又は炭素数２〜２０の全フッ素置換２価炭化水素基、Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜１０の２価炭化水素基等を示す。Ｒ^３１はＲ^２に示した基であり単結合を含まない。Ｒは水素原子、メチル基等を示す。］ （もっと読む）

【課題】従来の金属錯体を触媒とする製造方法では、メチルアセチレン等のアセチレン化合物を原料とした場合、パラジウム原子などの金属原子１モルあたり、アルキルメタクリレートの生成量が必ずしも十分満足できるものではなかった。
【解決手段】式（１）


［式中、Ｒ^１は直鎖アルキル基、アルコキシ基等を表す。Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^７はアルキル基等を表す。Ｒ^３及びＲ^６は水素原子、アルキル基、アルコキシ基等を表す。］
で示されるピリジルホスフィン化合物と周期表第１０族に属する金属原子とを有することを特徴とする金属錯体。 （もっと読む）

【課題】ナフタレン骨格及びアントロン骨格を有する高屈折率アクリレート及びその重合物を提供する。
【解決手段】例えば１０−（１，４−ジヒドロキシ−２−ナフチル）アントラセン−９（１０Ｈ）−オンと塩化アクリロイルを反応させて得られる９，１０−（１，４−ジアクリロイルオキシ−２−ナフチル）アントラセン−９（１０Ｈ）−オン及びこれを用いた重合体。 （もっと読む）

【課題】ナフタレン骨格及びアントラセン骨格を有する高屈折率アクリレート化合物の提供。
【解決手段】アクリレート化合物であって、１０−（１，４−ジヒドロキシ−２−ナフチル）アントラセン−９（１０Ｈ）−オン化合物を（メタ）アクリル化することによって製造される１０−［１，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−２−ナフチル］−９−アントリル（メタ）アクリレート化合物。 （もっと読む）

【課題】残留ＭＭＡ蒸留流れからの少なくともＭＡＡおよびＭＡＭの分離および回収、並びに、回収されたＭＡＡおよびＭＡＭの一方もしくは双方の、さらなるＭＭＡ生成物への変換のための１以上の技術を提供する。
【解決手段】ＭＭＡ残留物流れをオーバーヘッド流れと、ＭＡＡ、ＭＡＭおよび重化合物を含む有機残留物流れとに分離し；並びに、有機残留物流れを、水含有溶媒での抽出にかけてＭＡＡおよびＭＡＭを重化合物から分離し、ＭＡＡおよびＭＡＭを含む水性抽出剤と、重化合物を含む有機ラフィネート流れとを形成する；ことを含む。 （もっと読む）

【課題】新規な光学活性を有するポリマー及びその製造方法、並びに、クロマトグラフィー用の光学異性体分離剤を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される単量体単位を有することを特徴とする光学活性を有するポリマー及びその製造方法、並びに、クロマトグラフィー用の光学異性体分離剤。式（１）中、Ｒ¹はそれぞれ独立に、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒ²からＲ⁶はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、ｎは０から１５を表し、＊は不斉炭素原子であることを表し、Ｒ²とＲ³とは同一の基ではない。
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【課題】得られるパターンのラインエッジラフネスが良好なレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ａ）で表される化合物及びそれに由来する繰り返し単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基等；Ｚ^１は、単結合、−ＣＯ−Ｏ−^＊又は−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ−ＣＯ−Ｏ−^＊；Ｚ^２は、単結合、^＊−ＣＯ−（ＣＨ_２）−Ｏ−または^＊−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）−Ｏ−ＣＯ−等；ｋは１〜６の整数；^＊はＷとの結合手；Ｗは、脂環式又は芳香族炭化水素基；Ｒ^２は、水素原子、式（Ｒ^２−１）又は式（Ｒ^２−２）で表される基；Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、炭化水素基；Ｒ^９は炭化水素基；Ｒ^３は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基等；ｎは、１〜３の整数；ｍは、０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

一般構造：Ｂ−Ｓ−Ａ−Ｓ−ＢのＯＬＥＤ化合物において、棒状核Ａは、縮合芳香族環構造を含んでおり、そしてこの縮合芳香族環構造は、少なくとも１つのさらなるフルオレン環構造と縮合されたフルオレン環構造を含んでおり、この縮合芳香族構造を構成するフルオレン環系は、９位で置換されており、このフルオレンの９位は、酸化に対して感受性がないことを特徴とするＯＬＥＤ化合物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】繰り返し単位


（Ｘは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル又は炭素数１〜４のペルフルオロアルキルを示す。Ｙは、記載の炭素原子とともに脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数の原子を示す。Ｚは、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基を示す。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル又は炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基を示す。）とある種の繰り返し単位四種からなる群から選ばれた少なくとも一つの繰り返し単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含む感放射線組成物。 （もっと読む）

【課題】 アルキル（メタ）アクリレートとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとを有機スズ化合物触媒の存在下にエステル交換反応させてアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートを製造する方法において、有機スズ化合物触媒を回収し、再現性よく、繰り返して、エステル交換反応に使用できるようにする。
【解決手段】
エステル交換反応後の反応混合物を蒸留して、目的生成物であるアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートなどを分離した後の、触媒成分を含む蒸留残渣を１００℃以下に冷却し、生成した析出物を含む蒸留残渣に、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを加えて溶解させて、循環し、新たなエステル交換反応に再使用する、 （もっと読む）