【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
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【課題】イオン伝導物質として働くイオン化合物を提供する。
【解決手段】このイオン化合物においては、アニオン性の装填物が非局在化されている。化合物は、アミド又はその塩の一つを含んでおり、該アミド又は塩は、少なくとも１つのカチオン部分Ｍ^＋ｍと結合されたアニオン部分を全体的な電子的な中性を確保するに十分な数だけ含んでいる。化合物は、更に、ヒドロキソニウムとしてのＭ、ニトロソニウムＮＯ^＋、アンモニウム−ＮＨ_４^＋、イオン化ｍを有する金属カチオン、イオン化ｍを有する有機金属カチオン、あるいは、イオン化ｍを有する有機金属カチオンを含んでいる。アニオン部分は、組成式Ｒ_Ｆ−ＳＯ_ｘ−Ｎ−Ｚに一致し、Ｒ_Ｆは、過フッ化基であり、ｘは、１又は２であり、Ｚは、電子吸引性の置換基である。化合物は、イオン伝導物質、電子伝導物質、着色剤、及び、種々の化学反応の触媒として使用することができる。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、パターン形状、サイドローブマージン、露光量依存性（ＥＬ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ性能に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）オキシアルキレン基を有する２価のアミン化合物及び（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反応温度が−２８℃以上でも分子量分布が狭いポリマーを効率よく製造することができる、Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎが１．２５以下であるポリマーの製造方法を提供すること。また、連続的な工程で製造でき、Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎが１．２５以下であるブロックポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の液体を混合可能な流路を備えるマイクロリアクターを用いて、モノマーを開始剤の存在下でリビング重合させることを特徴とする、Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎが１．２５以下であるポリマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】カチオン重合において、重合活性が高く、取り扱いが容易で、環境負荷をかけにくい触媒、及びその触媒を用いた重合方法を提供する。
【解決手段】三フッ化ホウ素テトラヒドピラン錯体をカチオン重合触媒に用い、二重結合を含むモノマー（ビニルエーテル化合物、スチレン化合物、Ｎ−ビニル化合物）を重合させることを特徴とするポリマーの製造方法、及びその方法に用いる三フッ化ホウ素テトラヒドロピラン錯体からなるカチオン重合触媒。 （もっと読む）

【課題】高屈折率な材料、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる構造を有する化合物に金属塩を包接させた包接化合物。


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜２０の２価の有機基、ケトン基、−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−、−Ｃ_６Ｈ_４−（ＣＨ_２）_ｉ−（ｉは１〜２０の整数を示す。）、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−（Ｒ^ｘ）_ｉ−（Ｒ^ｘはアルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、ｉは１〜２０の整数を示す。）、−ＣＯ_２−、又は−ＣＯ_２−ＣＨ_２−を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ水素、ハロゲン、重水素、又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｍ_１は炭素数２〜５０のエチレン性不飽和結合を有する単量体由来の基を表し、ｍは０〜１０００の整数を示し、ｎは１〜１０００の整数を示す。Ａは環状化合物を有する基を表わす。） （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び密着性に優れ、十分な剥離特性を有するレジストパターンを得ることができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）（Ｉ）（メタ）アクリル酸、（ＩＩ）スチレン若しくはスチレン誘導体、又はα−メチルスチレン若しくはα−メチルスチレン誘導体、及び、（ＩＩＩ）（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル又は（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル誘導体、又は、（ＩＶ）（メタ）アクリル酸フルフリル、又は（メタ）アクリル酸フルフリル誘導体の少なくとも一種で表される２価の基を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】発泡トレー等の発泡容器において製品強度を維持したまま軽量化が可能なスチレン系樹脂組成物およびその材料を用いて押出発泡成形した押出発泡シート、さらに押出発泡シートを真空成型して得られる軽量化容器の提供。
また断熱材等に用いられる板状押出発泡体の断熱性能を維持したまま軽量化が可能なスチレン系樹脂組成物およびその材料を用いた板状押出発泡体の提供。
【解決手段】芳香族ビニルモノマーからなる樹脂であって、２００℃、４９Ｎ荷重で測定したメルトマスフローレイト（ＭＦＲ）が１．０〜６．０グラム／１０分であって、かつコーン＆プレート型溶融粘弾性測定装置によって２４０℃、角速度０．１ラジアン／秒で測定した貯蔵弾性率Ｇ’（０．１）と角速度１００ラジアン／秒で測定した貯蔵弾性率Ｇ’（１００）の比Ｇ’（０．１）／Ｇ’（１００）が０．００３以上であるスチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、定在波の残存、パターンプロファイルを同時に満たす良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】
２４８ｎｍに吸収を有する基を主鎖末端に有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】重合体の製造ロット間差を極めて小さくできる半導体リソグラフィー用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合性単量体と重合開始剤を溶媒中で加熱して重合する工程（Ｐ）を含む半導体リソグラフィー用重合体の製造方法であって、工程（Ｐ）において、重合槽から大気に通じる間に設けた液封が可能な構造を有する容器（Ｗ０）内の液面レベルを調節することによって、工程（Ｐ）における重合圧力を調節することを特徴とする、半導体リソグラフィー用重合体の製造方法。 （もっと読む）