【課題】金属のコンタミ、エステル部分の加水分解を起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有する感度、パーティクル、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として特定化合物を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造のカリックスアレン型化合物、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、及び（Ｃ）酸解離性基を有するアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂、を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低い誘電率と優れた機械強度を有し、面性が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物（塗布液）を提供すること。さらには該組成物を用いた電子デバイスを提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される置換スチレン誘導体の重合体を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
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【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化８６】
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【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化８５】
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【課題】遺伝子導入活性が高い核酸複合体を提供する。
【解決手段】カチオン性ポリマーと核酸との複合体であって、該複合体中の正電荷量が負電荷量よりも多い複合体に対して、アニオン性ポリマーを吸着させてなることを特徴とする核酸複合体。カチオン性ポリマー及びアニオン性ポリマーは、好ましくはＮ，Ｎ−ジアルキルジチオカルバミルメチル基を同一分子内に３個以上有する化合物をイニファターとし、これにカチオン性又はアニオン性ビニル系モノマーを光照射リビング重合させた分岐型重合体よりなる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物、および該液浸露光用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分と、下記一般式（ｃ）で表される基を有し、少なくとも１つのフッ素原子を含む含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^１はフッ素原子を有していてもよい炭素数２以上の炭化水素基である。
［化１］
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【課題】低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位。
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【課題】感度の経時安定性が良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物であって、該樹脂（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する重量平均分子量１５００〜３５００の樹脂であり、該レジスト組成物が、酸の作用により分解して２３℃常圧におけるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド ２．３８ｗｔ％水溶液に対する溶解速度が２００〜５０００倍の範囲で増大する性質を有し、かつ、該レジスト組成物の固形分濃度が２．５から４．５質量％であるすることを特徴とする、ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）