【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物である含フッ素化合物。含フッ素化合物の前記エチレン性二重結合が開裂した構造の構成単位を有する高分子化合物である含フッ素化合物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^２は、重合性基を含む置換基を有し、フッ素原子を有していてもよい芳香族環式基を含む有機基であり、前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、Ｒ^３は−Ｒ^４１−Ｒ^４２で表される基である。Ｒ^４１は無置換の炭素数１〜９のアルキレン基であり、Ｒ^４２は炭素数１〜９のフッ素置換アルキル基である。ただし、Ｒ^４１とＲ^４２との炭素数の合計は１０以下である。
［化１］
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【課題】トナーの帯電量および帯電量の立ち上がりが温湿度環境の変化に影響されやすく、プリント時に画像濃度の変化が生じたり、特に高温高湿下において、帯電量分布の不均一性にともなう画像かぶりなどの不具合が生じる場合があった。
【解決手段】帯電成分と、着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーが、下記式（１）で表される部分構造を側鎖として有する重合体を含有することを特徴とする。


（Ｒ¹は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１以上１８以下のアルキル基、又は、炭素数１以上１８以下のアルコキシル基を示す。Ｒ²は、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１以上１８以下のアルキル基、又は、炭素数１以上１８以下のアルコキシル基を示す。ｍは０以上３以下の整数を示し、ｍが２または３の場合、Ｒ¹はそれぞれ独立して選択できる。ｎは１以上３以下の整数を示す。＊は、重合体における連結位置を表す。） （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含有し、樹脂が式（ａ２−０）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂であるレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は置換基を有していてもよいアルキル基、飽和環状炭化水素基又はアルケニル基を表す。Ａ^１はハロゲン化アルキル基を表す。］
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【課題】電子線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像力、良好なパターン形状、ブリッジの発生の抑制、良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。


（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは電子求引性基を表す。Ｙは２価の連結基を表し、Ａｒ及びＡｒ’は、各々独立に、芳香族環を表す。ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、分子量１，０００以下の［Ａ］含フッ素重合体の含有量が０．０２質量％以下である感放射線性樹脂組成物である。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される基を有するフッ素含有化合物［Ａ］と、感放射線性酸発生体［Ｂ］と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（式（１）中、Ｒ^Ｃは、置換されていてもよい（ｐ＋１）価の芳香族環式基であり、Ｑは、１価の親水基から水素原子１つを除いた連結基であり、Ｒ^Ｅは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基である。ｐは、１〜５の整数である。但し、ｐが２〜５の場合、複数のＱ及びＲ^Ｅはそれぞれ独立して上記定義を有する。「＊」は結合手を示す。） （もっと読む）

【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される化合物を含有している。
【化１】
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【課題】ホスホン酸ポリマー、その製造方法及びその用途に関し、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物及びその製造方法であり、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物を用いた二次電池用バインダー及び燃料電池用電解質膜を提供する。
【解決手段】ポリスチレンの芳香環に下式で表される基が少なくとも１つ導入されたポリスチレン系化合物であることを特徴とするホスホン酸ポリマー。
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