【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、またラフネス及び疎密依存性が軽減され、さらにはＥＵＶ光による露光においても、感度、溶解コントラストにも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の芳香環含有の置換基を有するスチレン繰り返し単位を含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】繰り返し単位としてヒドロキシスチレン単位を含み、重量平均分子量が２０，０００以下であることを特徴とする自己組織化によりミクロドメイン構造のパターンサイズが２０ｎｍ以下のパターンを形成する自己組織化高分子膜材料。
【効果】本発明は、ヒドロキシスチレン単位を含む高分子化合物を、ブロック共重合体として用いたり、他の高分子化合物と配合することで、従来のブロックコポリマーでは難しい、パターンサイズが２０ｎｍ以下の自己組織化により形成されるミクロドメイン構造のパターンを得ることができ、特に超ＬＳＩ製造用の微細パターン形成材料などへ好適な自己組織化材料を与えることが可能である。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶解に対する溶解コントラストに優れたレジスト組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（１）金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりコア部を含有する第一の組成物を得る工程；
（２）該第一の組成物に酸分解性基を含有するモノマーを添加し、第一の組成物に含まれるコア部に酸分解性基を導入することによりシェル部を形成し、コアシェル型ハイパーブランチポリマーを含有する第二の組成物を得る工程；
（３）該第二の組成物に酸触媒を添加し、酸分解性基の一部を分解して酸基を形成し、シェル部に酸基と酸分解性基とを有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーを含有するレジスト組成物を得る工程を含む、シェル部に酸基と酸分解性基とを有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーを含有するレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、アウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位を有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂及び（Ｂ）特定構造の化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高い発光効率で高輝度の緑〜青色光が得られると共に、長寿命の高分子発光材料の提供。製造工程が簡略化され、大面積化が実現できる有機ＥＬ素子および表示装置の提供。
【解決手段】複素環構造を有する配位子とヘキサクロロイリジウム酸ナトリウムとを反応させ、次いで重合性官能基を有する２座配位子を炭酸ナトリウム存在下で反応させ、得られたイリジウム錯体から導かれる構造単位を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】高い発光効率が得られると共に、長寿命の高分子発光材料の提供。製造工程が簡略化され、大面積化が実現できる有機ＥＬ素子および表示装置の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される金属錯体から導かれる構造単位を有する重合体からなる高分子発光材料。
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【課題】 高周波領域での誘電特性、耐熱性、及び機械的強度に優れるとともに、十分な難燃性を有する基板を形成するための熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で表わされるビニルベンジルエーテル化合物と、芳香族リン酸エステルと、ベンゾオキサジン化合物と、を含み、前記ビニルベンジルエーテル化合物１００質量部に対して、前記芳香族リン酸エステルの含有量が５０〜８０質量部であり、前記ベンゾオキサジン化合物の含有量が５〜４０質量部であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
【化１】



［式中、Ｒ^１はメチル基又はエチル基を示し、Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を示し、ｎは２〜６の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、下地との密着性等に優れたマイクロレンズ、該マイクロレンズの製造に用いられるマイクロレンズ用化学増幅ポジ型レジスト組成物等を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【化１３】


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリール等を表し、Ｘは、ＯまたはＮＲ（式中、Ｒは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す）を表す］で表される基を有する重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、および（Ｃ）有機溶剤を含有することを特徴とするマイクロレンズ用化学増幅ポジ型レジスト組成物等を提供する。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品を上回る高感度な半導体リソグラフィーにおいて好適に使用されるポジ型感光性樹脂及び該ポジ型感光性樹脂を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のポジ型感光性樹脂は、酸の作用によって酸不安定保護基が解離し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大するポジ型感光性樹脂であって、一般式（１）
【化１５】


（式中、X₁及びX₂は、互いに独立に、同一又は異なってもよく、炭素数1から３０の直鎖又は分岐の炭化水素基等を示し、これらの置換基は炭素数１−６の直鎖又は分岐の炭化水素又は−Ｏ−炭化水素で置換されていてもよく、Y₁及びY₂は、互いに独立に、同一又は異なってもよく、水素原子、炭素数１−６の直鎖又は分岐の炭化水素基等を示し、又、Ｚは、同一又は異なっていてもよく、酸素原子又は硫黄原子を示す。）
で表される構造を高分子主鎖に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光照射で生成する長寿命の活性種を開発し、本来的な効率を高めるとともに、高分子の種類によらないグラフト法を提供する。
【解決手段】一般式


（式中、Ｒ_１Ｒ_２は、水素、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基を表わし、Ｒ_１Ｒ_２は、同じものが複数あっても良い。）で示される クロメン構造を有する高分子へ、光照射をして、高分子表面上に、アミノ基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシル基から選ばれる1種若しくは2種以上の官能基を有する化合物を反応させて、クロメン構造を有する高分子の側鎖に官能基を有する化合物をグラフトさせる方法。 （もっと読む）