【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記化学式（３０）又は（３１）の少なくともいずれか一方で表される構成単位中のフェノール性水酸基の水素原子が、下記一般式（１）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で置換されていることを特徴とする高分子化合物。
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【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ等の（極）遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線に有効に感応し、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるスルホンイミド化合物と、酸解離性基含有化合物と、溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。


（一般式（１）中、Ｍ^＋は一価のオニウムカチオンを示し、Ｙは、カルボニル基等を示し、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、相互に独立に、炭素数１〜１２の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示す。） （もっと読む）

以下の工程、すなわち、
ａ）ａ１）周期表（ＩＵＰＡＣ ２００７）の３族〜１０族遷移金属の有機金属化合物、又はアクチノイド若しくはランタノイドの有機金属化合物と、ａ２）周期表（ＩＵＰＡＣ ２００７）の１３族元素要素を含む助触媒と、そしてａ３）溶媒（Ａ―１）とを含む溶液（Ａ）を調製する工程、
ｂ）下式（Ｉ）
【化１】


（式中、ｎは１０〜１００の数であり、ｍは１〜４０の数であり、ｘは５〜１６の数であり、ｙは１１〜３３の数であり、但し、ｍ、ｎ、ｘ及びｙは、ブロックコポリマーを加えることによって安定なエマルジョンが形成される程度にブロックコポリマーが溶媒Ｂ又は溶液Ａ中に可溶性であるように選択される）のポリスチレン―ｂ―フルオロポリスチレンコポリマーの存在下で、溶液（Ａ）と実質的に不混和性である溶媒（Ｂ）中に前記溶液（Ａ）を分散させることによって液／液エマルジョン系を調製する工程、
ｂ１）溶媒（Ｂ）はエマルジョンの連続相を構成する
ｂ２）溶液（Ａ）は液滴の形態で分散相を構成する
ｂ３）有機金属化合物及び助触媒は液滴中に存在する、
ｃ）前記分散相を凝固させて、前記液滴を固体粒子に変える工程
ｄ）前記粒子を任意に回収して前記触媒系を得る工程
を含む、固体粒子の形態で、周期表（ＩＵＰＡＣ ２００７）の３族〜１０族の遷移金属の有機金属化合物を含む、非担持で不均一なオレフィン重合触媒系を調製する方法と、前記方法によって得られる非担持で不均一なオレフィン重合触媒と、オレフィン重合における前記触媒の使用。 （もっと読む）

【課題】高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式で表される特定の化合物、（Ｂ）アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の存在下でアルカリ易溶性となる樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】塗布法で膜を形成することができ、発光効率が高く、寿命が長く、特に高温駆動での寿命が長い有機デバイス（特に有機エレクトロルミネッセンス素子）、及びそれを実現する重合性単量体とそれを用いた高分子化合物、有機デバイス用材料（特に有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料）を提供すること。
【解決手段】下記式で表される化合物に重合性官能基が置換した重合性単量体。
Ａｒ^a−Ａｒ¹−（Ａｒ²）_m−（Ａｒ³）_n−（Ａｒ⁴）_o−Ａｒ^b
（Ａｒ^a及びＡｒ^bは、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、９，９−ジアルキルフルオレン環、９，９−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ［ｂ］フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる一価の基であり、置換基を有していてもよい。Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴は、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、９，９−ジアルキルフルオレン環、９，９−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ［ｂ］フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる連結基であり、アリール基及びヘテロアリール基以外の置換基を有していてもよい。ｍ、ｎ及びｏは、それぞれ独立に、０又は１である。） （もっと読む）

【課題】水和反応及び脱水反応の基質となりうる新規な重合体又は共重合体、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）；


で表される構造単位を含む重合体又は共重合体、およびこれらを酸化、および水和がより得られる重合体又は共重合体、そしてそれらの製造方法からなり、これらの重合体又は共重合体が、吸湿材料、調湿材料、脱水材料、建材等として有用である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。
【解決手段】架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順で有するレジストパターンの形成方法において、現像液が有機溶剤として、露光前のレジスト膜に対して良溶媒となる溶剤（Ｓ−１）及び露光前のレジスト膜に対して貧溶媒となる溶剤（Ｓ−２）を含有し、沸点について、溶剤（Ｓ−２）＞（Ｓ−１）の関係を満足することを特徴とするレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 （もっと読む）

【課題】 パターニング時のアルカリ水溶液への可溶性に優れ、かつ硬化後の機械的強度特に弾性率に優れる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表される樹脂（Ａ）、架橋剤（Ｂ）及び感光性酸発生剤（Ｃ）を含むことを特徴とする化学増幅型ポジ型感光性熱硬化性樹脂組成物。
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【課題】イオン伝導特性に優れるイオン伝導体及び、当該イオン伝導体を構成するポリマーの製造に有用な重合性化合物の提供。
【解決手段】環状有機基で置換された炭化水素基を有する繰返し単位を含むポリマーからなるイオン伝導体であって、上記環状有機基の環を構成する原子のうち連続する３又はそれ以上の原子に、エステル基、アミド基、リン酸基、スルフォン酸基などの極性基のいずれかが結合している、イオン伝導体。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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