【課題】ラジカル重合性不飽和単量体の効率的なリビングラジカル重合ができるラジカル重合性オリゴマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】分子中に下記構造式で示される化学構造


（ここで、ｐは１〜２００の整数、Ｘはニトリル基、フェニル基およびその誘導体、ピロリドン基、アクリル酸基またはアクリルアミド基で示される化学構造、Ｙは重合開始剤の遊離基、Ｚはα−メチルスチレンダイマーの遊離基を表す。）を含むラジカル重合性オリゴマー。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜できる感放射線性樹脂組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、樹脂と、式（ｂ１）の酸発生剤と、低分子化合物とを含有しており、該低分子化合物は、式（ｃ１）の化合物、窒素原子を２個有する化合物、窒素原子を３個以上有する化合物等のうちの１種である。
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【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（ａ１）と、下記式（２）で表される構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物（ｂ１）、オキシラン環含有化合物（ｂ２）及びオキセタニル環含有化合物（ｂ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物、（Ｃ）光感応性酸発生剤、（Ｄ）溶剤を含有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物。
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ポリマーベースの誘電体組成物（例えば処方物）及び材料（例えば、フィルム）及び関連する素子（デバイス）が開示されている。ポリマーは、通常、光架橋可能なペンダント基を含み；例えば、ポリマーは、１つ以上のクマリン−含有ペンダント基を含む。 （もっと読む）

【課題】露光光に極紫外線を用いるパターン形成において、現像コントラストが高い微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、酸不安定基を含まず且つラクトンを含む第１のポリマーと、酸不安定基を含む第２のポリマーと、光酸発生剤とを含むレジスト材料からなるレジスト膜１０２を形成する。その後、レジスト膜１０２に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜に対して現像を行って、レジスト膜からレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ガス放出の少ないフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト組成物中に用いるポリマーは、以下の化学式を有する繰り返し単位を含み、
【化１】


式中、Ｚはポリマー骨格の繰り返し単位を表し、Ｘは、アルキレン、アリーレン、アラアルキレン、カルボニル、カルボキシル、カルボキシアルキレン、オキシ、オキシアルキレン、及びこれらの組合せから成る群から選択される連結基であり、Ｒは、水素、アルキル、アリール、及びシクロアルキル基から成る群から選択され、但し、ＸとＲは同じ環システムの部分ではない。また、フォトレジスト組成物のレリーフ画像をパターン化するためのプロセスが開示され、ここで該フォトレジスト組成物のガス放出速度は６．５Ｅ＋１４分子／ｃｍ^２／ｓ未満である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、設定した任意の量の重合性官能基を繰り返し単位中に有する重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】芳香族環と共役した二重結合を有する共役アルケニル単量体より得られる重合体であって、繰り返し単位に芳香族環と共役した二重結合を有し、芳香族環と共役した二重結合の置換位置のオルト位、またはパラ位のいずれか少なくとも１つの位置に、酸素原子を介した有機基を有する共役アルケニル単量体より得られることを特徴とする重合体。 （もっと読む）

【課題】露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。一般式（ａ０−１）中、Ｒ^２はメチル基、エチル基又はフッ素原子を有する有機基であり；−Ｏ−Ｒ^２はアルカリ現像液の作用により解離する基であり、−Ｃ（＝Ｏ）−の炭素原子は前記樹脂成分（Ａ１）の主鎖に直接結合していないものとする。
［化１］
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【課題】放射線、特にＥＵＶ等の（極）遠紫外線に優れた感度で感応するとともに、ナノエッジラフネスに優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することのできる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又は難溶性の重合体（Ａ）を含有する感放射線性樹脂組成物であり、重合体（Ａ）の、波長１３．５ｎｍにおける吸収係数が１．７μｍ^−１以上であり、重合体（Ａ）が、フッ素原子を含有しないフェノール構造の繰り返し単位を含むものである。 （もっと読む）

【課題】金属のコンタミを起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するパーティクル、感度、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として水素酸の非水溶液を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）