【課題】貯蔵安定性に優れ、かつ、低光沢で撥水性、耐水性等が良好な塗膜を形成可能な水系塗料組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、ヒドロキシル基含有重合性単量体を２〜１５質量％含有する（メタ）アクリル系単量体を重合してなる（メタ）アクリル系重合体エマルジョン（Ａ）、シリコーン樹脂水分散体（Ｂ）、及びＨＬＢが１６〜２０である高ＨＬＢ界面活性剤（Ｃ）を含む水系塗料組成物であって、この高ＨＬＢ界面活性剤（Ｃ）を（メタ）アクリル系重合体エマルジョン（Ａ）１００質量部に対し０．２〜２質量部含有する水系塗料組成物である。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。 （もっと読む）

【課題】スキャンスピードが高速（例えば、７００ｍｍ／ｓ）であっても水残りを抑制でき、さらに液浸液と上層膜との界面におけるバブルの発生をも抑制することのできる液浸上層膜を形成できる上層膜形成用組成物の提供。
【解決手段】液浸上層膜形成用組成物は、下記一般式（１−１）で表される繰り返し単位および（１−２）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも一種、炭化水素基を有する繰り返し単位およびフッ素置換炭化水素基を有する繰り返し単位を含有する重合体（Ａ）と溶剤（Ｓ）とを含む。


（一般式（１−１）及び（１−２）中、Ｒ^１は水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立に単結合又は炭化水素基を示し、Ｒ^４はフッ素原子置換炭化水素基を示す。） （もっと読む）

【課題】
ガスバリア性と成形加工性のバランスなどに優れたニトリル系樹脂を提供する。
【解決手段】
不飽和ニトリル６０〜８０重量％、アクリル酸エステル１２〜３７重量％及びスチレン３〜８重量％からなる単量体混合物を共重合して得られるニトリル系樹脂、ならびに該ニトリル系樹脂にゴム質含有グラフト共重合体を配合してなるゴム質含有ニトリル系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】表示画像における色むら・濃度むら（特に、すじむら）の発生を効果的に防止することができる配向膜を提供する。
【解決手段】ポリイミド、γ−ブチロラクトン、フッ素系レベリング剤を含むインクジェット方式の配向膜形成用組成物であり、前期フッ素系レベリング剤は、式（１）の単量体、および下記式（２）の単量体を含んで構成される。


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【課題】ＰＭＭＡと同等又はそれ以上の耐熱性及び十分に高度な常温弾性率を有し、軟化温度が熱分解温度よりも低く、十分に成形性に優れ、しかも十分に高度な耐衝撃性を有するアクリル型共重合体を提供する。
【解決手段】少なくとも、α−アセトキシアクリル酸アルキル（但しアルキル基の主鎖の炭素原子の数が３以下）で表される第一のアクリル型モノマーと、α−アセトキシアクリル酸アルキル（但しアルキル基の主鎖の炭素原子の数が４〜６０）で表される第二のアクリル型モノマーと、メタクリル酸メチルとを共重合してなり且つ前記第一のアクリル型モノマーと前記第二のアクリル型モノマーとの質量比（［第一のアクリル型モノマー］：［第二のアクリル型モノマー］）が５０：５０〜９９：１であることを特徴とするアクリル型共重合体。 （もっと読む）

【課題】望ましくない分離を生ずることなく水中に分散され得るかまたは水で容易に希釈され得るコナゾール殺菌剤、特にエポキシコナゾールの配合剤を提供する。
【解決手段】α）少なくとも１個のスルホン酸基を有する少なくとも１つのタイプのモノエチレン性不飽和モノマー、β１）２０℃の温度での水溶解度が３０ｇ／ｌ未満の少なくとも１つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、及びβ２）２０℃の温度での水溶解度が５０ｇ／ｌ以上の少なくとも１つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、を含む少なくとも３つの異なるモノエチレン性不飽和モノマーからなる新規コポリマー。 （もっと読む）

【課題】線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物、（Ｃ）架橋剤、及び、（Ｄ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の膜を露光し、有機溶剤を含む現像液を用いて現像するパターン形成方法。


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【解決手段】ポリカーボネート樹脂（１−ｉ）基体の少なくとも一方の面に、紫外線吸収性基を固定化した熱可塑性（メタ）アクリル樹脂（１−ｉｉ）層を積層した基材（１）において、紫外線吸収性基を固定化した熱可塑性（メタ）アクリル樹脂（１−ｉｉ）層の表面上に、紫外線吸収性の無機酸化物微粒子及び／又は有機紫外線吸収剤を含む耐擦傷性コーティング組成物の硬化被膜（２）を積層したポリカーボネート樹脂積層体であって、該積層体のヘイズが２％以下であることを特徴とするポリカーボネート樹脂積層体。
【効果】本発明によれば、透明性を維持しながら耐擦傷性、紫外線遮蔽性を発現し、更に長期の屋外暴露に耐えうる耐候性、耐久性を兼ね備えたポリカーボネート樹脂積層体を提供することができる。 （もっと読む）