【課題】高温、高湿の環境下でも透明性が高く、表面硬度を落とすことなくカールが小さく、かつ基材フィルムとの密着性が良好であるハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】電離放射線硬化型樹脂を含有するハードコート層をフィルム基材上に有するハードコートフィルムであって、（１）当該電離放射線硬化型樹脂が少なくとも多官能（メタ）アクリレートと、全組成質量に対して１〜２０％の範囲内の含有比率で、ラクトン環を有する化合物とを含有し、かつ、（２）透過測定法によるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系にて、ａ^＊値とｂ^＊値が、いずれも−１．５〜＋１．５の範囲内であることを特徴とするハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】本発明の紫外線硬化樹脂によれば、２Ｐ法による基板成形の量産性に優れ、スタンパからの剥離性が特に良好で、硬化時及び多層ディスクを高温多湿化に置いた後において反りの変化量が小さい強い光ディスク用基盤を提供することができる。
【解決手段】
（Ａ）脂肪鎖を有する（メタ）アクリレート、（Ｂ）（メタ）アクリレートモノマー及び／又は（Ｃ）ウレタン（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする多層光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、且つ前記基材成分（Ａ）の分子量分散度（Ｍｗ/Ｍｎ）が１．０１〜１．５０であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性の高い高屈折率の硬化物を形成できる光硬化性材料、該材料を簡便に製造できる方法および透明性の高い高屈折率の物品を提供する。
【解決手段】（ｉ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ａ）の１種以上からなる重合性成分（Ａ）と、アクリル酸またはメタクリル酸（Ｂ）とを反応させ、前記化合物（Ｂ）に由来するカルボキシ基を末端に有する表面修飾剤（Ｃ）を得る工程と、（ii）無機微粒子（Ｄ）の表面を前記表面修飾剤（Ｃ）で修飾して、表面修飾無機微粒子（Ｅ）を得る工程と、（iii）前記表面修飾無機微粒子（Ｅ）と、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ｆ）の１種以上からなる重合性成分（Ｆ）と、光重合開始剤（Ｇ）とを含む光硬化性材料を得る工程を有する製造方法で得られた光硬化性材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】ノイズ抑制効果に優れたノイズ抑制シートを与えることのできるノイズ抑制シート用アクリルゴム組成物を提供すること。
【解決手段】アクリル酸アルキルエステル単量体単位（ａ１）および／またはアクリル酸アルコキシアルキルエステル単量体単位（ａ２）６０〜９５重量％、（メタ）アクリロニトリル単量体単位（ｂ）４〜３７重量％、ならびに、親水性官能基含有エチレン性不飽和単量体単位（ｃ）０．０１〜６重量％を有するアクリルゴムと、磁性粉末とを含有するノイズ抑制シート用アクリルゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、８５℃＜Ｔ_PEB、Ｔ_PEB＜Ｔ_PB、且つＴ_PB＜１００℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】各種性能に総合的に優れたエンボス加工用光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】２種類以上の重合性モノマーまたは重合性オリゴマーを含み、かつ、粘度が９０〜１０００ｍＰａ・ｓであるエンボス加工用光硬化性組成物であって、（１）前記重合性モノマーまたは重合性オリゴマーの合計量の８５重量％以上が粘度２０００ｍＰａ・ｓ〜１００００ｍＰａ・ｓで３官能以上の重合性モノマーまたは重合性オリゴマー（Ａ）および粘度２００ｍＰａ・ｓ以下で１官能または２官能の重合性モノマーまたは重合性オリゴマー（Ｂ）で構成される組成物、または、（２）前記重合性モノマーまたは重合性オリゴマーとして、粘度８００ｍＰａ・ｓ以下で３官能以上の重合性モノマーまたは重合性オリゴマー（Ｃ）および粘度２００ｍＰａ・ｓ〜７０００ｍＰａ・ｓで１官能または２官能の重合性モノマーまたは重合性オリゴマー（Ｄ）を含む組成物。 （もっと読む）

本発明は、１つのカプセルコアおよび１つのカプセル壁を含むマイクロカプセルであって、但し、この場合このカプセル壁は、それぞれ単量体の全質量に対して、アクリル酸および／またはメタクリル酸の１つ以上のＣ₁〜Ｃ₂₄アルキルエステル５０〜９０質量％（単量体Ｉ）、１つ以上のポリビニル単量体１０〜５０％（単量体ＩＩ）、ならびに単量体Ｉとは異なる、１つ以上のモノ不飽和の非イオン性単量体０〜３０質量％（単量体ＩＩＩ）から形成されているものとする、上記マイクロカプセル、前記マイクロカプセルの製造法ならびに結合建築材料、織物および伝熱流体中への前記マイクロカプセルの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮の抑制された多層多孔膜を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン樹脂を主成分とする多孔膜の少なくとも片面に、無機粒子と樹脂製バインダとを含む多孔層を備えた多層多孔膜であって、樹脂製バインダが、（メタ）アクリル酸エステル単量体から選ばれる１種以上の単量体と、不飽和カルボン酸単量体と、架橋性単量体とを原料単位として含む共重合体であり、前記単量体組成のうち、不飽和カルボン酸単量体の割合が１．０質量部％以上であることを特徴とする多層多孔膜。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、アニオン部及びカチオン部を持つオニウム塩を有し且つアニオン部であるスルフォン酸基と共有結合するマレイン酸の誘導体と酸脱離基とを含むポリマーを含む化学増幅型レジスト材料からレジスト膜を形成する。続いて、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行い、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱する。続いて、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）