本発明は、着色剤によって表面改質され、この着色剤がＬＣＳＴポリマーおよび／またはＵＣＳＴポリマーからなる１層または複数層で被包されることを特徴とする基材に関する。本発明はさらに、表面改質基材を調製する方法、ならびに表面塗料、水性塗料、粉体塗料、ペイント、印刷インク、セキュリティ印刷インク、プラスチック、コンクリートにおけるその使用、化粧用配合物におけるその使用、農業用シートおよび防水布におけるその使用、紙およびプラスチックのレーザマーキング用のその使用、レーザ溶着用のその使用、光保護としてのその使用、腐食保護用の顔料としてのその使用、ならびに顔料組成物および乾燥調製物を調製するためのその使用に関する。 （もっと読む）

センサー材料を光学記憶媒体基板（１０）に適用する方法が開示されている。対象とする試料に曝露した後、得られたセンサーを光学記憶媒体ドライブで読み取って、その試料の物理的、化学的及び生物学的パラメーターを定量分析することができる。 （もっと読む）

賦型された形状を、賦型後に加熱された場合でも保持することができ、寸法安定性及び耐熱性に優れた成形品を得ることを可能とする熱可塑性樹脂組成物を得る。
熱可塑性樹脂１００重量部と、熱可塑性樹脂に分散された無機化合物０．１〜１００重量部とを含み、賦型された形状が、熱可塑性樹脂のガラス転移温度または融点以上に加熱された後でも７５％以上保持される熱可塑性樹脂組成物、並びに該熱可塑性樹脂組成物を用いて構成された基板用材料及びフィルム。 （もっと読む）

本発明の要旨はポリオルガノシロキサンを含むゴム成分を有し、３〜７員環のジメチルシロキサン系環状体の含有量が３０００ｐｐｍ以下であるグラフト共重合体にあり、熱可塑性樹脂に添加した際に、優れた耐衝撃性等を発現するとともに、成形品中の残存揮発分が少なく、その存在意義は特に自動車内装、建造物室内部材等の用途において非常に大きい。 本発明のグラフト共重合体は、熱可塑性樹脂のうち、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、アクリロニトリル／スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂から選ばれる１種または２種以上からなる樹脂に特に好適に用いられる。 （もっと読む）

本発明は、金属−プラスチック−ハイブリッドならびに該ハイブリッドから製造される成形体に関する。金属の添加物をプラスチック中で組み合わせることによりここではじめて、射出成形法におけるコンパウンドの良好な加工性と同時に１０^−２Ωｃｍより小さい体積抵抗率を実現することができることが判明した。 （もっと読む）

放射線減衰衣類の製造に有用である薄型軽量可撓性シート製品。シート製品は、ポリマー材料であり、高原子量金属粒子が高装填率で含まれる。シート製品は、高原子量金属粒子が分散されているポリマーラテックスディスパージョンから形成され、ラテックスは、注ぎ込み可能な程度に十分に低い粘度を保持し、シート製品のキャスティングを可能にする。 （もっと読む）

この発明は、難燃性組成物および水から形成された防炎性組成物を調製する方法と同様に防炎性組成物に関する。防護物は、層上に若しくはガラス、木材、紙、ポリマーフィルムおよび層混合物と同様に他の層状材料の２層以上の間にはさまれた、防炎性組成物または防炎性ポリマーを含む。 （もっと読む）

一実施形態では、試験ポリマーが認証可能ポリマーであることを認証する方法であって、認証可能ポリマーが基板ポリマーと熱変色性化合物とを含んでおり、熱変色性化合物が第一の温度及び認証波長で第一の信号を有するとともに、認証温度及び認証波長で第二の信号を有し、第一の信号と第二の信号とが異なり、認証温度が第一の温度より高い温度であり、当該方法が、試験ポリマーの一部分を認証温度に上昇させて加熱部分を生み出すのに十分な刺激に試験ポリマーを暴露し、認証波長で試験ポリマーの加熱部分の試験信号を測定し、試験信号が認証可能ポリマーの認証信号と同じであれば試験ポリマーが認証可能ポリマーであると認証することを含んでなる方法が開示される。 （もっと読む）

有機半導体層処方であって、３．３以下の１，０００Hzでの誘電率εを有する有機結合剤および式Ａ：


式中、
Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１０、Ｒ_１１、およびＲ_１２のそれぞれは、同一または異なっていてもよく、独立して、水素；任意に置換されたＣ_１〜Ｃ_４０のカルビルまたはヒドロカルビル基；任意に置換されたＣ_１〜Ｃ_４０のアルコキシ基；任意に置換されたＣ_６〜Ｃ_４０のアリールオキシ基；任意に置換されたＣ_７〜Ｃ_４０のアルキルアリールオキシ基；任意に置換されたＣ_２〜Ｃ_４０のアルコキシカルボニル基；任意に置換されたＣ_７〜Ｃ_４０のアリールオキシカルボニル基；シアノ基（−ＣＮ）；カルバモイル基 （−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ_２）；ハロホルミル基（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ、式中、Ｘは、ハロゲン原子を示す。）；ホルミル基（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｈ）；イソシアノ基；イソシアネート基；チオシアネート基またはチオイソシアネート基；任意に置換されたアミノ基；ヒドロキシ基；ニトロ基；ＣＦ_３基；ハロ基（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）；任意に置換されたシリル基であり、；および式中、Ｒ_２およびＲ_３および／またはＲ_８およびＲ_９は、Ｃ_４〜Ｃ_４０の飽和または不飽和の環を形成するように架橋されていてもよく、飽和または不飽和の環は、酸素原子、硫黄原子、式−Ｎ（Ｒａ）−（式中、Ｒａは、水素原子または任意に置換された炭化水素基）で示される基が介在していてもよく、または任意に置換されていてもよい、；および式中、ポリアセン骨格の１または２以上の炭素原子は、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｏ、Ｓ、ＳｅおよびＴｅから選択されるヘテロ原子によって任意に置換されていてもよい；および式中、独立して、ポリアセンの隣接する環の位置に存在するいずれの２または３以上の置換基Ｒ_１〜Ｒ_１２は、ともに、ポリアセンに融合した、任意にＯ、Ｓまたは−Ｎ（Ｒａ）（Ｒａは、上記定義のとおりである）が割り込まれたさらにＣ_４〜Ｃ_４０の飽和または不飽和の環または芳香族環系を構成してもよい、；および式中、ｎは、０、１、２、３または４である、のポリアセン化合物を含む、前記処方。

（もっと読む）

本発明は、Ｘ、Ｙ，Ａ，ＳＴＩ、ＡＳＭ−５、ＭＣＭ−４１型とその系列およびＳＢＡとその系列のミクロ細孔性またはメソ細孔性モレキュラーシーブをホストとして、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＣｅＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３ナノクラスターをゲストとして利用したホスト−ゲストナノ複合材料である、新規な耐紫外線材料を提供する。この複合体は、ＵＶＡ−ＵＶＢ領域の紫外線を強く吸収し、化粧品用、塗料用、ゴムおよびプラスチック産業用の耐紫外線剤として利用することができる。 （もっと読む）