本発明は、多官能性で未硬化の液体マイケル付加樹脂に基づくプリント基体のための光硬化性オーバープリントワニスに関する。該組成物は、光開始剤が全く存在しないかまたはその僅かな存在下でＵＶ硬化可能である。 （もっと読む）

（ａ）少なくとも１種類のエチレン性不飽和モノマー成分；（ｂ）少なくとも１種類の塩素化ポリオレフィン；を含む、ラジカル、エネルギー硬化性コーティング組成物であって、その少なくとも１種類の塩素化ポリオレフィンが、少なくとも１種類のモノマー成分に少なくとも一部可溶性である、コーティング組成物が、その組成物で基材をコーティングするプロセスと共に記述されている。 （もっと読む）

硬化すると、薄膜であっても低屈折率で、表面硬度、耐擦傷性、耐摩耗性、及び良好な硬化性を有する膜を与えるコーティング組成物が提供される。一実施形態として、フッ素化基を含まない反応性ナノ粒子、少なくとも１つのフッ素化基を有する反応性ナノ粒子、及びエチレン性不飽和フッ素化ウレタン成分を含む組成物が提供される。 （もっと読む）

放射線硬化性の１，３，５−トリアジンカルバメート及び−尿素、その製造方法及びその使用。 （もっと読む）

本発明は、式Ｉ、II、III、IV、Ｖ又はVIで示される新規な光開始剤に関し、式中、Ｒ₁及びＲ₂は、各々互いに独立に、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル；ＯＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、−ＣＯＯ（Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル）、（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）−ＣＯＯ−、−ＣＮ、ベンジル、フェニル若しくは−Ｎ（Ｒ₁₅）（Ｒ₁₆）で置換されているＣ₁〜Ｃ₄アルキル；Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、ベンジル、−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）又はフェニルであるか；或いはＲ₁とＲ₂は、一緒になって、非分岐鎖状若しくは分岐鎖状のＣ₂〜Ｃ₉アルキレン又はＣ₃〜Ｃ₆−オキサ−若しくは−アザアルキレンであり；Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、各々互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル、ベンジル、−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）又はフェニルであり；Ｒ₃とＲ₄は一緒になって、及び／又はＲ₅とＲ₆は一緒になって、非分岐鎖状若しくは分岐鎖状のＣ₂〜Ｃ₉アルキレンであり；Ａは、Ｃｌ、Ｂｒ、−Ｏ−Ｒ₉、−Ｎ（Ｒ₁₁）（Ｒ₁₂）又は−Ｓ−Ｒ₁₈であり、Ａ′は、−Ｏ−、−ＮＨ−又は−ＮＲ₁₁−であり；Ａ″は、Ｃｌ、Ｂｒ、−Ｏ−Ｒ₉、−Ｎ（Ｒ₁₁）（Ｒ₁₂）又は−Ｓ−Ｒ₁₈又は水素であり、Ｘは、−Ｏ−Ｒ₁₀又は−Ｎ（Ｒ₁₃）（Ｒ₁₄）であり、ｎは、１〜１０の整数、好ましくは１〜４の整数、特には１、２又は３であり；Ｒ₇は、結合基であり；Ｒ₈は、二価のＣ₂〜Ｃ₃アルキレン基である。
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固体表面材料の前駆体である液体組成物は、液状の重合可能な成分および２つの異なる固体粒子の分布を含むことを特徴とし、ポリカルボン酸または塩が加えられ、粒子の沈降を遅延または防止している。 （もっと読む）

本発明の対象は、バインダーＢＭ並びに粒子Ｐを含有する硬化性組成物Ｚであって、前記バインダーＢＭが少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ前記粒子Ｐが、この表面上の少なくとも１つのエチレン性不飽和基を提供可能であり、かつ一般式（Ｉ）
≡Ｓｉ−（ＣＲ^３_２）−Ａ−Ｄ−Ｃ
［前記式中、
Ｒ^３は、水素又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、
Ｒ^４は、水素又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、
Ａは、酸素、硫黄、＝ＮＲ^４又は＝Ｎ−（Ｄ−Ｃ）を表し、
Ｄは、それぞれ１〜１２つの炭素原子を有するカルボニル基、アルキレン残基、シクロアルキレン残基又はアリーレン残基を表し、その際この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、かつ
Ｃは、末端の不飽和基を表す］の残基を有する、バインダーＢＭ並びに粒子Ｐを含有する硬化性組成物Ｚである。 （もっと読む）

本発明は、化学線作用下でエチレン性不飽和化合物と重合を伴って反応する基を含み、任意にイソシアネート反応性基を含んでよい、新規なバインダーの製造方法に関する。本発明はまた、被覆物質としての前記バインダーの使用に関する。 （もっと読む）

本発明の対象は、バインダーＢＭ並びに粒子Ｐを含有する硬化性組成物Ｚであって、前記バインダーＢＭが少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ前記粒子Ｐが、この表面上の少なくとも１つのエチレン性不飽和基を提供可能であり、かつ一般式（Ｉ）
−ＳｉＲ^２_２−（ＣＲ^３_２）_ｎ−Ａ−Ｄ−Ｃ
［前記式中、
Ｒ^２は、−（ＣＲ^３_２）_ｎ−Ａ−Ｄ−Ｃ又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、
Ｒ^３は、水素又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、
Ｒ^４は、水素又は１〜１２つの炭素原子を有する炭化水素残基を表し、
Ａは、酸素、硫黄、＝ＮＲ^４又は＝Ｎ−（Ｄ−Ｃ）を表し、
Ｄは、それぞれ１〜１２つの炭素原子を有するカルボニル基、アルキレン残基、シクロアルキレン残基又はアリーレン残基を表し、その際この炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基、又はＮＲ^４基により中断されていてよく、
Ｃは、末端の不飽和基を表し、かつ
ｎは、１以上の値を表す］の残基を有する、バインダーＢＭ並びに粒子Ｐを含有する硬化性組成物Ｚである。
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本発明は、化学放射線への暴露によりエチレン性不飽和化合物と重合を伴って反応する活性化基を有するポリイソシアネートの低粘度反応生成物、そのような生成物の製造方法、及びそのような生成物の被覆組成物における使用に関する。 （もっと読む）