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国際特許分類[C09J183/05]の内容

国際特許分類[C09J183/05]に分類される特許

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【課題】種々の金属又はプラスチック基材に対して良好な接着性を有する硬化物を与える付加硬化型フルオロポリエーテル系接着剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物:100質量部、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有し、且つアルコキシ基及びエポキシ基を有さない含フッ素オルガノ水素シロキサン:(A)成分のアルケニル基1モルに対してSiH基として0.5〜3.0モルとなる量、
(C)白金族金属系触媒:白金族金属原子換算で0.1〜500ppm、
(D)1分子中にケイ素原子に結合したアルコキシ基を1個以上有する有機ケイ素化合物:0.01〜10質量部、
(E)加水分解触媒:0.001〜5質量部
を含有してなることを特徴とする付加硬化型フルオロポリエーテル系接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】落下に伴う衝撃吸収性と動的防塵性の優れた発泡シール材を提供する。
【解決手段】本発明の発泡シール材は、発泡構造体の少なくとも片面側に、ポリオキシアルキレン系重合体を主成分とする粘着剤層が設けられていることを特徴とする。前記の粘着剤層は、下記の(A)〜(C)の成分を含む粘着剤組成物により形成されていることが好ましい。
(A):1分子中に少なくとも1個のアルケニル基を有するポリオキシアルキレン系重合体
(B):1分子中に2個以上のヒドロシリル基を有する化合物
(C):ヒドロシリル化触媒 (もっと読む)


一時的ウェハー接着のための方法は、硬化性接着剤組成物、及び、この硬化性接着剤組成物と組み合わせた分解剤、を採用する。本接着剤組成物は、(A)ケイ素に結合した不飽和有機基を分子あたり平均少なくとも2個含有するポリオルガノシロキサン、(B)組成物を硬化させるのに十分な量の、ケイ素に結合した水素原子を分子あたり平均少なくとも2個含有する有機ケイ素化合物、(C)触媒量のヒドロシリル化触媒、及び(D)塩基、を含んでもよい。この組成物を硬化させることにより調製されるフィルムは、熱により分解可能であり、及び、除去可能である。 (もっと読む)


【課題】シリコーン接着剤の加熱・硬化時におけるシロキサンガスの発生量を極力低減する。
【解決手段】シリコーン接着剤30は、A)1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有し、ケイ素原子に結合した水酸基とアルコキシ基を有さない、4量体から20量体までの環状シロキサンの含有量が0.1質量%以下であるオルガノポリシロキサンを100質量部、B)1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有し、アルケニル基、ケイ素原子に結合した水酸基とアルコキシ基を有さないオルガノポリシロキサン、C)接着性付与剤を少なくとも0.05質量部、D)熱伝導性充填剤を100〜2000質量部、E)ヒドロシリル化反応用触媒を含み、Bの配合量がA中のアルケニル基1モルに対してケイ素原子結合水素原子が0.5〜10モルとなる量であり、且つ、BとCの合計量が、AとBとCの合計量に対して0.5〜10質量%である。 (もっと読む)


本発明は、硬化性組成物に関する。本発明は、優秀な加工性及び作業性を示し、硬化されて優れた光抽出効率、耐クリック性、硬度、耐熱衝撃性及び接着性を示し、高温及び/または高湿条件での信頼性及び長期信頼性が優秀であり、白濁及び表面のベタツキ(タック性)が防止される硬化物を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】工法や設計を変更することなく、ブリードの発生を抑制することができるシリコーン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るシリコーン樹脂組成物は、可動部を有した微小電気機器システムチップを基板に接着させるためのシリコーン樹脂組成物であって、分子中に少なくとも1つのビニル基を有するオルガノポリシロキサンと、分子中に少なくとも1つのH−Si結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、白金化合物とを含有する一液付加型シリコーン樹脂と、多孔質フィラーとを含有する。 (もっと読む)


【課題】硬化物が柔軟であり、熱エージングによっても硬度変化が小さいシリコーンエラストマーを与え、他のシリコーンエラストマーに対する接着性が高く、優れた硬化特性を備えるシリコーンエラストマー組成物を提供する。
【解決手段】(A)1分子中に平均2個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン(アルケニル基の含有量は0.2質量%未満)、
(B)1分子中に平均2個以上のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン((A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が2.5〜10モルとなる量)、
(C)白金族金属系触媒(所定量)、および、
(D)フタロシアニン化合物((C)成分中の白金族金属1モルに対して5〜50モルとなる量)、
を含むシリコーンエラストマー組成物。 (もっと読む)


【課題】接合される部材の材質によらず、閉空間に収納したデバイスを簡単かつ確実に気密封止することができる封止型デバイスの製造方法、およびかかる封止型デバイスの製造方法により製造された信頼性の高い封止型デバイスを提供すること。
【解決手段】水晶振動子1の製造方法は、ケース2と蓋体4とを用意する工程と、凹部22内に水晶振動片5を収納する工程と、ケース2の接合面231に第1の接合膜31を成膜するとともに、蓋体4の接合面401に第2の接合膜32を成膜する工程と、エネルギーを付与することにより、各接合膜31、32に接着性を発現させる工程と、接合面231と接合面401とが対向するように重ね合わせることにより、凹部22を気密封止し、水晶振動子1を得る工程とを有する。ここで、第1の接合膜31と第2の接合膜32とで成膜パターンが異なっており、それぞれの合成パターンは閉じた枠状を形成するよう構成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの裏面研削時の耐研削抵抗、異方性ドライエッチング工程などにおける耐熱性、メッキやエッチング時の耐薬品性、最終的な加工用支持基板とのスムースな剥離と低被着体汚染性を同時に成立させる、積層型半導体集積装置の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、表面にデバイスが形成された第1の半導体ウエハ1を裏面研削する工程と、前記第1の半導体ウエハ1を、表面にデバイスが形成された第2の半導体ウエハに電気的に接続して積層する工程とを含む積層型半導体集積装置の製造方法であって、前記第1の半導体ウエハを裏面研削する際に、前記第1の半導体ウエハのデバイスが形成された表面と加工用支持基板3とをシリコーン粘着剤2を用いて貼り合せた後、前記第1の半導体ウエハ1の裏面研削をする積層型半導体集積装置の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】(A)1分子中に2個以上のアルケニル基及びフェニル基を有し、ジオルガノポリシロキサンの全有機基のうちフェニル基が1.0〜12モル%で含まれると共に、ジオルガノポリシロキサン100g中にアルケニル基が0.0005〜0.05モルで含まれ、25℃における粘度が100,000mPa・s以上であるジオルガノポリシロキサン100〜80質量部、(B)R13SiO0.5単位及びSiO2単位を含有し、R13SiO0.5単位/SiO2単位のモル比が0.6〜1.7であるオルガノポリシロキサン0〜20質量部、(C)SiH基を3個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、(E)付加反応触媒、(F)有機溶剤を含むシリコーン粘着剤組成物。
【効果】貼り付け時に気泡を巻き込まず、貼付された後には、独りでにずれたりすることなく、貼付されているが、手で容易に剥離することが可能である粘着フィルムの提供。 (もっと読む)


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