【課題】優れた制振性と遮音性を発揮する制振遮音材料を提供する。
【解決手段】ジカルボン酸成分構成単位とジオール成分構成単位からなるポリエステル樹脂(Ｘ)及び平均粒子径が３〜３００μmである比重３．５以上の無機物を含む制振遮音材料であって、ポリエステル樹脂(Ｘ)の全ジカルボン酸成分構成単位数（Ａ₀）と全ジオール成分構成単位数（Ｂ₀）の合計量に対する主鎖中の炭素原子数が奇数であるジカルボン酸成分構成単位数（Ａ₁）と主鎖中の炭素原子数が奇数であるジオール成分構成単位数（Ｂ₁）の合計量の比率[(Ａ₁＋Ｂ₁)／(Ａ₀＋Ｂ₀)]が０．５〜１．０の範囲内であり、ポリエステル樹脂(Ｘ) の割合が１０〜７０質量％であり、平均粒子径が３〜３００μmである比重３．５以上の無機物の割合が３０〜９０質量％であることを特徴とする制振遮音材料。 （もっと読む）

【課題】ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）延伸多孔質膜に、通気性を大きく低下させることなく撥油性を付与する。
【解決手段】撥油剤により被覆された表面を有する多孔質膜を備え、撥油剤に含まれる直鎖状フッ素含有炭化水素基が、１）−Ｒ¹Ｃ₅Ｆ₁₀ＣＨ₂Ｃ₄Ｆ₉、または２）−Ｒ²Ｃ₆Ｆ₁₃により示され、多孔質膜がＰＴＦＥ延伸多孔質膜である、撥油性が付与された通気フィルタとする。ここで、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して、炭素数が１〜１２のアルキレン基またはフェニレン基である。 （もっと読む）

【課題】水を温和な条件でゲル化し、かつ広いｐＨ領域で安定なゲルを形成させるための化合物からなる新規なヒドロゲル化剤の提供
【解決手段】一般式［Ｉ］


［式中、Ｒは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい複素環アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｘは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］で表されるスクアリン酸誘導体を含むヒドロゲル化剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】タンパク質の非特異吸着を抑制することができる薄膜を形成可能な、高感度バイオセンンシング素子の表面修飾材料となる新規化合物を提供すること。
【解決手段】タンパク質の非特異吸着を抑制することができ、かつ薄膜を形成可能な新規化合物であって、高感度バイオセンンシング素子の表面修飾材料として有用な、下記の（化学式１）で表されるメトキシオリゴエチレングリコール−シラン化合物を提供する。


（式中、Ｘ_１〜Ｘ_３はそれぞれ独立してハロゲン、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。ただし、Ｘ_１〜Ｘ_３のうちの少なくとも１つはハロゲン、又は炭素数１〜３のアルコキシ基である。ａは１〜１０の整数である。Ｒは、−（ＣＨ_２）_ｍ−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−を表す。ｍは２〜１０の整数であり、ｎは０〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】従来から知られている塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクターが必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、ｎが０である場合、Ｌ^１は単結合ではない。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は耐熱性に優れ着色性が少なく加工性に優れ、耐水性にも優れた抗アレルゲン剤および抗アレルゲン製品とその加工方法を提供するものである。
【解決手段】酸強度がｐＫａで４．０以下の無機固体酸である、リン酸ジルコニウム、リン酸チタニウムおよびケイ酸マグネシウムよりなる群から選択された少なくとも１つを含有する抗アレルゲン剤 および上記の抗アレルゲン剤を含む抗アレルゲン組成物によって、耐熱性に優れ着色性が少なく加工性に優れ、耐水性にも優れた抗アレルゲン製品を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物から製造されるレジストパターンの側壁部に凹凸が発生する現象、すなわち、パターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の点で、従来の塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物は必ずしも十分に満足できるものではなかった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合、炭素数１〜１０のアルカンジイル基等を表す。環Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環等を表す。Ｒ^１は、保護基により保護されたヒドロキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られるレジスト組成物では、得られるパターンのフォーカスマージンの点で、必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。Ｌ^２は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。環Ｗは炭素数３〜３６の脂肪族環等を表す。Ｒ¹は、アントラセン環、フルオレン環又はフェナントレン環を含む１価の有機基であり、該有機基は置換基を有していてもよい。Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】低いオゾン破壊係数および低い地球温暖化係数（ＧＷＰ）を与え、冷凍、エアコンおよびヒートポンプ装置に使用するため組成物を提供する。
【解決手段】ＨＦＣ−１２３４ｚｅ、ＨＦＣ−１２３４ｙｆまたはＨＦＣ−１２２５ｙｅと少なくとも１つの他の成分を含む組成物を蒸発または凝縮して、冷却を行うか或いは熱を生成させる。ＨＦＣ−１２２５ｙｅおよびアンモニア、ＨＦＣ−１２３４ｙｆおよびアンモニア、ＨＦＣ−１２２５ｙｅ、ＨＦＣ−１５２ａ、およびＣＦ３Ｉ；またはＨＦＣ−１２２５ｙｅ、ＨＦＣ−１２３４ｙｆ、ＨＦＣ−３２およびＣＦ３Ｉを含む組成物などが例示される。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１−５、Ｌ^１−ＣＨ_２−、Ｙは特定の基。］ （もっと読む）