国際特許分類[C09K3/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用 (147,412) | 他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用 (32,573) | 物質であって,他に分類されないもの (8,286)
国際特許分類[C09K3/00]の下位に属する分類
ジョイントまたはカバーを,シールまたはパッキングするためのもの (1,972)
漏れを止めるためのもの,例えば,ラジエーターまたはタンクにおいて (22)
抗スリップ物質;研摩物質 (1,758)
帯電防止物質 (468)
氷,霧,水の付着を減少させるために表面に適用するもの;表面に適用する解氷用あるいは氷点降下用物質 (691)
非化学的用途における,グリセロールの代用物としてのもの,例.トイレットクリームまたは軟膏の基材としてのもの
塵埃落着用または塵埃吸収用のもの (67)
擬氷または擬雪用のもの
エアロゾル用のもの (124)
液体汚染物,例.油,ガソリンまたは脂肪を処理するためのもの (45)
国際特許分類[C09K3/00]に分類される特許
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環境有害物質除去用組成物およびその製造方法
【課題】環境有害物質を含む廃棄物を安価にかつ迅速に処理することができる環境有害物質除去用組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】
リグニン含有バークを栄養源の存在下で醗酵させて得られる腐植酸と、セラミック炭とを含む混合物である環境有害物質除去用組成物である。また、本発明の製造方法は、環境有害物質除去用組成物の製造方法であって、リグニン含有バークを栄養源の存在下で醗酵させて腐植酸を得る工程と、植物性有機資材と粘土とバインダーとを混練後、焼成してセラミック炭を得る工程と、前記腐植酸と前記セラミックス炭とを混合して混合物を得る工程とを含む環境有害物質除去用組成物の製造方法である。
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】酸発生剤として有用な塩、該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法の提供。
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立にフッ素原子等を表す。L1は炭素数1〜17の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Wはヒドロキシル基で置換されたシクロペンタヒドロフェナンスレン環部を有す基を表す。Z+は有機カチオンを表す。]
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新規化合物、近赤外線吸収剤及びこれを含有する合成樹脂組成物
【課題】近赤外線吸収剤として優れたホウ素化合物及びこれを用いた近赤外線吸収剤および該近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収性合成樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるホウ素化合物。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】パターン倒れの少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)式(II)で表される酸発生剤及び(D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。
[式中、R1及びR2は独立に炭化水素基、アルコキシ基等;m及びnは独立に、0〜4の整数;R3及びR4は独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;X1は2価の飽和炭化水素基;R5は環状エーテル構造を含む基;Z1+は有機カチオンを表す。]
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重金属含有廃液処理方法及び廃液処理用重金属除去剤
【課題】海藻成分と貝殻成分とを用いて重金属(特に六価クロム)を低コストで効率的に除去しうる優れた重金属含有廃液処理方法および廃液処理用重金属除去剤の提供。
【解決手段】本発明の重金属を含む処理用廃液に海藻焼成物からなる吸着剤及び貝殻凝集沈殿剤を順次又は同時に添加し撹拌することを特徴とする。前記海藻焼成物の海藻が緑藻綱、紅藻綱又は褐藻綱から選ばれた少なくとも1種であり、前記褐藻綱の海藻が、コンブ目チガイソ科又はコンブ目コンブ科であり、前記コンブ目チガイソ科が、ワカメ、ヒロメ又はコンブ目コンブ科のカジメから選ばれた少なくとも1種である。前記海藻焼成物は、200℃〜350℃で焼成されたものである。
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イソシアネート基呈色溶液
【課題】二液硬化型ポリウレタン系接着剤をインキパンに投入する直前に、ポリイソシアネート成分を加え忘れることを防止するため、イソシアネート基の存在を迅速且つ簡便二確認できる呈色溶液を提供すること。
【解決手段】イソシアネート基が存在する液体に添加することによって自身の色が変色するイソシアネート基呈色溶液であって、少なくとも、塩基性染料と、ジエチレントリアミン(DETA)と、酢酸エチルと、からなり前記塩基性染料をマラカイトグリーンまたはマゼンタまたはメチルバイオレットまたはクリスタルバイオレットのいずれかのトリフェニルメタン系塩基性染料とする。
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式(I)で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。
[式中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基;L1は、2価の炭素数1〜20の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい;Wは、式(W1)〜式(W5)から選ばれる式で表される基;Z1+は有機対イオンを表す。]
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】従来から知られる酸発生剤を含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのCD均一性(CDU)が必ずしも満足できない場合があった。
【解決手段】式(I)で表される塩及びそれを含むレジスト組成物。
[式(I)中、R1及びR2はフッ素原子等を表す。L1は単結合等を表す。Yは置換基を有していてもよい炭素数3〜18の一価の脂環式炭化水素基等を表す。R3、R4、R5、R6及びR7は水素原子等を表す。カチオンのSを含む脂環に含まれるメチレン基は酸素原子等で置き換わっていてもよい。nは、1〜3の整数を表す。sは、0〜3の整数を表す。R8は炭素数1〜6のアルキル基を表す。]
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樹脂成形体の化粧料及び化粧フィルム並びに樹脂成形体及び表面改質方法
【課題】指の引っ掛かりがなく、かつしっとりしたソフトタッチ感(スウェード調)を樹脂成形体に簡便に付与できる化粧料を提供する。
【解決手段】熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリウレタン粒子及びウレタン(メタ)アクリレートを含む化粧料を調製する。前記ポリウレタン粒子は、架橋ポリウレタンで形成され、1MPa以下の10%圧縮強度及び50%以上の変形回復率を有していてもよい。前記ウレタン(メタ)アクリレートと前記熱可塑性ポリウレタンエラストマーとの割合(重量比)が、前者/後者=1/90〜70/30であってもよい。この化粧料は、基材の上に塗布した後に硬化して化粧フィルムとしてもよい。この化粧フィルムは、樹脂成形体の表面を改質するために用いられる。
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指紋消失性材料
【課題】指紋汚れを拭き取るなどの煩雑な操作を行なわなくても、付着した指紋汚れを経時とともに消失させることができ、例えば、金融機関の現金自動預金支払機(ATM)などに使用されているタッチパネルディスプレイなどに好適に使用することができる指紋消失性材料を提供すること。
【解決手段】付着した指紋汚れを経時とともに消失させる性質を有する指紋消失性材料であって、多官能モノマー、吸油性粒子、重合開始剤および油性成分を含有することを特徴とする指紋消失性材料。
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