塗膜付き過炭酸ナトリウム粒子、それらの製造方法、それらの使用及びそれらを含む洗剤組成物。吸湿性の化合物を含む１以上の塗膜層で少なくとも部分的に包囲されている過炭酸ナトリウムコアを含む塗膜付き過炭酸ナトリウム粒子であって、塗膜付き過炭酸ナトリウム粒子が、塗膜なしの過炭酸ナトリウムコア粒子と比較して増大した量の水(０．５質量％未満の初期水含量で，３２℃及び５０％の相対湿度で２４時間貯蔵した後に測定された)であって、塗膜付き過炭酸ナトリウム粒子１kgあたり０．１％以上の水を吸収しうるような量の前記吸湿性の化合物が存在する塗膜付き過炭酸ナトリウム粒子。 （もっと読む）

【課題】従来の塩素系薬剤に代わる、取り扱いが容易で、レジオネラ菌の殺菌力に優れた殺菌洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】リン酸と過酸化水素とを含有し、ｐＨが４.０以下である殺菌洗浄組成物。 （もっと読む）

大環式金属錯体、酸化剤および酸化強化性化合物を含有する酸化系が提供される。この酸化系は、酸化可能な物質を特殊な酸化系と接触させることにより、多種多様な反応条件下で酸化可能な物質の酸化に適している。例えば、過剰の結合されていない染料を繊維材料から着色後に除去する方法における使用が可能になる。 （もっと読む）

洗浄溶液を生成及び分配する方法並びに装置。洗浄溶液は分配装置内で化学物質を反応させることによって生成される。一つの実施態様では、分配装置は触媒又は反応物を収容している導管を有する。前駆体は、導管を通る際、反応して洗浄溶液を形成する。洗浄溶液は次いで、分配される前にタンクに貯蔵される。別の実施態様では、分配装置は洗浄溶液を生成するのに用いられる前駆体を収容している第１の部分と、洗浄溶液を生成するのに用いられる１つ又は複数の反応物若しくは触媒を収容している第２の部分とを有する。分配動作中、第１の部分の内容物が第２の部分の内容物と接触し、それにより、化学反応が生じて洗浄溶液が生成される。いくつかの実施形態では、分配装置の１つ又は複数の部分は移動プラットフォームに載置される。
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【課題】洗浄作用及び消毒作用に優れるとともに、環境負荷が小さく、且つ安全性が高い医療機器用洗浄消毒剤を提供する。
【解決手段】 過酸化水素０．１〜６．０重量％、有機過酸０．１〜２．０重量％、有機酸０．５〜４０重量％を含有してなり、前記有機酸が酢酸と、酒石酸及び／又はマロン酸とからなことを特徴とする医療機器用洗浄消毒剤である。 （もっと読む）

【課題】 電子回路を形成するための基板及び前記電子回路を形成するための製造装置の部品に残留する不純物を除去する洗浄液組成物及びこれを用いた不純物除去方法を提供する。
【解決手段】 前記洗浄液組成物はクエン酸、クエン酸塩、フッ化物塩、フッ酸、過酸化水素水及び過硫酸アンモニウムからなる群から選択された二つの化合物を４〜５０重量％と、残量の水（Ｈ_２Ｏ）とを含む組成を有する。このような組成を有する洗浄液組成物は、電子回路が形成される基板の表面に残留する不純物を除去する工程に適用され、該不純物を構成する物質が基板に再付着する等の汚染を最小化することができる。 （もっと読む）

【課題】自動洗浄機用としての所望のｐＨを有し、次亜塩素酸アルカリ金属塩の安定性、低温安定性、金属イオン封鎖力の安定性、洗浄性に優れるとともに、特に再付着防止性能、仕上がり性およびスケール生成抑制能にも優れた、界面活性剤を含まない自動洗浄機用液体洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】有効成分として（Ａ）トリポリリン酸カリウム０．１〜４０質量％、（Ｂ）トリポリリン酸ナトリウム０．１〜２０質量％、（Ｃ）ＳｉＯ₂ とＫ₂ Ｏのモル比（ＳｉＯ₂ ／Ｋ₂ Ｏ）が０．５〜１のケイ酸カリウム１〜２０質量％、（Ｄ）次亜塩素酸アルカリ金属塩を有効塩素量として０．２〜３質量％を含有するとともに、水を含有する洗浄剤組成物であって、ＪＩＳ Ｚ−８８０２：１９８４に従って０．２質量％に調製された洗浄剤組成物の水溶液の２５℃におけるｐＨが１１以上である。 （もっと読む）

転移性石灰化及び結石は、シュウ酸カルシウムとしての不溶性カルシウム塩又は他の不溶性塩の生成により発生する。カリウム、ナトリウム及び硫黄の塩化物、リュウ酸塩及び硝酸塩の混合物の使用は、可溶性カルシウム化合物及び可溶性のカリウム、ナトリウム及び硫黄塩の形成、及び既に存在する転移性石灰化及び／又は形成された結石の溶解をもたらすだろう。汚れ及びいくつかの色は沈殿塩であり、カリウム、ナトリウム及び硫黄の塩化物、リュウ酸塩及び硝酸塩の混合物の使用は、カリウム、ナトリウム及び硫黄塩の可溶性化合物の形成、及び既に存在する汚れの溶解をもたらすだろう。 （もっと読む）

２成分の系は再石灰化能力と共に知覚鈍麻効果を持つ。系は非発泡、泡状、または発泡性の組成物とすることができる。系は、少なくとも１種の過酸化物と、少なくとも１種のリン酸イオンの源と、少なくとも１種のゲル化剤と含む第１の成分と、少なくとも１種のカルシウム、ストロンチウム、および／またはそれらの混合物の源とを含む第２の成分とを含む。第２の成分はまた、少なくとも１種のゲル化剤を含んでもよく、組成物は泡状、または発泡性としてもよい。組成物は２室シリンジ(two-compartment syringe)に封入してもよい。 （もっと読む）

【課題】中性から塩基性の領域で経時変化がなく、酸化能力の高い半導体基板用洗浄液を提供する。
【解決手段】過塩素酸及び／又は過ヨウ素酸、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、トリアルキル−ヒドロキシアルキルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩及び水を含んでなる半導体基板洗浄液を用いる。さらに金属付着防止剤、キレート剤を含んでもよい。塩素酸及び／又は過ヨウ素酸の含量は半導体基板洗浄液全体の重量を基準にして０．００１〜１０重量％、第四級アンモニウム塩の添加は０．００１〜１０重量％が好ましい。半導体基板洗浄液は中性から塩基性の洗浄液であって、ｐＨ６〜１２、特にｐＨ６〜９に保つのが好ましい。 （もっと読む）