本発明は、漂白剤、漂白活性剤又は漂白触媒から選択される少なくとも１種の成分を含有している漂白系に関し、この漂白系は、少なくとも１つのポリマ−層で包囲されており、このポリマ−はウレタン−及び尿素基を有していることを特徴としている。本発明による漂白系並びにこの漂白系を含有している洗浄剤配合物は、例えば繊維材料又は食器類の洗浄又は清浄化のために好適である。 （もっと読む）

【課題】銅配線を腐食させることなくウエハ基板上の残渣を除去し、硬化したレジストや反射防止膜を容易に除去するための前処理液を提供する。
【解決手段】アミノポリカルボン酸、アンモニウムイオン及び過酸化水素を含有し、さらに過酸化水素の安定剤を添加して、ｐＨを５〜１１に調整した洗浄液を用いてウエハ基板を処理することにより、レジスト剥離液によるレジストの除去または反射防止膜除去液による反射防止膜の除去を容易にする。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ又はスパッタ装置のシールド基材であるアルミニウム又はステンレンスにダメージを与えることなく、シールドに付着した金属チタン、酸化チタン、窒化チタン、金属銅、酸化銅等を除去する。
【解決手段】フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム及びフッ化アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種のフッ素化合物を０．１〜１０重量％、リン酸及び／又はリン酸塩を１〜５０重量％、過酸化水素を０．５〜３５重量％、並びにフッ酸を５重量％以下含有し、残部は水であり、かつ系中のフッ素成分中のフッ素量に対する過酸化水素の重量比（過酸化水素／フッ素）が４以上である半導体製造装置洗浄用組成物を用いて、金属チタン、酸化チタン、窒化チタン、金属銅、酸化銅からなる付着物の少なくとも一種が付着してなる半導体製造装置を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】本発明はレジスト膜の除去力が優れており、薬液疲労度が少ないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】本発明はレジスト除去用組成物に関し、より詳しくは酸素二重結合を有する環状化合物、グリコール系化合物、及びカーボネート系化合物で構成される群より選択される化合物を利用するレジスト除去用組成物に関する。本発明のレジスト除去用組成物はラクトン系化合物、アミン又は有機酸、酸化剤、又はこれらの混合物をさらに含むことができる。本発明のレジスト除去用組成物は電子回路又は表示素子の金属配線をパターンするレジスト除去に使用されて、パターン化された金属膜の上部に残留するレジストを除去する除去力が優れており、高温で揮発に応じた組成変化及び薬液疲労度が微細で、パターン化された金属膜の腐食を最少化できる。 （もっと読む）

【課題】 ｐＨ値が７よりも低く、抗菌及び悪臭の化学的制御の両面で使用され、グラム陰性菌及びグラム陽性菌、イースト菌や水虫菌のような幅広い種類の微生物に対する活性がある洗浄剤組成物及びその使用方法を提供する。
【解決手段】 抗菌剤、第１硫黄結着及び／若しくは酸化剤、並びに任意に第２硫黄結着及び／若しくは酸化剤を含有している洗浄剤組成物であって、前記洗浄剤組成物のｐＨ値は、７若しくは７より低い。 （もっと読む）

【課題】 基板上のＳｉＯ_２表面を洗浄およびエッチングする際に基材の損傷を最小化しながら高平滑度および高光沢に仕上げることのできる改良された洗浄およびエッチング用の組成物を提供する。
【解決手段】 ａ）フッ化物塩、およびｂ）スルフォン酸および／またはスルフォン酸塩を含み、スルホン酸、スルホン酸塩は、スルファミン酸（ＮＨ_２ＳＯ_３Ｈ）、スルフォサリチル酸２水塩（ＨＯ_３ＳＣ_６Ｈ_３（ＯＨ）ＣＯＯＨ・２Ｈ_２Ｏ）、アンモニウムスルファミン酸塩（ＮＨ_４ＳＯ_３ＮＨ_２）、スルフォニルアミド（（ＮＨ_２）Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_２）およびナトリウムスルフォサリチル酸塩（ＮａＯ_３ＳＣ_６Ｈ_３（ＯＨ）ＣＯＯＨ・２Ｈ_２Ｏ）からなる群から選ばれた少なくとも一種とする。 （もっと読む）

【課題】牛のひづめの洗浄と消毒効果が同時に得られるようにし、牛のひづめの汚染部位が清潔に洗浄された状態で消毒されるようにすることによって、牛のひづめ障害の予防を通じて、産乳量及び繁殖率などの生産性の低下を未然に防止し、かつ、淘汰のような極端な状況を避けることができる他、牛の健康と快適性の向上にも大きく寄与することができる牛のひづめ障害予防用の洗足剤及びその使用方法とその製造方法を提供する。
【解決手段】牛のひづめ障害予防用の洗足剤を、牛ひづめについている異物を牛のひづめから除去するためにスズ酸とクエン酸と硫酸亜鉛とモリブデン酸ソーダと硝酸カリウムの各固形分の混合物に水を混合して用意する洗浄液と、異物の除去された牛のひづめを殺菌するための次亜塩素酸ソーダとを混合して製造する。 （もっと読む）

【課題】ウォータースポット形成抑制効果に優れ、貯蔵安定性や貯蔵後の洗浄性能に問題のない自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】陽イオン性基を有するモノマー構成単位及び陰イオン性基を有するモノマー構成単位を含み、モル比〔陽イオン性基の総モル数〕／〔陰イオン性基の総モル数〕が３０／７０〜９０／１０である高分子化合物（ａ）を０．０５〜１０質量％含有する粒子（Ａ）を含有し、且つ前記高分子化合物（ａ）の組成物中の含有量が０．０５〜１．５質量％である自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】安全で環境負荷物質を使用しない洗浄液を用いて効率的に有機物質を除去することができ、被洗浄物に変色やダメージを与えずに、被洗浄物から有機物質を除去する洗浄方法および超音波洗浄用洗浄剤を提供する。
【解決手段】被洗浄物を電解質水溶液に接触させつつ超音波を印加することにより被洗浄物から有機物質を除去する。その電解質水溶液はイオン強度が0.0025ｍｏｌ／ｌ乃至1.0ｍｏｌ／ｌであって溶存酸素濃度が4ｍｇ／ｌ乃至飽和濃度の無機酸塩水溶液またはホウ酸水溶液から成る。印加する超音波の周波数は100乃至400ｋHzである。 （もっと読む）

本発明はガスタービン部品の被膜除去方法に関し、ガスタービン部品の表面から、多層摩耗保護膜を完全にあるいは部分的に除去するガスタービン部品の被膜除去方法に関する。摩耗保護膜は少なくとも一の比較的硬いセラミックの層と少なくとも一の比較的軟らかい金属の層とを有する。本発明によればガスタービン部品は交互に二つの異なった化学槽に浸漬される。第一の槽は摩耗保護膜の比較的硬いセラミックの層専用に用いられ、第二の槽は摩耗保護膜の比較的軟らかい金属の層を除去するために専用に用いられる。 （もっと読む）