国際特許分類[C11D7/18]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく (22,504) | 洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収 (20,192) | 本質的に非表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物 (3,242) | 無機化合物 (841) | 過酸化物;過酸塩 (137)
国際特許分類[C11D7/18]に分類される特許
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マンガン塩及びシュウ酸もしくはそれの塩からなる漂白触媒混合物
マンガン化合物とシュウ酸、それの塩またはそれの誘導体を含む、漂白触媒混合物が特許請求される。シュウ酸の存在によって、漂白触媒としてのマンガン化合物の作用が増強される。 (もっと読む)
四段階の工程で浴槽設備の有機性付着物を洗浄する方法
【課題】水系経路内に付着した有機物固形物を洗浄する方法を提供する。
【解決手段】第一段階の処理方法として、カセイソーダもしくはカセイカリの単品または後述のような浸透性を増加させるための界面活性剤を含有する薬剤を浴槽水に投入し、第二段階の処理として、過酸化水素系の成分の分解による酸素ガスの発生を促進することが可能な重金属系の触媒を洗浄水に投入し、有機物組織内に触媒を沈着せしめる。第三段階の処理として、過酸化水素系成分を添加し、付着物を剥離し、除去せしめる。第四段階の処理として、洗浄水のアルカリを中和し、排水して洗浄を完了する。
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金属製品の浸漬洗浄方法
【課題】金属製品に付着した強固な熱変性油汚れに対して、より優れた洗浄力が簡易に得られる金属製品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】過酸化水素(a)と、エチレンジアミン4酢酸(EDTA)、ジエチレントリアミン5酢酸(DTPA)、ヒドロキシエチレンジアミン3酢酸(HEDTA)、およびこれらのアルカリ金属塩から選ばれる1種以上の化合物(b)と、アルカリ金属珪酸塩(c)とを含有し、(a)と(b)との重量比が(a)/(b)=0.5〜15であるpHが10〜11の液体洗浄剤組成物に、熱変性油汚れが付着した金属製品を浸漬して洗浄する。
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漂白助剤組成物および故紙漂白処理方法
【課題】故紙の漂白に優れた漂白助剤組成物および故紙漂白処理方法の提供。
【解決手段】過酸化水素と併用され、故紙の漂白に使用される漂白助剤組成物において、遷移金属を含む水溶性塩(A)と、特定のアミノカルボン酸(B)とを含有することを特徴とする漂白助剤組成物、および当該漂白助剤組成物を使用する故紙漂白処理方法。前記遷移金属を含む水溶性塩(A)は、コバルト、銅、マンガン、又は鉄を含む水溶性塩であることが好ましい。
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業務用洗濯機のスケール除去剤及び洗浄方法
【課題】業務用洗濯機における浴槽のスケール汚れを効果的に除去するができ、衛生的な洗濯槽を可能とする。
【解決手段】過酢酸などの有機過酸と、クエン酸などのヒドロキシ酸の少なくとも一方を含有する業務用洗濯機のスケール除去剤である。特には、過酢酸と酢酸と過酸化水素を含む水溶液からなるものが好ましく用いられる。また、業務用洗濯機の洗浄方法は、業務用洗濯機の浴槽内に上記スケール除去剤を含む洗浄液を入れて該浴槽を洗浄するものである。洗浄剤として、有機過酸やヒドロキシ酸を用いることにより、業務用洗濯機の浴槽内に付着形成されたスケールを効果的に除去することができる。
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半導体レーザの製造方法
【課題】1チップ内に二つのレーザ構造を有する化合物二波長レーザ製品の製造過程における二回目のエピタキシャル成長前の基板洗浄における不具合を除去し、二回目のエピタキシャル成長時に発生する異常成長を防止する。
【解決手段】1チップ内に赤色と赤外の二つのレーザ構造を有する化合物二波長レーザの製造工程において、二回目のエピタキシャル成長前のGaAs基板1に対する洗浄の際、洗浄液を硫酸97wt%、過酸化水素水30wt%、水、1:1:50〜250の割合で、温度20〜25℃にて20〜50秒処理する。この処理後、純水洗浄を5分以上実施し、乾燥処理した後、二回目のエピタキシャル成長膜4の形成を実施する。
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殺菌・除菌用組成物
【課題】高い殺菌・除菌効果を発揮し、かつ、組成物中の過酸化物の安定性に優れた殺菌・除菌用組成物を提供する。
【解決手段】本発明の殺菌・除菌用組成物は、(a)水に溶解して過酸化水素を発生する過酸化物と、(b)配位座が5以下のキレート剤および/または該キレート剤から生じた陰イオンと、(c)銅化合物と、(d)バインダー化合物と、を含有し、少なくとも前記(c)および(d)が、共に造粒または成型された造粒物または成型物として含有することを特徴とする。
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漂白性組成物
【課題】過酸化水素系化合物の漂白効果を促進でき、保存後でも良好な外観を有する漂白性組成物、及び該漂白性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の漂白性組成物は、下記の(a)、(b)、(c)、(d)を含有し、前記(b)、(c)および(d)が共に造粒または成型された造粒物または成型物として含有することを特徴とする。(a)水に溶解して過酸化水素を発生する過酸化物。(b)配位座が5以下のキレート剤および/または該キレート剤から生じた陰イオン。(c)銅化合物および/またはマンガン化合物。(d)(d−1)平均分子量2500〜10000であるポリエチレングリコール及びエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドのブロックポリマー、および/または(d−2)Griffinの方法により求められるHLB値が16以上である非イオン性界面活性剤、から選ばれるバインダー化合物。
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被覆過炭酸ナトリウム粒子の製造方法
流動層中で硫酸ナトリウムを含有する水溶液を過炭酸ナトリウム粒子に噴霧し、かつ同時に水を蒸発させることによる被覆過炭酸ナトリウム粒子の製造方法において、硫酸ナトリウムを含有する水溶液を製造するために硫酸ナトリウム及び過炭酸ナトリウムを含有するダストが使用される。 (もっと読む)
損傷のない半導体の湿式洗浄のための高い負のゼータ電位の多面体シルセスキオキサン組成物および方法
(a)1以上の金属イオンを含まない塩基;(b)水溶性の金属イオンを含まない多面体シルセスキオキサン;(c)酸化剤;および(d)金属イオンを含まない水を含む、集積回路基板から粒子状物質を除去するための組成物、ならびに(a)、(b)、(c)および(d)を含む成分を組み合わせることよって得られる組成物。(a)、(b)、(c)および(d)を含む組成物を表面に付与する工程、または(a)、(b)、(c)および(d)を含む成分を組み合わせることによって得られる組成物を表面に付与する工程を含む、集積回路デバイスの表面から粒子状物質を除去するための方法。 (もっと読む)
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