【課題】コロイダルシリカ等の研磨材に由来する微粒子汚れを高い清浄度で除去できる、ハードディスク基板用の洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法の提供。
【解決手段】ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、アルカリ金属の水酸化物（Ａ）と、遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）と、キレート剤（Ｃ）と、過酸化物（Ｄ）とを含有し、かつ、前記キレート剤（Ｃ）の割合は、前記遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）に対して０．５モル当量以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】手洗いにより繊維製品を漂白洗浄する際に、より高い漂白洗浄効果が得られる漂白方法を提供する。
【解決手段】（ａ）平均分子量１５０万以上の曳糸性を有する有機ポリマー１０〜１５００ｐｐｍ、（ｂ）過酸化水素５０〜１００００ｐｐｍ、及び水を含有するｐＨが７〜１１の漂白洗浄液を用いて繊維製品の漂白洗浄を行う、繊維製品の漂白洗浄方法。 （もっと読む）

本発明は、安定化させた過酸組成物を対象にする。金属塩およびキレート剤を含む安定化組成物は、過酸を含む組成物に加えられる。生じた安定化させた過酸組成物は、増加した保存期間および貯蔵安定性を有する。
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【課題】光触媒及びアパタイト複合体並びにシクロデキストリンの効果により、優れた洗浄効果を発揮するとともに、二酸化ケイ素により水分の吸収による光触媒の効果低減と粉末団結を防ぐことができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】洗浄剤を、光触媒及びアパタイト及び二酸化ケイ素、若しくは光触媒とアパタイトの複合体粒子及び二酸化ケイ素、若しくは光触媒と二酸化ケイ素の複合体粒子と、シクロデキストリン粒子と、を含有する粉末とする。 （もっと読む）

【課題】低ｋ誘電体材料又は銅相互接続材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのＣＭＰ後の残渣及び汚染物質材料を効果的に洗浄を達成すること。
【解決手段】化学的機械的研磨（ＣＭＰ）後の残渣及び汚染物質を、自身上に前記残渣及び汚染物質を有するマイクロ電子デバイスから洗浄する洗浄組成物及びプロセス。洗浄組成物は新規の腐食防止剤を含む。 （もっと読む）

例えば、消毒剤および／または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水性調合物を酵素的に生成するための多成分ペルオキシカルボン酸発生システムが本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸発生システムは、過加水分解活性を有する少なくとも１つの炭水化物エステラーゼ族７酵素を含む。 （もっと読む）

【課題】生体適合性材料の表面から生体物を洗浄することで、その再使用や清浄化を行えるようにすることを目的とする。
【解決手段】生体適合性材料の表面浄化方法は、リン酸系生体適合化合物の耐熱温度未満に加熱したアルカリ水溶液からなる洗浄液中に浸漬させた後、当該表面を酸素雰囲気中に暴露しながら、紫外線を照射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】オゾン処理により、野菜類の殺菌および鮮度保持のいずれも優れた効果が得られるオゾン酸化促進剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）［式（１）中、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３は、それぞれ独立して一般式（２）で表される基又は水酸基を示す。ただし、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３のうちの少なくとも１つは一般式（２）で表される基である。式（２）中、Ｒは、炭素数１〜９の炭化水素基を示す。］で表される化合物（Ａ）と、分子量が１００以上で、かつ、２５℃の水溶液における酸解離指数（ｐＫａ）が３以上である酸（Ｂ）と、水とを混合してなることを特徴とするオゾン酸化促進剤。
［化１］
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この発明は、イオン性液体を含むチューイングガム改変組成物を用いて基材からチューイングガムおよびその残滓を除去するための方法に関する。一実施形態において、チューイングガム改変組成物は、１種または複数の酸化試薬と共に用いられ得る。別の実施形態において、チューイングガム除去組成物は、１種または複数の酵素および１種または複数の酵素メディエータ化合物をさらに含む。本発明は、さらに、チューイングガム残滓の除去における使用に好適である新規なイオン性液体および酵素組成物に関する。 （もっと読む）

過酸素化合物を含む洗濯洗剤及び洗浄剤、特に硬質表面用の洗浄剤中でのマンガン−オキサレート類の使用が特許請求される。 （もっと読む）