【課題】この発明は、水に注入する薬剤を取り間違えることなく、確実に洗浄効果のある洗浄水を生成できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の洗浄システム１は、洗浄水１０３を生成する洗浄水生成装置１０の本体１０ａに、低臭素酸次亜塩素酸ナトリウム水溶液１０１を貯蔵する第１タンク１１と、粉末状の酢酸ナトリウムを水に溶かして構成する酢酸水溶液１０２を貯蔵する第２タンク１２と、低臭素酸次亜塩素酸ナトリウム水溶液１０１及び酢酸水溶液１０２を注入する注入ポンプＰ１，Ｐ２と、注入ポンプＰ１，Ｐ２の注入を制御する洗浄制御部ＣＰＵとを備え、第１タンク１１を本体１０ａの下方位置に配置し、第２タンク１２を本体１０ａの上方位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】研磨で生じる砥粒や研磨カスの残留を防止又は除去することによって基板表面に表面欠陥（スクラッチ、ピット）がなく、砥粒や研磨カスのないメモリーハードディスク基板を製造するためのリンス剤組成物、及び該リンス剤組成物を用いたメモリーハードディスク基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】水及び過酸化水素を含んでなるメモリーハードディスク基板用のリンス剤組成物、並びに該リンス剤組成物を用いて基板をリンスする工程を有するメモリーハードディスク基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安価な装置によって過硫酸水溶液を製造することができるウェハ洗浄液の製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】陰極２に最も近接してバイポーラ膜５が配置され、陰極２とこのバイポーラ膜５との間に陰極室６が形成されている。このバイポーラ膜５から陽極に向ってカチオン交換膜４とバイポーラ膜５とがこの順に交互に配列されている。陽極５に最も近接してバイポーラ膜５が配置されている。１対のバイポーラ膜５の間に配置されたカチオン交換膜４の陰極２側にカチオン移動室７が配置され、該カチオン交換膜４の陽極３側に処理室８が形成されている。循環用タンク１５内の過硫酸塩水溶液は、ポンプ１６及び配管１１を介して各処理室８に供給される。 （もっと読む）

本発明は液体の生産に使用する処理設備を洗浄する方法に関し、特に、例えば膜フィルタを洗浄する方法に関する。設備にペルオキシ二硫酸塩を接触させる。洗浄工程は１５℃〜９５℃の温度で実施するのが特に好ましい。 （もっと読む）

本発明は、エチレンジアミンジコハク酸１モルに対し、少なくとも１．６モルのアルカリ土類金属を含む、エチレンジアミンジコハク酸の塩を提供する。本発明の塩は、過酸化水素を含み安定性が向上した組成物を提供するために有用であることが見い出されている。
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本発明は、水不溶性ポリマー性崩壊剤を含有する非発泡性処方である歯科装置洗浄剤に関する。 （もっと読む）

本発明は、効果的に過酸水溶液を生成するペルヒドロラーゼ酵素、過酸化水素源及びエステルの基質を含む安定な組成物を提供する。生成された過酸の溶液は病原体又は毒性のある化学物質により汚染された広い範囲の材料と装置の汚染除去及び/又は消毒に適している。一の好ましい実施態様では、この安定な組成物はアシル基転移酵素、過炭酸ナトリウムとプロピレングルコールジアセテートを含み、30日以上安定である。水に加えたとき、この組成物は活性化され、過酢酸対酢酸の高い比率をもつ水溶液を生成する。
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本発明は、溶液１リットル当たり０.１〜７ｍｏｌの除染剤、剥離剤、脱脂剤のうち、少なくとも1種類以上の薬剤と、
その溶液の全重量に対して、０.０１〜２５重量％の固形安定化剤と、
によって構成された発泡性水溶液から形成される安定な発泡体に関する。
また、本発明は、前記安定な発泡体の調合の方法、表面の除染処理、剥離処理、脱脂処理のうち少なくとも1つの処理をするための安定な発泡体の使用の方法、および、表面の除染処理、剥離処理、脱脂処理のうち少なくとも1つの処理の方法に関する。 （もっと読む）

【課題】
半導体集積回路、液晶パネル、有機ELパネル、プリント基板等、特にチタンおよび／又はチタン合金を含有する配線基板で、ドライエッチング後に残存するレジスト由来の残渣物および/または銅やアルミニウムなど金属由来の残渣物を、チタンおよび/又はチタン合金を腐食することなく除去することが出来る残渣除去用組成物を提供する。
【解決手段】
(1)15重量％〜20重量％の過酸化水素、(2)0.1重量％〜10重量％の四級アンモニウム水酸化物、(3)0.05〜5重量％の無機酸、(4)0.0001重量％〜0.1重量％の過酸化水素の安定剤を含有し、pHが8〜9である残渣除去用組成物を使用する。 （もっと読む）

（ａ）水と、（ｂ）アルカリ性ｐＨの最終調合物を産生するのに十分な量の、少なくとも１つの無金属イオン塩基と、（ｃ）少なくとも１つの水溶性無金属イオンケイ酸塩腐食防止剤約０．０１〜約５重量％（％ＳｉＯ_２として表される）と、（ｄ）少なくとも１つの金属キレート剤約０．０１〜約１０重量％と、（ｅ）少なくとも１つのオキシメタレート０超〜約２．０重量％とを含む、高アルカリ性水性調合物が本発明によって提供される。このような調合物は過酸化物と化合されて、ペルオキシメタラートが形成され、マイクロ電子洗浄組成物が産生される。マイクロ電子デバイス、たとえばマイクロ電子基材から汚染物質および残留物を除去するために使用される。 （もっと読む）