【課題】搬送時にも基板を清浄に保つことができる技術を提供する。
【解決手段】
搬送槽１１０とゲートバルブ３３の間に二重オーリング１１５ｂ、１１６ｂを配置し、二重オーリング１１５ｂ、１１６ｂの間の密閉空間８０ｂに真空排気系３３９を接続し、密閉空間８０ｂを真空排気する。密閉空間８０ｂ内に大気が浸入しても真空排気によって除去されるので搬送槽１１０内に大気が浸入せず、搬送槽１１０内を高真空状態に置ける。ＭＲ比の大きいトンネル接合磁気抵抗効果素子を作成することができる。 （もっと読む）

【課題】清浄で、パーティクルの堆積状態及び基板の表面状態が制御された状況下においてカーボンナノチューブの成長を実行し、カーボンナノチューブの成長制御やその電気的応用を容易にする。
【解決手段】形成装置は、触媒となるパーティクルを生成する発生手段２１と、生成されたパーティクルを所望の粒径に分級する分級器２２と、パーティクルを基板２０上に堆積させるチャンバー２３と、堆積したパーティクルを触媒としてカーボンナノチューブを生成するチャンバー２４とを含み、パーティクルの生成からカーボンナノチューブの生成までの一連のプロセスを外気から遮断された所定雰囲気の環境内で連続して実行する。 （もっと読む）

【課題】従来装置では、成膜、リークを繰り返すにつれ、防着板壁に堆積する膜も厚くなり、吸着ガスの量も増加していくため、防着板のホーニング直後と成膜を繰り返した後とでは、成膜された薄膜の膜質が変化し、成膜のバッチ間にばらつきが生じるという問題や、防着板に付着・堆積した膜が剥離してゴミとなり、真空容器内に飛散して被成膜基板の表面に付着し、不良が発生するという問題や、生産性が低下するという問題があった。
【解決手段】真空容器１内に設けられ被成膜体を蒸発源に対向保持する保持治具３と、真空容器内に沿って設けられた防着部材４とを備えたものにおいて、防着部材として、蒸発源２の側面外方部から保持治具の側面外方部にわたって包囲すると共に真空容器の内壁面から離間され、かつ真空容器の中心部側から内壁面に向けて斜め下方に傾斜した複数の羽板部材４１を用いて構成した。 （もっと読む）

【課題】内部応力が大きい薄膜を成膜する際にも、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑えるとともに、微細なダストの発生を抑制することを可能にした真空成膜装置用部品を提供することを目的とする。
【解決手段】部品本体と、前記部品本体の表面に形成された溶射被膜とを具備する真空成膜装置用部品であって、前記溶射被膜は、平均粒子サイズが５μｍ以上、１５０μｍ以下の扁平形状とは異なる形状の粒子を含む組織を有し、密度が７５％以上、９９％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】材料処理システムをモニタするための改良された装置及び方法を提供する。
【解決手段】材料処理システムは、処理ツールと、状況データを生成すると共に送信するために処理ツールに結合された複数のＲＦ応答性状況センサ１９０と、複数のＲＦ応答性状況センサから状況データを受信するためのセンサインターフェースアセンブリ（ＳＩＡ）１８０とを含む。
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【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により室温で洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、マスク１０を所定のリンス液により室温でリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、重力を起因とする応力によってマスク１０の金属薄膜に損傷を生じさせないように、水平以外の所定の角度を以って当該マスク１０を保持し、当該所定の角度を以って保持された当該マスク１０を第１及び第２の洗浄槽２１，２２及び第１及び第２のリンス槽５１，５２へ搬送する搬送装置２４０と、を備える。ここで、搬送装置２４０は、最初に水平な状態でマスク１０を保持した後、当該マスク１０を保持したまま、垂直方向に起き上がり、上記所定の角度を以って当該マスク１０を保持する。 （もっと読む）

【課題】 半導体分野で有用な酸化ハフニウム、酸化珪素ハフニウム、酸化アルミニウムハフニウム等のハフニウム酸化物を成膜する装置において、内壁、冶具等の反応器内部に堆積したこれらの不要な酸化物を除去するクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 反応器内部に堆積した不要なハフニウム含有酸化物を除去するに際し、ヘキサフルオロアセチルアセトンと、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、Ｆ_２、Ｃｌ_２、Ｂｒ_２、Ｉ_２、またはＣｌＦ_３とを少なくとも含む混合ガスで反応除去する。 （もっと読む）

本発明は、薄膜形成装置、すなわち、たとえば半導体ウエハまたは液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造プロセスにおいて基板に様々な材料からなる薄膜を形成するための装置に関する。薄膜形成装置は、薄膜が形成される基板を搭載するための基板支持体と、基板支持体を取り囲んで適切な作動条件を有するチャンバを備える。さらに、インジウム、錫、鉛、あるいはアンチモンなどの延性金属材料を金属または合成樹脂母材に塗布することにより構成される吸着手段を、薄膜形成装置内の基板を除く部品表面に付着する。したがって、構成要素表面に形成された後、そこから剥離した不要な薄膜の一部分が基板に付着することにより生じる薄膜形成不良を根本的に防ぐことができる。
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【課題】成膜空間を大気開放することなく基材の脱着を行うことが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】 互いに分離及び接合可能に構成され、接合により気密な内部空間を有する殻体を形成する第１の部分２０及び第２の部分２Ｂと、第１の部分２０の内部に成膜空間を区画するように第１の部分２０に配設され、その開閉により該成膜空間を開放及び閉鎖するゲート１と、前記成膜空間に位置するように第１の部分２０に配設された膜材料蒸発装置２１と、成膜されるべき基材が取り付けられる基材取付装置６，８と、第２の部分２Ｂに配設され、第２の部分２Ｂが第１の部分２０と接合されかつゲート１が開いた状態でゲート１を通って基材取付装置６，８を前記成膜空間に進出させかつ前記成膜空間から退却させる進退駆動装置３と、第１の部分２０及び第２の部分２Ｂの内部空間をそれぞれ排気する第１及び第２の排気装置２２，１０と、を備えている。 （もっと読む）