【課題】 低コストで信頼性の高い真空処理装置を提供する。
【解決手段】 ２つの真空容器２０３，２０４の間に配置され各々を連通して一方から他方に処理対象の試料が搬送される封止されたゲート１１０と、このゲートの経路上に配置され第１の開口２０５および第２の開口２０６の各々に面する第１の弁体２１０ａおよび第２の弁体２１０ｂとこれら弁体が連結されたシャフト２１１とを有して前記開口の各々を選択的に開閉するゲートバルブ２０８とを備えた真空処理装置であって、ゲートバルブ２０８は、２１１シャフトの他端側に連結されシャフトをその軸の方向に移動させる軸方向駆動部３０１と、シャフト２１１の一端側と他端側との間に配置されシャフト２１１の軸と交差する所定の回転軸２０７の周りにシャフトを回転させる回転駆動部２１３とを有し、シャフト２１１の軸方向について回転軸２０７と他端との間のシャフト上の部位に回転させる力が伝達される。 （もっと読む）

【課題】 有機物の基板への付着を防いだ良質な薄膜を提供する。
【解決手段】 基板１を処理室１２に導入し処理する際，２段のロードロック室１０，１１を介して導入する。１段目のロードロック室１０は大気圧のまま不活性ガス雰囲気に置換する。２段目のロードロック室１１は，ベーキングヒータ２０を有している。内壁に有機物５が付着した状態で減圧すると，内壁の有機物５が脱離し基板１を汚染するが，有機物５の付着していない２段目のロードロック室１１内で減圧することにより，基板１への有機物５の付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】 特別の設備を必要とせずに、プロセスチャンバ内部の被メンテナンス部品をプロセスチャンバに装着した状態で、この被メンテナンス部品に付着した被膜材料を被メンテナンス部品から適切に剥離可能な真空成膜装置のクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 内部を減圧可能なプロセスチャンバ１１と、前記プロセスチャンバ１１の内部に配置された被メンテナンス部品１３、２１と、を備え、第１の減圧状態にある前記プロセスチャンバ１１の内部においてワーク１４に所定の被膜材料からなる被膜を形成する真空成膜装置１００のクリーニング方法は、前記被膜材料が付着した被メンテナンス部品１３、２１を前記プロセスチャンバ１１の内部に装着させた状態で実行される、前記プロセスチャンバ１１の内部を第２の減圧状態にした減圧工程と前記第２の減圧状態にある前記内部に空気を導入する大気開放工程とを含む方法である。 （もっと読む）

【課題】 従来、事実上不可能であった、または極めて実現困難であった単体としての薄膜の形成を、簡便に実施することのできる薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の薄膜の形成方法では、基板１上に基準温度以上において粘着力を喪失する接着層２と薄膜３とを順に積層したのち、自らの基準温度以上となるように接着層２を加熱することにより、この接着層２から薄膜３を分離するようにする。このため、各種溶剤を用いて接着層２を溶解除去する場合のように接着層２の厚みや表面積に依存することもなく、容易かつ短時間で単体としての薄膜３を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 薄膜製造装置、特に、真空蒸着膜形成装置等の半導体製造装置やフラットパネルディスプレイ製造装置等の装置内部は、パーティクル等による汚染を有効に防止するため、溶射皮膜の形成、及び溶射膜に封孔処理が行われるが、膜形成時に発生するプラズマなどの影響によるパーティクルの発生を十分に低減できないという問題があった。薄膜製造装置の真空特性の低下を解決するとともに、パーティクルの発生の低減を効果ならしめる薄膜製造装置用部材の表面処理方法及び該部材を提供することである。
【解決手段】 基材表面に溶射皮膜を形成し、得られた溶射皮膜の気孔にリン酸アルミニウムを含浸させて、溶射皮膜の封孔処理を行うことを特徴とする薄膜製造装置用部材の表面処理方法並びに該方法により得られる薄膜製造装置部材を提供する。
（もっと読む）

【課題】基板の大型化に対応するための垂直移動型有機物蒸着装置において、蒸着源から噴射される有機気相物質が真空チャンバ内で飛散して蒸着源を上下方向に移動させる駆動軸に付着することを防止することができる蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置及びこれを具備した蒸着システムを提供する。
【解決手段】蒸着システムの真空チャンバに設置された駆動軸に結合する結合部と、連結部を介して前記結合部に連結されて前記真空チャンバで有機気相物質を噴射する蒸着源を支持する支持板を有して前記連結部には貫通口が形成されている支持体；と、前記駆動軸を取り囲んで前記支持体が前記駆動軸にしたがって移動可能になるように一側面が開放されているビーム；と、前記貫通口を貫通する遮断板；とでなる蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 ＡＤ法を用いて、高温プロセスを経ることなく結晶性の良い膜を作製できるセラミックス膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 この製造方法は、エアロゾルを利用したセラミックス膜の製造方法であって、非結晶性の成分を含有するセラミックス原料粉をガスに分散させることによってエアロゾルを生成する工程（ａ）と、工程（ａ）において生成されたエアロゾルを基板が配置されたチャンバ内に供給して、上記セラミックス原料粉を基板に堆積させることにより膜を形成する工程（ｂ）とを含む。 （もっと読む）

基板処理チャンバのコンポーネントは、プロセスチャンバ内の活性化されたガスに露出されうる。このコンポーネントは下地の構造及び第１、第２のコーティング層を有する。第１のコーティング層は下地の構造の上に形成され、約２５マイクロメーター未満の平均表面粗さを有する第１の表面を有する。第２のコーティング層は第１のコーティング層の上に形成され、少なくとも約５０マイクロメーターの平均表面粗さを有する第２の表面を有する。プロセスの残渣物は、処理される基板へのコンタミネーションを低減するために、第２のコーティング層の表面に付着しうる。

（もっと読む）

【課題】堆積の際に最も外側の堆積層の酸化を回避する、コールドスプレーを用いて一つまたは複数の堆積層を基体上に形成する方法が提供される。
【解決手段】金属材料を基体（１０）上に堆積させる方法は、基体（１０）を真空チャンバー（５２）内に配置し、スプレーガン（２２）ノズル（２０）を真空チャンバー（５２）のポート（５０）内へ挿入し、粉末状金属材料を溶融させずに粉末状金属材料を基体の表面（２４）上に堆積させる、ステップを含む。堆積ステップは、衝突の際に粉末状金属材料の粒子が塑性変形しかつ基体（１０）の表面（２４）に結合するように、真空チャンバー（５２）内で粉末状金属材料の粒子を所定の速度に加速することを含む。 （もっと読む）

【課題】 真空圧発生装置及びこれを有する薄膜加工装置を提供する。
【解決手段】 真空圧発生装置は、真空圧発生ユニット及び安定化モジュールを含む。真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して、工程領域に真空を形成する。安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させるために、流体の通過経路が屈曲するように構成される少なくとも２つの流体通路を有する。工程領域内の流体を屈曲した流体通路を通じて排気することで、工程領域内の真空圧の均一性を向上することができる。 （もっと読む）