【課題】 アルミニウムフレークを用いた光輝性顔料に代わり、電気クロムメッキに近い外観を有し、明るさおよび色調を調整する必要がある新しい顔料のニーズにも対応でき、優れた耐食性および耐薬品性を有する塗膜を得ることができる耐食光輝性顔料を提供する。
【解決手段】 得られるフレーク状合金片において、５５０ｎｍの波長の光における表面反射率が１０％〜９５％となるように、Ｓｎと、Ｃｕ、Ｃｒ、ＴｉおよびＮｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属とからなる合金膜を、乾式成膜法を用いて、基板の表面に形成し、前記基板から該合金膜を剥離し、該合金膜を粉砕することにより、フレーク状合金片を得る工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 シールドの温度を、略スパッター堆積材料の温度まで加熱して非処理面に堆積するスパッター堆積材料中の不利な引張応力をなくすこと。
【解決手段】 シールド４６からおよび、バイアスのかかったターゲットと周囲の接地部材との間のアークからの剥離による粒子の発生を低減または防止する構成を有する、ＰＶＤ真空プロセスチャンバ３０内のシールド４６を開示する。シールド４６は「ｈ」形断面を有し、「ｈ」形断面の下部アーチは、シールド４６をスパッター堆積材料の温度にほぼ等しい温度にまで加熱するヒーター組立体に面する。シールド４６の表面には、真空の初期吸引時にＨ₂ Ｏの放散を促進するため、研磨を施す。シールド４６の内面（ヒーター組立体に面する）には、より多くのエネルギを保持して加熱効率を高めるため、表面放射率係数が外面より大きくなるように処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 容積の大きい真空チャンバを、陸路による搬送に便利であり、また、別個の補強手段を必要としない構成とする。
【解決手段】 本発明の真空チャンバ１は、内部に処理空間１１が形成された多面体のチャンバ本体１２を備え、そのチャンバ本体の少なくとも一面に処理空間に通じる開口を形成し、この開口を覆って処理空間の真空状態の保持を可能とする密閉手段１３ａ、１３ｂを装着して構成される。この場合、チャンバ本体は複数のチャンバ片１２ａ、１２ｂから構成され、各チャンバ片の接合面の少なくとも一側に、この接合面から延出させてフランジ部１５ａ、１５ｂをそれぞれ形成し、相互に向かい合う各フランジを接合して組付けられる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理中に温度が過度に増加せず、リングの洗浄中に過度に腐食されず、基板処理中に過度に高い温度勾配の形成を減少させ得る基板リングを提供する。
【解決手段】基板リングアセンブリ２０は、周辺エッジ部３０を有する基板支持体２２を備えている。アセンブリ２０は、内部周囲が基板支持体の周辺エッジ部３０を囲み且つ少なくとも部分的に覆っている環状バンド２６を有する。アセンブリ２０は、また、環状バンド２６を基板支持体の周辺エッジ部３０に固定するクランプ３４を有する。 （もっと読む）

【課題】真空容器１全体としての材料コストの低減を図る。
【解決手段】 容器本体３は、内部が真空ポンプ５に接続可能であって、容器本体３の一側に開口部７が形成され、容器本体３に開口部７を開閉する蓋部材９が着脱可能に設けられ、蓋部材９に、真空ポンプ５の排気作動によって容器本体３の内部を真空状態にしたときに、大気圧による外力を容器本体３の内側から受けるサポート部材１７が設けられたこと。 （もっと読む）

構成部品に形成された付着膜ｄを従来よりもさらに短時間で剥離し、洗浄液Ｓによるダメージを軽減することが可能な構造を有する成膜装置用構成部品及びこの構成部品の洗浄方法。上記構成部品の母材金属１よりも電気化学的に卑な金属膜層２を溶射、蒸着、スパッタリング、ラミネート等の方法により、母材金属１の表面に形成し、あるいは上記母材金属１よりも電気化学的に貴な第２金属膜層３を上記溶射等の方法により、金属膜層２の表面に形成することにより、金属膜層２が母材金属１もしくは第２金属膜層３との間で局部電池が形成され、母材金属１自体は洗浄液Ｓによるダメージを受けずに、極めて短時間で母材金属１に堆積した付着膜ｄを剥離することが可能となった。
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本発明は、プラズマを用いて機能要素の化学的に官能化された表面および／または界面を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】この発明は、高輝度であり、長寿命の無機薄膜EL素子を提供することにある。
【解決手段】 ガラス基板上に透明導電膜を備え、該透明導電膜の上に第一の絶縁層膜を備え、該第一の絶縁層膜の上に、無機発光物質を含む発光層膜を備え、該発光層膜表面を覆い形成された第二の絶縁層膜を備え、該第二の絶縁層膜の上に背面電極を備えた無機薄膜ＥＬ素子において、該発光層膜の膜組織がランダムに配向した平均結晶粒径１００ｎｍ以下の微小結晶からなっており、膜の密度が９５％以上であることを特徴とする無機薄膜ＥＬ素子とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクや真空槽内部に付着した有機物や無機物を、真空槽を開放することなくイオンビームを照射することにより容易に除去できる極めて生産性に秀れた成膜装置を提供することである。
【解決手段】 マスク１が積層される基板２と、この基板２上に前記マスク１を介して成膜材料を付着させることで所望のパターンの薄膜を成膜する材料蒸発源３とが設けられる真空槽４を有する成膜装置であって、前記基板２に積層されるマスク１若しくは真空槽４内部にイオンビームを照射することで、このマスク１若しくは真空槽４内部に付着した有機物若しくは無機物を除去するイオンビーム源５を備え、前記真空槽４を大気開放することなくマスク１若しくは真空槽４内部にイオンビームを照射し得るように構成したものである。 （もっと読む）

【課題】基板の一面側に形成された金属部材のバンプ形成箇所のみに、金属微粒子とキャリアガスとを噴射して金属微粒子を堆積するガスデポジション法によって微細バンプを安定して形成し得る微細バンプの形成方法を提供する。
【解決手段】基板１０の一面側に形成されたパターン１２を覆うマスク層としての樹脂層３０に、パターン１２のバンプ形成箇所が底面に露出する底面径が樹脂層３０の表面に開口する開口径よりも大きい逆テーパ状の凹部３４を形成した後、凹部３４の底面に露出するパターン１２のバンプ形成箇所に、金属を蒸発させて得られる金属微粒子をキャリアガスと共に搬送してノズル２５から噴射して堆積するガスデポジション法によって円錐状のバンプ１４を形成し、次いで、樹脂層３０を剥離することを特徴とする。 （もっと読む）