洗浄装置
【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置に関し、特に、有機ＥＬ用の有機材料の蒸着工程において、マスクに付着した有機材料を除去する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：以下、「有機ＥＬ」と略称する）素子を用いた有機ＥＬ表示装置が、ＣＲＴやＬＣＤに代わる表示装置として注目されており、例えば、その有機ＥＬ素子を駆動させる駆動用薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：以下「ＴＦＴ」と略称する。）を備えた有機ＥＬ表示装置の研究開発も進められている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、例えば、ＩＴＯから成る陽極、ＭＴＤＡＴＡ（４，４−ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ）等の第１ホール輸送層及びＴＰＤ（４，４，４−ｔｒｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｎｉｎｅ）等の第２ホール輸送層から成るホール輸送層、キナクリドン（Ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）誘導体を含むＢｅｂｑ２（１０−ベンゾ〔ｈ〕キノリノール−ベリリウム錯体）から成る発光層、Ｂｅｂｑ２から成る電子輸送層、及びアルミニウム合金等から成る陰極が、この順番で積層形成された構造を有する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子は、有機ＥＬ素子を駆動させる駆動用ＴＦＴを介して電流が供給されることによって発光する。即ち、陽極から注入されたホールと、陰極から注入された電子とが発光層の内部で再結合し、発光層を形成する有機分子を励起して励起子が生じる。この励起子が放射失活する過程で発光層から光が放たれ、この光が、透明な陽極及びガラス基板等の絶縁性基板を介して外部へ放出されて発光する。
【０００５】
上述した有機ＥＬ素子の各層のうち、ホール輸送層、発光層、電子輸送層の形成に用いられる有機材料は、耐溶剤性が低く、水分にも弱いという特性がある。そのため、半導体プロセスにおけるフォトリソグラフィ技術を利用することができない。そこで、例えば金属薄膜から成るマスク（いわゆるシャドウマスク）を用いた蒸着法により、上記有機材料を、駆動用ＴＦＴを備えた絶縁性基板上に選択的に蒸着して、有機ＥＬ素子のホール輸送層、発光層、電子輸送層及び陰極のパターン形成を行っていた。
【０００６】
そのような有機材料の蒸着の際に用いるマスクの一例を、図１５乃至図１７に示す。図１５は、従来例に係る有機ＥＬ用のマスクを説明する上面図である。また、図１６は、図１５のＸ−Ｘ線に沿った断面図であり、図１７は、図１５のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図１５乃至図１７に示すように、マスク１０は、例えば縦横各数ミクロンメートル程度の複数の微細な孔１１を有した例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）等の金属薄膜から成る。これらの孔１１を通して、上記有機材料が絶縁性基板上に選択的に蒸着される。
【０００７】
また、上記金属薄膜から成るマスク１０は、例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）から成る金属フレーム１２に固定されており、当該マスク１０の縁が、当該金属フレーム１２により支持されている。また、金属フレーム１２の縁には、当該金属フレーム１２を保持するための複数の係止部１３が形成されている。以下、金属フレーム１２に固定されたマスク１０を、「マスク１０」として略称する。
【０００８】
なお、関連する技術文献としては、例えば以下の特許文献が挙げられる。
【特許文献１】特開２００４−１０３２６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
有機ＥＬ素子が、カラー表示に対応して、３原色の赤色，緑色，青色の各発光層を有する場合、有機材料の蒸着工程は、一般に、各色用のマスクを繰り返し用いて行われる。そのため、繰り返される蒸着の回数が多くなるに従って、マスク１０の表面には有機材料が幾層にも積層するようにして付着する。即ち、図１８に示した有機材料が蒸着されたマスクの断面図に示すように、有機材料１は、マスク１０の表面上のみならず、本来ならば有機材料１を通過させるべき複数の孔１１を塞ぐようにして、孔１１の周縁にオーバーハング１ａを形成する。
【００１０】
このように、マスク１０の孔１１が有機材料から成るオーバーハングによって狭められるために、当該有機材料の絶縁性基板への蒸着における精度が低下するという問題が生じていた。
【００１１】
上述した問題への対処としては、同一のマスクを複数回用いずに、所定の蒸着回数ごとに使用済みのマスクを廃棄して、未使用のマスクに交換する方法がある。しかしながら、この方法を用いた場合、上記有機ＥＬ用の有機材料の蒸着に用いられる未使用のマスクは高価であることから、コストが増大するという問題が生じていた。
【００１２】
そこで本発明は、マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の洗浄装置は、上述の課題に鑑みて為されたものであり、マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去する洗浄装置であって、以下の特徴を有するものである。
【００１４】
即ち、本発明の洗浄装置は、マスクを所定の洗浄液により洗浄処理する洗浄槽と、洗浄槽からオーバーフローした洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器と、真空蒸留器により真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器と、第１の冷却器により冷却された洗浄液を洗浄槽に還流させる第１の還流管と、マスクを所定のリンス液によりリンス処理するリンス槽と、リンス槽からオーバーフローしたリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器と、常圧蒸留器で常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器と、第２の冷却器により冷却されたリンス液をリンス槽に還流させる第２の還流管と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、洗浄槽内に、洗浄液を振動させる第１の超音波振動器を備え、さらに、洗浄槽の洗浄液の温度を検出する第１の温度センサと、第１の温度センサの検出結果に応じて洗浄槽内の洗浄液を室温に調整する第１の温度調整器と、を備えることを特徴とする。ここで、第１の温度調整器は第１の熱交換器を備え、当該第１の温度調整器は、当該第１の熱交換器により冷却された洗浄液を洗浄槽へ流入させることにより当該洗浄槽内の洗浄液の温度を調整する。
【００１６】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、リンス槽内に、前記リンス液を振動させる第２の超音波振動器を備え、さらに、リンス槽のリンス液の温度を検出する第２の温度センサと、第２の温度センサの検出結果に応じてリンス槽内のリンス液を室温に調整する第２の温度調整器と、を備えることを特徴とする。ここで、第２の温度調整器は第２の熱交換器を備え、当該第２の温度調整器は、当該第２の熱交換器により冷却されたリンス液をリンス槽へ流入させることにより当該リンス槽内のリンス液の温度を調整する。
【００１７】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、第３の冷却器を有した回収槽を備え、回収槽は、当該第３の冷却器によって冷却されることにより、リンス槽内で蒸発したリンス液を回収し、その回収されたリンス液を、第２の還流管を通してリンス槽に還流させることを特徴とする。ここで、回収槽は、当該回収槽内の温度を検出する第３の温度センサを備え、第３の冷却器は、第３の温度センサを用いて、リンス槽内と回収槽内とで蒸気圧差が生じるように回収槽内を冷却するものである。
【００１８】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、回収槽によって回収されたリンス液中の水分を分離する水分離槽を備え、水分離槽を通したリンス液を、第２の還流管を通してリンス槽に還流させることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、洗浄液を含有するリンス液を、洗浄液とリンス液とに分離する分離器と、当該分離器により分離された洗浄液、及び常圧蒸留器により蒸留された洗浄液を含有するリンス液を蓄積して再び分離器へ流入させるプール槽と、を備えることを特徴とする。ここで、プール槽は、洗浄液及び前記リンス液の液面の下限を検出する下限センサを備え、当該下限センサの検出結果に応じて、分離された洗浄液を真空蒸留器へ流入させるものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の洗浄装置によれば、有機ＥＬ用の有機材料の蒸着工程において、蒸着に用いるマスクに付着した有機材料を、適宜除去することができる。
【００２１】
従って、同一のマスクを繰り返し用いても、マスクの孔の周縁に当該有機材料から成るオーバーハングが形成されることがなくなるため、孔が狭められることがなくなる。結果として、有機材料の蒸着の精度が低下することを極力抑止することができる。
【００２２】
また、有機材料の蒸着工程において、同一のマスクを用いることができることから、従来の蒸着工程にみられたような、未使用のマスクへの交換によるコストの増大を極力回避することが可能となる。また、使用済みのマスクの廃棄が不要となることから、当該廃棄に係る環境汚染を極力抑止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
次に、本発明の実施形態に係る洗浄装置について説明する。なお、被洗浄体であるマスクは、図１５乃至図１７に示した従来の蒸着工程において用いられるものと同様のマスク１０であるものとする。即ち、当該マスクは、有機材料が形成される所定のパターンに沿って、縦横各数ミクロンメートル程度の孔１１が形成された金属薄膜から成る。この金属薄膜は、例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）等から成る。また、当該マスクの縁には、例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）から成る金属フレーム１２が固定されている。当該金属フレーム１２は、係止部１３を有している。以下、金属フレーム１２に固定されたマスク１０を、「マスク１０」として略称する。
【００２４】
本実施形態に係る洗浄装置は、有機ＥＬ用の有機材料を、駆動用ＴＦＴが形成された絶縁性基板に蒸着する蒸着工程において、蒸着に用いられる金属薄膜から成るマスク１０に付着した上記有機材料を除去するものである。本実施形態に係る洗浄装置の全体の構成は、マスク１０に付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去するための洗浄系と、マスク１０を搬送するための搬送系とに大別される。
【００２５】
最初に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系の構成について、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。なお、図１では、搬送系に係る構成要素は省略されている。
【００２６】
図１に示すように、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、第１及び第２の洗浄槽２１，２２で洗浄処理されたマスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２を備えている。
【００２７】
なお、上記所定の洗浄液は、例えば炭化水素（ＨＣ）系の洗浄液であるものとする。また、上記所定のリンス液は、上記洗浄液よりも低い沸点を有したフッ素（Ｆ）系溶媒であり、例えばハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ；Ｈｙｄｒｏｆｌｕｏｒｏｅｔｈｅｒ）であるものとする。当該リンス液の比重は、水分に対して大きいものである。また、表面張力が大きい上記洗浄液を、表面張力が小さい上記リンス液でリンスすることで、より細かなところまでリンスが入り込み、洗浄液を確実に捕捉する効果がある。
【００２８】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系のうち第１及び第２の洗浄槽２１，２２に係る構成について説明する。
【００２９】
この洗浄装置は、第１の洗浄槽２１に、当該第１の洗浄槽２１からオーバーフローした洗浄液を蓄えるオーバーフロー槽２３を備えている。また、この洗浄装置は、洗浄処理によってマスク１０より除去された有機材料を含む洗浄液から、いわゆる真空蒸留によって洗浄液のみを抽出するため真空蒸留器３０を備えている。有機材料を含む洗浄液は、第１の洗浄槽２１からオーバーフロー槽２３にオーバーフローして、当該オーバーフロー槽２３から真空蒸留器３０に流入する。真空蒸留器３０の底部に沈殿した有機材料は、冷却釜３０ｒで冷却されて外部へ排出される。
【００３０】
上述した洗浄液の蒸留では、当該洗浄液を真空状態において加熱して蒸留する。これにより、当該洗浄液の１５５℃程度の沸点を低下させて、蒸留の際の加熱温度を極力低下させることができる。
【００３１】
また、この洗浄装置は、真空蒸留器３０により真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１を備えている。第１の冷却器３１によって室温に冷却された洗浄液は、第１の還流管１０１を通して第２の洗浄槽２２に還流する。
【００３２】
なお、本願において、室温は、「１０℃〜４０℃」、好ましくは「２０℃〜３０℃」、更に好ましくは約２５℃である。
【００３３】
上述したような洗浄液の真空蒸留、冷却、及び還流により、マスク１０の洗浄処理を、室温において行うことが可能となる。従って、マスク１０に、熱を起因とした応力によるストレスや損傷が生じることを極力抑止することが可能となる。
【００３４】
さらに、上述した第１及び第２の洗浄槽２１，２２は、マスク１０の表面に洗浄液が確実に及ぶように当該洗浄液を振動させるための不図示の第１の超音波振動器を備えている。さらに、その第１の超音波振動器の振動による洗浄液の温度の上昇に対処するため、第１及び第２の洗浄槽２１，２２は、洗浄液の温度を室温に微調整するための第１の温度調整器４０を備えている。
【００３５】
ここで、第１の温度調整器４０は、第１の熱交換器４０ｈ及びポンプ４２を備えており、当該第１の熱交換器４０ｈにより第１及び第２の洗浄槽２１、２２の洗浄液を冷却する。そして、第１の温度調整器４０は、当該第１の熱交換器４０ｈにより冷却された洗浄液を、ポンプ４２を介して第１及び第２の洗浄槽２１，２２へ流入させるか否かによって、当該各槽の洗浄液の温度を室温に微調整する。
【００３６】
また、洗浄液は、循環させてフィルタによってろ過している。なお、図１に示すように、その循環の経路、即ち洗浄槽２１、第１の温度調整器４０、ポンプ４２、洗浄槽２１の経路にフィルタを設けてもよいが、そのフィルタは、その経路とは別経路として、その経路に併設した経路、即ち、洗浄槽２１、フィルタ、ポンプ４２、洗浄槽２１の経路を設けてもよい。
【００３７】
上述したように、第１の温度調整器４０によって、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液の温度を微調整することが可能となる。
【００３８】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系のうち、第１及び第２のリンス槽５１，５２に係る構成について説明する。
【００３９】
この洗浄装置は、第１のリンス槽５１に、当該第１のリンス槽５１からオーバーフローしたリンス液を蓄えるオーバーフロー槽５３を備えている。
【００４０】
また、この洗浄装置は、マスク１０を介して第１のリンス槽５１に持ち込まれる第２の洗浄槽２２の微量な洗浄液や微量な有機材料等の不純物を含むリンス液から、常圧下における常圧蒸留によって当該不純物を取り除くための常圧蒸留器６０を備えている。リンス液は、第１のリンス槽５１からオーバーフロー槽５３にオーバーフローして、当該オーバーフロー槽５３から常圧蒸留器６０に流入する。
【００４１】
上述したリンス液の沸点は例えば６０℃程度であれば、約１６０℃程度の沸点を有する洗浄液の蒸留のように、当該沸点を下げるための真空蒸留を行う必要がない。そのため、常圧蒸留器６０で常圧（大気圧）下による常圧蒸留が行われる。蒸留の際に蒸発したリンス液は、これを液化させる温度のトラップコイル６０ｔにより液化される。
【００４２】
また、この洗浄装置は、常圧蒸留器６０により常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１を備えている。第２の冷却器６１によって室温に冷却されたリンス液は、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４３】
ここで、第２の冷却器と第２の還流管１０２との間には、水分離槽８０が備えられている。この水分離槽８０は、常圧蒸留を経て水分を含んだリンス液を、水分とリンス液とに分離するものである。リンス液は、水分の分離後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４４】
また、この洗浄装置は、第１のリンス槽５１もしくは第２のリンス槽５２から蒸発したリンス液を回収する回収槽５４を備えている。例えば、回収槽５４内の温度は、第２のリンス槽５２の蒸気圧と回収槽５４内の蒸気圧の比が１５０：１〜１０：１になるような温度に設定すれば良い。回収槽５４は、第３の冷却器５５を備えている。この第３の冷却器５５が回収槽５４を例えば零下２５℃程度まで冷却することにより、回収槽５４の蒸気圧が第１のリンス槽５１もしくは第２のリンス槽５２の蒸気圧よりも概ね１００分の１程度に低くなり、蒸発したリンス液が回収槽５４に流入する。回収槽５４に流入したリンス液は水分離槽８０へ流入して、含んでいる水分の分離後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４５】
上述したようなリンス液の常圧蒸留、冷却、及び還流により、マスク１０のリンス処理を、室温において行うことが可能となる。従って、マスク１０に、熱を起因とした応力によるストレスや損傷が生じることを極力抑止することが可能となる。
【００４６】
また、上述した洗浄装置では、洗浄液に浸漬したマスク１０をリンス液に浸漬することから、微量の洗浄液がマスク１０を介して第１のリンス槽５１のリンス液に移り、当該リンス液と混合される。そこで、この洗浄装置は、洗浄液を含有するリンス液を、洗浄液とリンス液とに分離する分離器９０を備えている。この分離器９０は、洗浄液を含有するリンス液を蒸発させた後に、当該蒸発したリンス液のみを冷却器等で冷却することにより液化して回収する。このように分離されたリンス液は、水分離槽８０へ流入して、含んでいる水分の分離後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４７】
さらに、この洗浄装置は、分離器９０により分離された洗浄液、及び常圧蒸留器６０から流入する常圧蒸留される前のリンス液（洗浄液を含有する）を蓄積して再び分離器９０へ流入させるプール槽９１を備えている。
【００４８】
ここで、プール槽９１は、流入して蓄積される洗浄液及びリンス液の液面の上限を検出する上限センサ９１ｆと、当該液面の下限を検出する下限センサ９１eを備えている。そして、バルブ６０ｂの開閉により、常圧蒸留器６０からのリンス液を、上限センサ９１ｆが液面を検出するまでプール槽９１に流入させて当該流入を停止した後、その洗浄液を含むリンス液を分離器９０に流入させ、洗浄液とリンス液との分離を行う。
【００４９】
上記リンス液の分離器９０への流入は、プール槽９１内のリンス液の液面が下限センサ９１ｅによって検出された時点で停止され、再度、常圧蒸留器６０からのリンス液を、上限センサ９１ｆが液面を検出するまでプール槽９１に流入させて当該流入を停止する。そして、洗浄液を含むリンス液を分離器９０に流入させる。このような洗浄液とリンス液との分離を繰り返す回数が増加するのに従って、プール槽９１内に蓄積されるリンス液は、分離器９０から流入してプール槽９１内で蓄積する洗浄液を多く含むようになる。そのため、当該洗浄液を含有するリンス液が分離器９０で蒸発して分離される速度が遅くなる。
【００５０】
そこで、プール槽９１内において、下限センサ９１ｅの検出結果により、分離器９０による分離開始時点からリンス液の液面が下限に到達するまでの時間が計測され、当該到達時間が所定の時間よりも長くなった場合、当該プール槽内のリンス液に含まれる洗浄液は飽和状態であるとみなされて、分離器９０による分離が終了する。分離器９０による分離が終了した後、プール槽９１内の分離された洗浄液は、真空蒸留器３０へ流入する。
【００５１】
上述したような処理により、リンス液に含まれる洗浄液を分離して、リンス液のみを再利用することができる。
【００５２】
さらに、上述した第１及び第２のリンス槽５１，５２は、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶように当該リンス液を振動させるための不図示の第２の超音波振動器を備えている。さらに、その第２の超音波振動器の振動によるリンス液の温度の上昇に対処するため、第１及び第２のリンス槽５１，５２は、リンス液の温度を室温に微調整するための第２の温度調整器７０を備えている。
【００５３】
ここで、第２の温度調整器７０は、第２の熱交換器７０ｈ及びポンプ７２を備えており、当該第２の熱交換器７０ｈにより第１及び第２のリンス槽５１、５２のリンス液を冷却する。そして、第２の温度調整器７０は、当該第２の熱交換器７０ｈにより冷却されたリンス洗浄液を、ポンプ７２を介して第１及び第２のリンス槽５１，５２へ流入させるか否かによって、当該各槽のリンス液の温度を室温に微調整する。
【００５４】
上述したように、第２の温度調整器７０によって、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の温度を微調整することが可能となる。
【００５５】
次に、第１及び第２の洗浄槽２１，２２、及び第１及び第２のリンス槽５１，５２の各槽内の詳細な構成について説明する。図２は、第１及び第２の洗浄槽２１，２２を説明する断面図である。また、図３は、第１及び第２のリンス槽５１，５２、及び回収槽５４を説明する断面図である。なお、図２及び図３では、オーバーフロー槽２３、５３の図示は省略されている。
【００５６】
図２に示すように、第１及び第２の洗浄槽２１，２２は、それぞれ、第１の超音波振動器２１ａ，２２ａ、第１の攪拌器２１ｂ，２２ｂ、第１の温度センサ２１ｃ，２２ｃ、及び可動式の第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄを備えている。ここで、第１の超音波振動器２１ａ，２２ａは、マスク１０の表面に洗浄液が確実に及ぶようにマスクに対して正対するように当該洗浄液に振動を与えれば良いが、マスクを複数枚ずつ洗浄するいわゆるバッチ式の場合よりも、マスクを１枚ずつ洗浄するいわゆる枚葉式の場合の方が、その第１の超音波振動器２１ａ，２２ａの効果は大きい。また、第１の攪拌器２１ｂ，２２ｂは、第１及び第２の洗浄槽２１，２２内で洗浄液を流動させるように当該洗浄液を攪拌するものである。
【００５７】
また、第１の温度センサ２１ｃ，２２ｃは、第１の温度調整器４０による第１及び第２の洗浄槽２１，２２内の洗浄液の温度調整の際に、参照温度として、当該洗浄液の温度を検出するものである。また、第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄは、マスク１０を洗浄処理する際に当該マスク１０を保持して洗浄液に浸漬する機能を有する。また、この第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄは、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶようにマスク１０全体を垂直方向に振動させる揺動機能を有していることが好ましい。
【００５８】
上述したように、第１及び第２の洗浄槽２１，２２では、第１の超音波振動器２１ａ，２２ａによる洗浄液の振動、第１の攪拌器２１ｂ，２２ｂによる洗浄液の攪拌、及び第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄによるマスク１０の揺動により、当該洗浄液によるマスク１０の洗浄処理が確実に行われるようになる。
【００５９】
同様に、図３に示すように、第１及び第２のリンス槽５１，５２は、それぞれ、第２の超音波振動器５１ａ、５２ａ、第２の攪拌器５１ｂ，５２ｂ、第２の温度センサ５１ｃ，５２ｃ、及び可動式の第２の液中キャリア５１ｄ，５２ｄを備えている。ここで、第２の超音波振動器５１ａ、５２ａは、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶように当該リンス液に振動を与える振動器である。また、第２の攪拌器５１ｂ，５２ｂは、第１及び第２のリンス槽５１，５２内でリンス液を流動させるように当該リンス液を攪拌するものである。
【００６０】
また、第２の温度センサ５１ｃ，５２ｃは、第２の温度調整器７０による第１及び第２のリンス槽５１，５２内のリンス液の温度調整の際に、参照温度として、当該リンス液の温度を検出するものである。また、第２の液中キャリア５１ｄ，５２ｄは、マスク１０をリンス処理する際に当該マスク１０を保持してリンス液に浸漬する機能を有する。また、この第２の液中キャリア５１ｄは、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶようにマスク１０全体を垂直方向に振動させる揺動機能を有していることが好ましい。
【００６１】
また、第２のリンス槽５２と導通する回収槽５４は、第３の冷却器５５及び第３の温度センサ５４ｃを備えている。第３の冷却器５５は、第３の温度センサ５４ｃの検出結果に応じて、回収槽５４を、第１及び第２のリンス槽５１，５２よりも低い温度に冷却する。当該冷却の温度は、前述のように、例えば零下２５℃程度である。回収槽５４に導かれた蒸発したリンス液は、いわゆるトラップコイル５４ｔによって液化されて、当該回収槽５４に回収される。
【００６２】
また、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の液面より上方には、第３及び第４の温度調整器５７，５８、及び２つの第４の温度センサ５０ｃが備えられている。第３の温度調整器５７は、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の液面の上方の温度を例えば零下１０℃程度に冷却することにより、蒸発したリンス液が第１及び第２のリンス槽５１，５２の外部へ拡散することを抑止する第１の空気層５９ａを形成する。また、第４の温度調整器５８は、第１の空気層５９ａの上方の温度を、室温より若干高い温度に調整して、第１及び第２のリンス槽５１，５２の外部の大気が当該槽内に流入することを抑止する第２の空気層５９ｂを形成する。
【００６３】
ここで、第３及び第４の温度調整器５７，５８による上記温度の調整は、２つの第４の温度センサ５０ｃによる温度の検出結果に応じて行われることが好ましい。なお、第３及び第４の温度調整器５７，５８による上記温度の調整が、予め設定した所定の温度に調整される場合、２つの第４の温度センサ５０ｃのうちいずれか１つもしくは全ては、省略されてもよい。
【００６４】
上述したように、第１及び第２のリンス槽５１，５２では、第２の超音波振動器５１ａ，５２ａによるリンス液の振動、第２の攪拌器５１ｂ，５２ｂによるリンス液の攪拌、及び第２の液中キャリア５１ｄ，５２ｄによるマスク１０の揺動により、当該リンス液によるマスク１０のリンス処理が確実に行われるようになる。
【００６５】
また、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の液面より上方に、第３及び第４の温度調整器５７，５８を備えているため、第１及び第２のリンス槽５１，５２で蒸発したリンス液を大気中に拡散させずに、回収槽５４によって回収することができる。
【００６６】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系における洗浄液の流れについて説明する。第１の洗浄槽２１、次いで第２の洗浄槽２２にマスク１０が浸漬されて洗浄処理が行われると、マスク１０から除去された有機材料が洗浄液に混ざる。そして、第１の還流管１０１を通して還流した洗浄液が第２の洗浄槽２２に流入すると、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液が第１のオーバーフロー槽２３へオーバーフローする。オーバーフローした洗浄液は真空蒸留器３０へ流入する。ここで、真空蒸留器３０内は例えば０．８気圧程度に減圧され、例えば１２０℃程度に加熱されて、洗浄液の真空蒸留が行われる。真空蒸留器３０の底部に沈殿した有機材料は、冷却釜３０ｒで冷却されて定期的に外部へ排出する。
【００６７】
この洗浄液の沸点は例えば１６０℃程度であるが、当該洗浄液を真空状態において加熱して蒸留することにより、当該沸点を低下させて、蒸留の際の加熱温度を例えば１２０℃程度に低下させることができる。また、上記蒸留は真空蒸留であるため、蒸留の過程で洗浄液に水分が含まれることはない。
【００６８】
真空蒸留されて有機材料が取り除かれた洗浄液は、第１の冷却器３１により室温に冷却され、第１の還流管１０１を通して第２の洗浄槽２２に還流する。
【００６９】
また、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液の一部は、第１の温度調整器４０に備えられた第１の熱交換器４０ｈにより冷却され、当該冷却された洗浄液が、
ポンプ４２を介して第２の洗浄槽２２へ適宜流入する。
【００７０】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系におけるリンス液の流れについて説明する。第１のリンス槽５１、次いで第２のリンス槽５２にマスク１０が浸漬されてリンス処理が行われると、マスク１０から除去された洗浄液がリンス液に混ざる。第２の還流管１０２を通して還流したリンス液が第２のリンス槽５２に流入すると、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液が第２のオーバーフロー槽５３へオーバーフローする。
【００７１】
このオーバーフローしたリンス液は常圧蒸留器６０へ流入する。ここで、リンス液の沸点は例えば６０℃であるために、例えば１６０℃程度の沸点を有する洗浄液の蒸留のように、当該沸点を下げるための真空蒸留を行う必要がない。そこで、常圧蒸留器６０内は例えば常圧（大気圧）下で、当該沸点を超える例えば６５℃程度に加熱されて、リンス液の常圧蒸留が行われる。
【００７２】
この常圧蒸留により、リンス液に含まれる有機材料（洗浄液が付着したマスク１０を介して運ばれる）等の不純物が取り除かれる。常圧蒸留されたリンス液は、常圧蒸留される過程で水分が混合しているが、その水分よりも大きい比重を利用して、水分とリンス液とに分離される。このリンス液は、第２の冷却器６２により室温に冷却され、水分離槽８０へ流入する。
【００７３】
水分離槽８０でさらに水分が除かれたリンス液は、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２へ還流する。
【００７４】
また、常圧蒸留器６０へ流入したものの常圧蒸留されていないリンス液の一部、即ち微量の洗浄液（マスク１０を介してリンス液に混ざる）を含むリンス液は、バルブ６０ｂの開閉に応じて、プール槽９１へ流入する。リンス液がプール槽９１へ流入して当該プール槽９１の上限を満たした後、バルブ６０ｂは閉じられ、リンス液の流入が停止する。そして、プール槽９１内のリンス液は、分離器９０へ流入して、リンス液と洗浄液との分離が開始される。
【００７５】
プール槽９１内のリンス液の液面が下限センサ９１ｅにより検出された場合、再びバルブ６０ｂが開けられて常圧蒸留器６０からプール槽９１内へリンス液が流入する。
【００７６】
分離器９０によって分離されたリンス液は、その水分よりも大きい比重を利用して、水分離槽８０で水分を取り除いた後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２へ還流する。また、分離器９０によって分離された洗浄液は、プール槽９１へ流入する。
【００７７】
このような洗浄液とリンス液との分離を繰り返してゆくに従って、プール槽９１内に蓄積されるリンス液は、分離器９０から流入してプール槽９１内で蓄積する洗浄液を多く含むようになる。そのため、当該洗浄液を含有するリンス液が分離器９０で蒸発して分離される速度が遅くなる。
【００７８】
そこで、プール槽９１のリンス液の液面に対する下限センサ９１ｅの検出結果により、分離器９０による分離開始時点からリンス液の液面が下限に到達するまでの時間が計測され、当該到達時間が所定の時間よりも長くなった場合、当該プール槽９１内のリンス液に含まれる洗浄液は飽和状態であるとみなされて、分離器９０による分離が終了する。そして、それまでは閉じていたバルブ９１ｂが開いて、プール槽９１内の分離された洗浄液は、真空蒸留器３０へ流入する。
【００７９】
また、第１及び第２のリンス槽５１，５２から蒸発したリンス液は、第３の冷却器５５によって、第１及び第２のリンス槽５１，５２よりも低い例えば零下２５℃程度に冷却された回収槽５４に導かれて、回収される。回収槽５４に回収されたリンス液は、水分離槽８０へ流入して、その１．５程度の比重を利用して水分が除かれ、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２へ還流する。
【００８０】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系について図面を参照して説明する。図４乃至図８、及び図１１乃至図１４は、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。また、図９及び図１０は、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する斜視図である。なお、図４乃至図１４では、洗浄系に係る構成要素については、搬送系の説明に必要な一部の構成要素のみを図示している。
【００８１】
図４乃至図１４に示すように、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系は、ステージ２００上に設置されて複数のマスク１０を水平方向に格納したカセット２１０と、カセット２１０から１つのマスク１０を取り出す第１のアーム２２１を有した第１の移載装置２２０と、マスク１０を掴む第２のアームを有した第２の移載装置２３０と、第１及び第２の洗浄槽２１，２２や第１及び第２のリンス槽５１，５２にマスク１０を搬送する搬送装置２４０と、を備えている。ここで、搬送装置２４０は、マスク１０を搬送する際に、マスク１０の一辺を保持するための鉤部２４２を有している。
【００８２】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系の動作について説明する。最初に、図４に示すように、第１の移載装置２２０の第１のアーム２２１が伸縮して、カセット２１０から１つのマスク１０を取り出す。次に、図５に示すように、第１の移載装置２２０は、第１のアーム２２１を下降させてマスク１０をステージ２００の所定の位置に載置する。次に、図６に示すように、第２の移載装置２３０が、第２のアーム２３１によってマスク１０を掴み、さらに図７に示すように、マスク１０を搬送装置２４０上に載置する。
【００８３】
そして、図８に示すように、マスク１０が載置された搬送装置２４０は、垂直方向に９０度程度回転して垂直な状態に至るまで起き上がる。また、搬送装置２４０上に載置されたマスク１０も同時に、垂直方向に９０度程度回転して起き上がる。このときの搬送装置２４０及びそれに載置されたマスク１０の様子を示すと、図９の斜視図のようになる。
【００８４】
このように、搬送装置２４０及びマスク１０が垂直な状態となるために、マスク１０を構成する金属薄膜に応力（金属薄膜に対する重力を起因とする応力や液による揺動を起因とする応力）が加わって金属疲労や損傷が生じることを極力回避することが可能となる。さらに、マスク１０を垂直方向に立てかけることにより、液切れがよくなるという効果もある。
【００８５】
なお、上記搬送装置２４０とマスク１０が回転する際の角度は、必ずしも９０度程度である必要は無い。即ち、重力を起因とする応力によってマスク１０を構成する金属薄膜に金属疲労や損傷が極力生じないような角度であれば、搬送装置２４０及びマスク１０は、水平及び垂直以外の角度に至るようにして回転してもよい。
【００８６】
さらに、図１０の斜視図に示すように、搬送装置２４０に予め備えられている保持具２４１が、マスク１０の係止部１３と嵌合されるようにして当該マスク１０の係止部１３に圧着される。これにより、マスク１０は、その金属薄膜の表面に損傷を与えることなく、搬送装置２４０の保持具２４１と鉤部２４２とにより挟まれて保持される。
【００８７】
こうして搬送装置２４０上に保持されたマスク１０は、搬送装置２４０と共に、洗浄装置の洗浄系、即ち、第１及び第２の洗浄槽２１，２２（及び第１及び第２のリンス槽５１，５２）へ搬送される。ここで、当該搬送の際は、搬送装置２４０は、図１１の断面図に示すように、垂直方向及び水平方向の移動を連続的に行うことにより、同図中の軌跡１及び８のように、円弧状に近似した曲線状の所定の軌跡を以って移動する。なお、同図中のＡ，Ｂ，Ｃは洗浄液もしくはリンス液の液面より上方における垂直方向の位置（高さ）を示している。
【００８８】
そのような所定の軌跡を有した搬送装置２４０の移動により、当該移動が垂直方向から水平方向へ、もしくは水平方向から垂直方向に切り替わる際の衝撃による応力によって金属薄膜から成るマスク１０に金属疲労や損傷が生じることを極力回避することができる。
【００８９】
また、搬送装置２４０は、所定の速度を以って移動する。この所定の速度は、搬送装置２４０が移動する際の風圧や衝撃による応力によって、金属薄膜から成るマスク１０に金属疲労や損傷が生じない程度の速度であるものとする。もしくは、上記所定の速度は、搬送装置２４０が移動する際に生じる気流の乱れによって、第１及び第２のリンス槽５１，５２内のリンス液の蒸発を促さないような所定の速度であるものとする。
【００９０】
次に、図１２に示すように、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第１の洗浄槽２１上に搬送される。そして、図１３に示すように、第１の洗浄槽２１中に備えられている第１の液中キャリア２１ｄが洗浄液の液面より上方に上昇する。そして、第１の液中キャリア２１ｄが搬送装置２４０と同一の位置まで上昇した後、もしくは搬送装置２４０が洗浄液の液面の上方に上昇した液中キャリア２１ｄと同一の位置まで移動した後、搬送装置２４０の保持具２４１の圧着が解除されて、マスク１０が液中キャリア２１ｄに移し替えられる。
【００９１】
その後、図１４に示すように、マスク１０が載置された第１の液中キャリア２１ｄが、洗浄液中に下降して、マスク１０が洗浄液に浸漬される。また、マスク１０を洗浄液中から取り出すときは、図１４、図１３、図１２に示した過程を、この順で経るものとする。そして、図１２乃至図１４に示した第１の洗浄槽２１のときと同様に、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第２の洗浄槽２２上に搬送される。そして、マスク１０が第１の液中キャリア２１ｄを介して洗浄液中に浸漬された後、取り出される。
【００９２】
上述したように、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液にマスク１０を浸漬する際、搬送装置２４０を洗浄液に浸漬することなく、洗浄処理を行うことができる。即ち、搬送装置２４０に洗浄液が付着することを極力回避することができる。そのため、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液が、搬送装置２４０を介して第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液に運ばれることを極力回避することができる。
【００９３】
次に、図１２乃至図１４に示した第１の洗浄槽２１のときと同様に、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第１のリンス槽５１上に搬送される。そして、マスク１０が第２の液中キャリア５１ｄを介してリンス液中に浸漬された後、取り出される。さらに、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第２のリンス槽５２上に搬送される。そして、マスク１０が第２の液中キャリア５２ｄを介してリンス液中に浸漬された後、取り出される。
【００９４】
上述したように、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液にマスク１０を浸漬する際、搬送装置２４０をリンス液に浸漬することなく、リンス処理を行うことができる。即ち、搬送装置２４０にリンス液が付着することを極力回避することができる。そのため、再び洗浄処理を行う際、搬送装置２４０にリンス液が付着して、当該リンス液が第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液に運ばれることを極力回避することができる。
【００９５】
なお、上述した搬送装置２４０は、マスク１０を洗浄液もしくはリンス液に浸漬する場合、図１１の軌跡１乃至４に従って移動することが好ましい。即ち、最初に、搬送装置２４０は、軌跡１に従ってＡからＢの高さに移動して一時停止する。その停止の際には、急激に停止するのではなく、マスクに前述の応力がかからないように徐々に減速しながら停止させるようにする。そして、不図示の液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄがＢの高さに上昇した後、搬送装置２４０は、液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄにマスク１０を受け渡しながら、ＢからＣの高さに移動する。その後、搬送装置２４０は、液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄを離れるようにして軌跡３に従って水平方向に移動する。さらに、搬送装置２４０は、Ａの高さに戻るようにして、軌跡４に従って、垂直方向に移動する。
【００９６】
また、上述した搬送装置２４０は、マスク１０を洗浄液もしくはリンス液の液中から取り出す場合、図１１の軌跡５乃至８に従って移動することが好ましい。即ち、最初に、搬送装置２４０は、軌跡５に従ってＡからＣの高さに移動する。次に、液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄに近づくようにして、軌跡６に従って水平方向に移動する。その後、搬送装置２４０は、軌跡７に従って、ＣからＢの高さに移動して一時停止する。その後、搬送装置２４０は、Ｂの高さに上昇している液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄからマスク１０を掬い上げるようにして移し替えながら、軌跡８に従って、ＢからＡの高さに移動する。このときも、搬送装置２４０が急激に上方向に移動しないように、徐々に移動速度を増すようにすることが好ましい。そうすることにより、搬送装置２４０は、マスクに上述の応力をかけることなく移動できる。
【００９７】
ここで、搬送装置２４０は１つのマスク１０を、第１及び第２の洗浄槽２１，２２もしくは第１及び第２のリンス槽５１，５２のいずれか１つの槽へ搬送した後、当該搬送が完了したマスク１０とは異なる他のマスク１０を、その他の槽に搬送してもよい。
【００９８】
最後に、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、図１に示した真空乾燥器９９に搬送されて乾燥される。
【００９９】
上述のように、図１１に示す軌跡１及び８において円弧をなすように移動させること、また、軌跡１においては、移動速度（下方向）を徐々に減速すること、さらに軌跡８においては、移動速度（上方向）を徐々に増すようにすることによって、マスク１０にかかる応力を減少させることができる。また、マスク１０を搬送していないときの搬送装置２４０の動きは、液槽の側壁や液中キャリアとぶつからないようにすればよく、円弧状でもよく、また、急激に移動してもよい。
【０１００】
なお、上述した実施形態では、洗浄液及びリンス液を、炭化水素系の洗浄液及びフッ素系のリンス液としたが、本発明はこれに限定されない。即ち、上記洗浄液及びリンス液は、マスク１０に対して洗浄処理（有機ＥＬ用の有機材料の除去）及びリンス処理を行うことが可能であり、炭化水素系の洗浄液及びフッ素系のリンス液と同様の沸点、及び水分に対する比重を有したものであれば、上記以外の洗浄液及びリンス液であってもよい。
【０１０１】
また、上述した実施形態では、マスク１０はニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）から成る金属薄膜であるものとしたが、本発明はこれに限定されない。即ち、本発明は、マスク１０が上記金属薄膜以外の金属、もしくは樹脂により構成される場合においても適用される。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。
【図２】本発明の実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。
【図３】本発明の実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。
【図４】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図７】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図８】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する斜視図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する斜視図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１５】従来例に係る有機ＥＬ用のマスクを説明する上面図である。
【図１６】図１５のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【図１７】図１５のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。
【図１８】有機材料が蒸着されたマスクの断面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１ 有機材料 １ａ オーバーハング
１０ マスク １１ 孔 １２ 金属フレーム １３ 係止部
２１ 第１の洗浄槽 ２２ 第２の洗浄槽
２１ａ，２２ａ 第１の超音波振動器
２１ｂ，２２ｂ 第１の攪拌器
２１ｃ，２２ｃ 第１の温度センサ
２１ｄ，２２ｄ 第１の液中キャリア
３０ 真空蒸留器 ３１ 第１の冷却器
４０ 第１の温度調整器
５１ 第１のリンス槽 ５２ 第２のリンス槽
５１ａ，５２ａ 第２の超音波振動器
５１ｂ，５２ｂ 第２の攪拌器
５１ｃ，５２ｃ 第２の温度センサ
５１ｄ，５２ｄ 第２の液中キャリア
５４ 回収槽 ５５ 第３の冷却器
６０ 常圧蒸留器 ６１ 第２の冷却器
７０ 第２の温度調整器
８０ 水分離槽
９０ 分離器
９１ プール槽 ９１ｆ 上限センサ ９１ｅ 下限センサ
１０１ 第１の還流管 １０２ 第２の還流管
２００ ステージ
２１０ カセット
２２０ 第１の移載装置
２３０ 第２の移載装置
２４０ 搬送装置 ２４１ 保持具 ２４２ 鉤部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置に関し、特に、有機ＥＬ用の有機材料の蒸着工程において、マスクに付着した有機材料を除去する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：以下、「有機ＥＬ」と略称する）素子を用いた有機ＥＬ表示装置が、ＣＲＴやＬＣＤに代わる表示装置として注目されており、例えば、その有機ＥＬ素子を駆動させる駆動用薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：以下「ＴＦＴ」と略称する。）を備えた有機ＥＬ表示装置の研究開発も進められている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、例えば、ＩＴＯから成る陽極、ＭＴＤＡＴＡ（４，４−ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ）等の第１ホール輸送層及びＴＰＤ（４，４，４−ｔｒｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｎｉｎｅ）等の第２ホール輸送層から成るホール輸送層、キナクリドン（Ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）誘導体を含むＢｅｂｑ２（１０−ベンゾ〔ｈ〕キノリノール−ベリリウム錯体）から成る発光層、Ｂｅｂｑ２から成る電子輸送層、及びアルミニウム合金等から成る陰極が、この順番で積層形成された構造を有する。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子は、有機ＥＬ素子を駆動させる駆動用ＴＦＴを介して電流が供給されることによって発光する。即ち、陽極から注入されたホールと、陰極から注入された電子とが発光層の内部で再結合し、発光層を形成する有機分子を励起して励起子が生じる。この励起子が放射失活する過程で発光層から光が放たれ、この光が、透明な陽極及びガラス基板等の絶縁性基板を介して外部へ放出されて発光する。
【０００５】
上述した有機ＥＬ素子の各層のうち、ホール輸送層、発光層、電子輸送層の形成に用いられる有機材料は、耐溶剤性が低く、水分にも弱いという特性がある。そのため、半導体プロセスにおけるフォトリソグラフィ技術を利用することができない。そこで、例えば金属薄膜から成るマスク（いわゆるシャドウマスク）を用いた蒸着法により、上記有機材料を、駆動用ＴＦＴを備えた絶縁性基板上に選択的に蒸着して、有機ＥＬ素子のホール輸送層、発光層、電子輸送層及び陰極のパターン形成を行っていた。
【０００６】
そのような有機材料の蒸着の際に用いるマスクの一例を、図１５乃至図１７に示す。図１５は、従来例に係る有機ＥＬ用のマスクを説明する上面図である。また、図１６は、図１５のＸ−Ｘ線に沿った断面図であり、図１７は、図１５のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図１５乃至図１７に示すように、マスク１０は、例えば縦横各数ミクロンメートル程度の複数の微細な孔１１を有した例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）等の金属薄膜から成る。これらの孔１１を通して、上記有機材料が絶縁性基板上に選択的に蒸着される。
【０００７】
また、上記金属薄膜から成るマスク１０は、例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）から成る金属フレーム１２に固定されており、当該マスク１０の縁が、当該金属フレーム１２により支持されている。また、金属フレーム１２の縁には、当該金属フレーム１２を保持するための複数の係止部１３が形成されている。以下、金属フレーム１２に固定されたマスク１０を、「マスク１０」として略称する。
【０００８】
なお、関連する技術文献としては、例えば以下の特許文献が挙げられる。
【特許文献１】特開２００４−１０３２６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
有機ＥＬ素子が、カラー表示に対応して、３原色の赤色，緑色，青色の各発光層を有する場合、有機材料の蒸着工程は、一般に、各色用のマスクを繰り返し用いて行われる。そのため、繰り返される蒸着の回数が多くなるに従って、マスク１０の表面には有機材料が幾層にも積層するようにして付着する。即ち、図１８に示した有機材料が蒸着されたマスクの断面図に示すように、有機材料１は、マスク１０の表面上のみならず、本来ならば有機材料１を通過させるべき複数の孔１１を塞ぐようにして、孔１１の周縁にオーバーハング１ａを形成する。
【００１０】
このように、マスク１０の孔１１が有機材料から成るオーバーハングによって狭められるために、当該有機材料の絶縁性基板への蒸着における精度が低下するという問題が生じていた。
【００１１】
上述した問題への対処としては、同一のマスクを複数回用いずに、所定の蒸着回数ごとに使用済みのマスクを廃棄して、未使用のマスクに交換する方法がある。しかしながら、この方法を用いた場合、上記有機ＥＬ用の有機材料の蒸着に用いられる未使用のマスクは高価であることから、コストが増大するという問題が生じていた。
【００１２】
そこで本発明は、マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の洗浄装置は、上述の課題に鑑みて為されたものであり、マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去する洗浄装置であって、以下の特徴を有するものである。
【００１４】
即ち、本発明の洗浄装置は、マスクを所定の洗浄液により洗浄処理する洗浄槽と、洗浄槽からオーバーフローした洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器と、真空蒸留器により真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器と、第１の冷却器により冷却された洗浄液を洗浄槽に還流させる第１の還流管と、マスクを所定のリンス液によりリンス処理するリンス槽と、リンス槽からオーバーフローしたリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器と、常圧蒸留器で常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器と、第２の冷却器により冷却されたリンス液をリンス槽に還流させる第２の還流管と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、洗浄槽内に、洗浄液を振動させる第１の超音波振動器を備え、さらに、洗浄槽の洗浄液の温度を検出する第１の温度センサと、第１の温度センサの検出結果に応じて洗浄槽内の洗浄液を室温に調整する第１の温度調整器と、を備えることを特徴とする。ここで、第１の温度調整器は第１の熱交換器を備え、当該第１の温度調整器は、当該第１の熱交換器により冷却された洗浄液を洗浄槽へ流入させることにより当該洗浄槽内の洗浄液の温度を調整する。
【００１６】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、リンス槽内に、前記リンス液を振動させる第２の超音波振動器を備え、さらに、リンス槽のリンス液の温度を検出する第２の温度センサと、第２の温度センサの検出結果に応じてリンス槽内のリンス液を室温に調整する第２の温度調整器と、を備えることを特徴とする。ここで、第２の温度調整器は第２の熱交換器を備え、当該第２の温度調整器は、当該第２の熱交換器により冷却されたリンス液をリンス槽へ流入させることにより当該リンス槽内のリンス液の温度を調整する。
【００１７】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、第３の冷却器を有した回収槽を備え、回収槽は、当該第３の冷却器によって冷却されることにより、リンス槽内で蒸発したリンス液を回収し、その回収されたリンス液を、第２の還流管を通してリンス槽に還流させることを特徴とする。ここで、回収槽は、当該回収槽内の温度を検出する第３の温度センサを備え、第３の冷却器は、第３の温度センサを用いて、リンス槽内と回収槽内とで蒸気圧差が生じるように回収槽内を冷却するものである。
【００１８】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、回収槽によって回収されたリンス液中の水分を分離する水分離槽を備え、水分離槽を通したリンス液を、第２の還流管を通してリンス槽に還流させることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の洗浄装置は、上記構成に加えて、洗浄液を含有するリンス液を、洗浄液とリンス液とに分離する分離器と、当該分離器により分離された洗浄液、及び常圧蒸留器により蒸留された洗浄液を含有するリンス液を蓄積して再び分離器へ流入させるプール槽と、を備えることを特徴とする。ここで、プール槽は、洗浄液及び前記リンス液の液面の下限を検出する下限センサを備え、当該下限センサの検出結果に応じて、分離された洗浄液を真空蒸留器へ流入させるものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の洗浄装置によれば、有機ＥＬ用の有機材料の蒸着工程において、蒸着に用いるマスクに付着した有機材料を、適宜除去することができる。
【００２１】
従って、同一のマスクを繰り返し用いても、マスクの孔の周縁に当該有機材料から成るオーバーハングが形成されることがなくなるため、孔が狭められることがなくなる。結果として、有機材料の蒸着の精度が低下することを極力抑止することができる。
【００２２】
また、有機材料の蒸着工程において、同一のマスクを用いることができることから、従来の蒸着工程にみられたような、未使用のマスクへの交換によるコストの増大を極力回避することが可能となる。また、使用済みのマスクの廃棄が不要となることから、当該廃棄に係る環境汚染を極力抑止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
次に、本発明の実施形態に係る洗浄装置について説明する。なお、被洗浄体であるマスクは、図１５乃至図１７に示した従来の蒸着工程において用いられるものと同様のマスク１０であるものとする。即ち、当該マスクは、有機材料が形成される所定のパターンに沿って、縦横各数ミクロンメートル程度の孔１１が形成された金属薄膜から成る。この金属薄膜は、例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）等から成る。また、当該マスクの縁には、例えばニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）から成る金属フレーム１２が固定されている。当該金属フレーム１２は、係止部１３を有している。以下、金属フレーム１２に固定されたマスク１０を、「マスク１０」として略称する。
【００２４】
本実施形態に係る洗浄装置は、有機ＥＬ用の有機材料を、駆動用ＴＦＴが形成された絶縁性基板に蒸着する蒸着工程において、蒸着に用いられる金属薄膜から成るマスク１０に付着した上記有機材料を除去するものである。本実施形態に係る洗浄装置の全体の構成は、マスク１０に付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去するための洗浄系と、マスク１０を搬送するための搬送系とに大別される。
【００２５】
最初に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系の構成について、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。なお、図１では、搬送系に係る構成要素は省略されている。
【００２６】
図１に示すように、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、第１及び第２の洗浄槽２１，２２で洗浄処理されたマスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２を備えている。
【００２７】
なお、上記所定の洗浄液は、例えば炭化水素（ＨＣ）系の洗浄液であるものとする。また、上記所定のリンス液は、上記洗浄液よりも低い沸点を有したフッ素（Ｆ）系溶媒であり、例えばハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ；Ｈｙｄｒｏｆｌｕｏｒｏｅｔｈｅｒ）であるものとする。当該リンス液の比重は、水分に対して大きいものである。また、表面張力が大きい上記洗浄液を、表面張力が小さい上記リンス液でリンスすることで、より細かなところまでリンスが入り込み、洗浄液を確実に捕捉する効果がある。
【００２８】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系のうち第１及び第２の洗浄槽２１，２２に係る構成について説明する。
【００２９】
この洗浄装置は、第１の洗浄槽２１に、当該第１の洗浄槽２１からオーバーフローした洗浄液を蓄えるオーバーフロー槽２３を備えている。また、この洗浄装置は、洗浄処理によってマスク１０より除去された有機材料を含む洗浄液から、いわゆる真空蒸留によって洗浄液のみを抽出するため真空蒸留器３０を備えている。有機材料を含む洗浄液は、第１の洗浄槽２１からオーバーフロー槽２３にオーバーフローして、当該オーバーフロー槽２３から真空蒸留器３０に流入する。真空蒸留器３０の底部に沈殿した有機材料は、冷却釜３０ｒで冷却されて外部へ排出される。
【００３０】
上述した洗浄液の蒸留では、当該洗浄液を真空状態において加熱して蒸留する。これにより、当該洗浄液の１５５℃程度の沸点を低下させて、蒸留の際の加熱温度を極力低下させることができる。
【００３１】
また、この洗浄装置は、真空蒸留器３０により真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１を備えている。第１の冷却器３１によって室温に冷却された洗浄液は、第１の還流管１０１を通して第２の洗浄槽２２に還流する。
【００３２】
なお、本願において、室温は、「１０℃〜４０℃」、好ましくは「２０℃〜３０℃」、更に好ましくは約２５℃である。
【００３３】
上述したような洗浄液の真空蒸留、冷却、及び還流により、マスク１０の洗浄処理を、室温において行うことが可能となる。従って、マスク１０に、熱を起因とした応力によるストレスや損傷が生じることを極力抑止することが可能となる。
【００３４】
さらに、上述した第１及び第２の洗浄槽２１，２２は、マスク１０の表面に洗浄液が確実に及ぶように当該洗浄液を振動させるための不図示の第１の超音波振動器を備えている。さらに、その第１の超音波振動器の振動による洗浄液の温度の上昇に対処するため、第１及び第２の洗浄槽２１，２２は、洗浄液の温度を室温に微調整するための第１の温度調整器４０を備えている。
【００３５】
ここで、第１の温度調整器４０は、第１の熱交換器４０ｈ及びポンプ４２を備えており、当該第１の熱交換器４０ｈにより第１及び第２の洗浄槽２１、２２の洗浄液を冷却する。そして、第１の温度調整器４０は、当該第１の熱交換器４０ｈにより冷却された洗浄液を、ポンプ４２を介して第１及び第２の洗浄槽２１，２２へ流入させるか否かによって、当該各槽の洗浄液の温度を室温に微調整する。
【００３６】
また、洗浄液は、循環させてフィルタによってろ過している。なお、図１に示すように、その循環の経路、即ち洗浄槽２１、第１の温度調整器４０、ポンプ４２、洗浄槽２１の経路にフィルタを設けてもよいが、そのフィルタは、その経路とは別経路として、その経路に併設した経路、即ち、洗浄槽２１、フィルタ、ポンプ４２、洗浄槽２１の経路を設けてもよい。
【００３７】
上述したように、第１の温度調整器４０によって、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液の温度を微調整することが可能となる。
【００３８】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系のうち、第１及び第２のリンス槽５１，５２に係る構成について説明する。
【００３９】
この洗浄装置は、第１のリンス槽５１に、当該第１のリンス槽５１からオーバーフローしたリンス液を蓄えるオーバーフロー槽５３を備えている。
【００４０】
また、この洗浄装置は、マスク１０を介して第１のリンス槽５１に持ち込まれる第２の洗浄槽２２の微量な洗浄液や微量な有機材料等の不純物を含むリンス液から、常圧下における常圧蒸留によって当該不純物を取り除くための常圧蒸留器６０を備えている。リンス液は、第１のリンス槽５１からオーバーフロー槽５３にオーバーフローして、当該オーバーフロー槽５３から常圧蒸留器６０に流入する。
【００４１】
上述したリンス液の沸点は例えば６０℃程度であれば、約１６０℃程度の沸点を有する洗浄液の蒸留のように、当該沸点を下げるための真空蒸留を行う必要がない。そのため、常圧蒸留器６０で常圧（大気圧）下による常圧蒸留が行われる。蒸留の際に蒸発したリンス液は、これを液化させる温度のトラップコイル６０ｔにより液化される。
【００４２】
また、この洗浄装置は、常圧蒸留器６０により常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１を備えている。第２の冷却器６１によって室温に冷却されたリンス液は、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４３】
ここで、第２の冷却器と第２の還流管１０２との間には、水分離槽８０が備えられている。この水分離槽８０は、常圧蒸留を経て水分を含んだリンス液を、水分とリンス液とに分離するものである。リンス液は、水分の分離後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４４】
また、この洗浄装置は、第１のリンス槽５１もしくは第２のリンス槽５２から蒸発したリンス液を回収する回収槽５４を備えている。例えば、回収槽５４内の温度は、第２のリンス槽５２の蒸気圧と回収槽５４内の蒸気圧の比が１５０：１〜１０：１になるような温度に設定すれば良い。回収槽５４は、第３の冷却器５５を備えている。この第３の冷却器５５が回収槽５４を例えば零下２５℃程度まで冷却することにより、回収槽５４の蒸気圧が第１のリンス槽５１もしくは第２のリンス槽５２の蒸気圧よりも概ね１００分の１程度に低くなり、蒸発したリンス液が回収槽５４に流入する。回収槽５４に流入したリンス液は水分離槽８０へ流入して、含んでいる水分の分離後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４５】
上述したようなリンス液の常圧蒸留、冷却、及び還流により、マスク１０のリンス処理を、室温において行うことが可能となる。従って、マスク１０に、熱を起因とした応力によるストレスや損傷が生じることを極力抑止することが可能となる。
【００４６】
また、上述した洗浄装置では、洗浄液に浸漬したマスク１０をリンス液に浸漬することから、微量の洗浄液がマスク１０を介して第１のリンス槽５１のリンス液に移り、当該リンス液と混合される。そこで、この洗浄装置は、洗浄液を含有するリンス液を、洗浄液とリンス液とに分離する分離器９０を備えている。この分離器９０は、洗浄液を含有するリンス液を蒸発させた後に、当該蒸発したリンス液のみを冷却器等で冷却することにより液化して回収する。このように分離されたリンス液は、水分離槽８０へ流入して、含んでいる水分の分離後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２に還流する。
【００４７】
さらに、この洗浄装置は、分離器９０により分離された洗浄液、及び常圧蒸留器６０から流入する常圧蒸留される前のリンス液（洗浄液を含有する）を蓄積して再び分離器９０へ流入させるプール槽９１を備えている。
【００４８】
ここで、プール槽９１は、流入して蓄積される洗浄液及びリンス液の液面の上限を検出する上限センサ９１ｆと、当該液面の下限を検出する下限センサ９１eを備えている。そして、バルブ６０ｂの開閉により、常圧蒸留器６０からのリンス液を、上限センサ９１ｆが液面を検出するまでプール槽９１に流入させて当該流入を停止した後、その洗浄液を含むリンス液を分離器９０に流入させ、洗浄液とリンス液との分離を行う。
【００４９】
上記リンス液の分離器９０への流入は、プール槽９１内のリンス液の液面が下限センサ９１ｅによって検出された時点で停止され、再度、常圧蒸留器６０からのリンス液を、上限センサ９１ｆが液面を検出するまでプール槽９１に流入させて当該流入を停止する。そして、洗浄液を含むリンス液を分離器９０に流入させる。このような洗浄液とリンス液との分離を繰り返す回数が増加するのに従って、プール槽９１内に蓄積されるリンス液は、分離器９０から流入してプール槽９１内で蓄積する洗浄液を多く含むようになる。そのため、当該洗浄液を含有するリンス液が分離器９０で蒸発して分離される速度が遅くなる。
【００５０】
そこで、プール槽９１内において、下限センサ９１ｅの検出結果により、分離器９０による分離開始時点からリンス液の液面が下限に到達するまでの時間が計測され、当該到達時間が所定の時間よりも長くなった場合、当該プール槽内のリンス液に含まれる洗浄液は飽和状態であるとみなされて、分離器９０による分離が終了する。分離器９０による分離が終了した後、プール槽９１内の分離された洗浄液は、真空蒸留器３０へ流入する。
【００５１】
上述したような処理により、リンス液に含まれる洗浄液を分離して、リンス液のみを再利用することができる。
【００５２】
さらに、上述した第１及び第２のリンス槽５１，５２は、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶように当該リンス液を振動させるための不図示の第２の超音波振動器を備えている。さらに、その第２の超音波振動器の振動によるリンス液の温度の上昇に対処するため、第１及び第２のリンス槽５１，５２は、リンス液の温度を室温に微調整するための第２の温度調整器７０を備えている。
【００５３】
ここで、第２の温度調整器７０は、第２の熱交換器７０ｈ及びポンプ７２を備えており、当該第２の熱交換器７０ｈにより第１及び第２のリンス槽５１、５２のリンス液を冷却する。そして、第２の温度調整器７０は、当該第２の熱交換器７０ｈにより冷却されたリンス洗浄液を、ポンプ７２を介して第１及び第２のリンス槽５１，５２へ流入させるか否かによって、当該各槽のリンス液の温度を室温に微調整する。
【００５４】
上述したように、第２の温度調整器７０によって、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の温度を微調整することが可能となる。
【００５５】
次に、第１及び第２の洗浄槽２１，２２、及び第１及び第２のリンス槽５１，５２の各槽内の詳細な構成について説明する。図２は、第１及び第２の洗浄槽２１，２２を説明する断面図である。また、図３は、第１及び第２のリンス槽５１，５２、及び回収槽５４を説明する断面図である。なお、図２及び図３では、オーバーフロー槽２３、５３の図示は省略されている。
【００５６】
図２に示すように、第１及び第２の洗浄槽２１，２２は、それぞれ、第１の超音波振動器２１ａ，２２ａ、第１の攪拌器２１ｂ，２２ｂ、第１の温度センサ２１ｃ，２２ｃ、及び可動式の第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄを備えている。ここで、第１の超音波振動器２１ａ，２２ａは、マスク１０の表面に洗浄液が確実に及ぶようにマスクに対して正対するように当該洗浄液に振動を与えれば良いが、マスクを複数枚ずつ洗浄するいわゆるバッチ式の場合よりも、マスクを１枚ずつ洗浄するいわゆる枚葉式の場合の方が、その第１の超音波振動器２１ａ，２２ａの効果は大きい。また、第１の攪拌器２１ｂ，２２ｂは、第１及び第２の洗浄槽２１，２２内で洗浄液を流動させるように当該洗浄液を攪拌するものである。
【００５７】
また、第１の温度センサ２１ｃ，２２ｃは、第１の温度調整器４０による第１及び第２の洗浄槽２１，２２内の洗浄液の温度調整の際に、参照温度として、当該洗浄液の温度を検出するものである。また、第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄは、マスク１０を洗浄処理する際に当該マスク１０を保持して洗浄液に浸漬する機能を有する。また、この第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄは、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶようにマスク１０全体を垂直方向に振動させる揺動機能を有していることが好ましい。
【００５８】
上述したように、第１及び第２の洗浄槽２１，２２では、第１の超音波振動器２１ａ，２２ａによる洗浄液の振動、第１の攪拌器２１ｂ，２２ｂによる洗浄液の攪拌、及び第１の液中キャリア２１ｄ，２２ｄによるマスク１０の揺動により、当該洗浄液によるマスク１０の洗浄処理が確実に行われるようになる。
【００５９】
同様に、図３に示すように、第１及び第２のリンス槽５１，５２は、それぞれ、第２の超音波振動器５１ａ、５２ａ、第２の攪拌器５１ｂ，５２ｂ、第２の温度センサ５１ｃ，５２ｃ、及び可動式の第２の液中キャリア５１ｄ，５２ｄを備えている。ここで、第２の超音波振動器５１ａ、５２ａは、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶように当該リンス液に振動を与える振動器である。また、第２の攪拌器５１ｂ，５２ｂは、第１及び第２のリンス槽５１，５２内でリンス液を流動させるように当該リンス液を攪拌するものである。
【００６０】
また、第２の温度センサ５１ｃ，５２ｃは、第２の温度調整器７０による第１及び第２のリンス槽５１，５２内のリンス液の温度調整の際に、参照温度として、当該リンス液の温度を検出するものである。また、第２の液中キャリア５１ｄ，５２ｄは、マスク１０をリンス処理する際に当該マスク１０を保持してリンス液に浸漬する機能を有する。また、この第２の液中キャリア５１ｄは、マスク１０の表面にリンス液が確実に及ぶようにマスク１０全体を垂直方向に振動させる揺動機能を有していることが好ましい。
【００６１】
また、第２のリンス槽５２と導通する回収槽５４は、第３の冷却器５５及び第３の温度センサ５４ｃを備えている。第３の冷却器５５は、第３の温度センサ５４ｃの検出結果に応じて、回収槽５４を、第１及び第２のリンス槽５１，５２よりも低い温度に冷却する。当該冷却の温度は、前述のように、例えば零下２５℃程度である。回収槽５４に導かれた蒸発したリンス液は、いわゆるトラップコイル５４ｔによって液化されて、当該回収槽５４に回収される。
【００６２】
また、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の液面より上方には、第３及び第４の温度調整器５７，５８、及び２つの第４の温度センサ５０ｃが備えられている。第３の温度調整器５７は、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の液面の上方の温度を例えば零下１０℃程度に冷却することにより、蒸発したリンス液が第１及び第２のリンス槽５１，５２の外部へ拡散することを抑止する第１の空気層５９ａを形成する。また、第４の温度調整器５８は、第１の空気層５９ａの上方の温度を、室温より若干高い温度に調整して、第１及び第２のリンス槽５１，５２の外部の大気が当該槽内に流入することを抑止する第２の空気層５９ｂを形成する。
【００６３】
ここで、第３及び第４の温度調整器５７，５８による上記温度の調整は、２つの第４の温度センサ５０ｃによる温度の検出結果に応じて行われることが好ましい。なお、第３及び第４の温度調整器５７，５８による上記温度の調整が、予め設定した所定の温度に調整される場合、２つの第４の温度センサ５０ｃのうちいずれか１つもしくは全ては、省略されてもよい。
【００６４】
上述したように、第１及び第２のリンス槽５１，５２では、第２の超音波振動器５１ａ，５２ａによるリンス液の振動、第２の攪拌器５１ｂ，５２ｂによるリンス液の攪拌、及び第２の液中キャリア５１ｄ，５２ｄによるマスク１０の揺動により、当該リンス液によるマスク１０のリンス処理が確実に行われるようになる。
【００６５】
また、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液の液面より上方に、第３及び第４の温度調整器５７，５８を備えているため、第１及び第２のリンス槽５１，５２で蒸発したリンス液を大気中に拡散させずに、回収槽５４によって回収することができる。
【００６６】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系における洗浄液の流れについて説明する。第１の洗浄槽２１、次いで第２の洗浄槽２２にマスク１０が浸漬されて洗浄処理が行われると、マスク１０から除去された有機材料が洗浄液に混ざる。そして、第１の還流管１０１を通して還流した洗浄液が第２の洗浄槽２２に流入すると、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液が第１のオーバーフロー槽２３へオーバーフローする。オーバーフローした洗浄液は真空蒸留器３０へ流入する。ここで、真空蒸留器３０内は例えば０．８気圧程度に減圧され、例えば１２０℃程度に加熱されて、洗浄液の真空蒸留が行われる。真空蒸留器３０の底部に沈殿した有機材料は、冷却釜３０ｒで冷却されて定期的に外部へ排出する。
【００６７】
この洗浄液の沸点は例えば１６０℃程度であるが、当該洗浄液を真空状態において加熱して蒸留することにより、当該沸点を低下させて、蒸留の際の加熱温度を例えば１２０℃程度に低下させることができる。また、上記蒸留は真空蒸留であるため、蒸留の過程で洗浄液に水分が含まれることはない。
【００６８】
真空蒸留されて有機材料が取り除かれた洗浄液は、第１の冷却器３１により室温に冷却され、第１の還流管１０１を通して第２の洗浄槽２２に還流する。
【００６９】
また、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液の一部は、第１の温度調整器４０に備えられた第１の熱交換器４０ｈにより冷却され、当該冷却された洗浄液が、
ポンプ４２を介して第２の洗浄槽２２へ適宜流入する。
【００７０】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の洗浄系におけるリンス液の流れについて説明する。第１のリンス槽５１、次いで第２のリンス槽５２にマスク１０が浸漬されてリンス処理が行われると、マスク１０から除去された洗浄液がリンス液に混ざる。第２の還流管１０２を通して還流したリンス液が第２のリンス槽５２に流入すると、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液が第２のオーバーフロー槽５３へオーバーフローする。
【００７１】
このオーバーフローしたリンス液は常圧蒸留器６０へ流入する。ここで、リンス液の沸点は例えば６０℃であるために、例えば１６０℃程度の沸点を有する洗浄液の蒸留のように、当該沸点を下げるための真空蒸留を行う必要がない。そこで、常圧蒸留器６０内は例えば常圧（大気圧）下で、当該沸点を超える例えば６５℃程度に加熱されて、リンス液の常圧蒸留が行われる。
【００７２】
この常圧蒸留により、リンス液に含まれる有機材料（洗浄液が付着したマスク１０を介して運ばれる）等の不純物が取り除かれる。常圧蒸留されたリンス液は、常圧蒸留される過程で水分が混合しているが、その水分よりも大きい比重を利用して、水分とリンス液とに分離される。このリンス液は、第２の冷却器６２により室温に冷却され、水分離槽８０へ流入する。
【００７３】
水分離槽８０でさらに水分が除かれたリンス液は、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２へ還流する。
【００７４】
また、常圧蒸留器６０へ流入したものの常圧蒸留されていないリンス液の一部、即ち微量の洗浄液（マスク１０を介してリンス液に混ざる）を含むリンス液は、バルブ６０ｂの開閉に応じて、プール槽９１へ流入する。リンス液がプール槽９１へ流入して当該プール槽９１の上限を満たした後、バルブ６０ｂは閉じられ、リンス液の流入が停止する。そして、プール槽９１内のリンス液は、分離器９０へ流入して、リンス液と洗浄液との分離が開始される。
【００７５】
プール槽９１内のリンス液の液面が下限センサ９１ｅにより検出された場合、再びバルブ６０ｂが開けられて常圧蒸留器６０からプール槽９１内へリンス液が流入する。
【００７６】
分離器９０によって分離されたリンス液は、その水分よりも大きい比重を利用して、水分離槽８０で水分を取り除いた後、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２へ還流する。また、分離器９０によって分離された洗浄液は、プール槽９１へ流入する。
【００７７】
このような洗浄液とリンス液との分離を繰り返してゆくに従って、プール槽９１内に蓄積されるリンス液は、分離器９０から流入してプール槽９１内で蓄積する洗浄液を多く含むようになる。そのため、当該洗浄液を含有するリンス液が分離器９０で蒸発して分離される速度が遅くなる。
【００７８】
そこで、プール槽９１のリンス液の液面に対する下限センサ９１ｅの検出結果により、分離器９０による分離開始時点からリンス液の液面が下限に到達するまでの時間が計測され、当該到達時間が所定の時間よりも長くなった場合、当該プール槽９１内のリンス液に含まれる洗浄液は飽和状態であるとみなされて、分離器９０による分離が終了する。そして、それまでは閉じていたバルブ９１ｂが開いて、プール槽９１内の分離された洗浄液は、真空蒸留器３０へ流入する。
【００７９】
また、第１及び第２のリンス槽５１，５２から蒸発したリンス液は、第３の冷却器５５によって、第１及び第２のリンス槽５１，５２よりも低い例えば零下２５℃程度に冷却された回収槽５４に導かれて、回収される。回収槽５４に回収されたリンス液は、水分離槽８０へ流入して、その１．５程度の比重を利用して水分が除かれ、第２の還流管１０２を通して第２のリンス槽５２へ還流する。
【００８０】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系について図面を参照して説明する。図４乃至図８、及び図１１乃至図１４は、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。また、図９及び図１０は、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する斜視図である。なお、図４乃至図１４では、洗浄系に係る構成要素については、搬送系の説明に必要な一部の構成要素のみを図示している。
【００８１】
図４乃至図１４に示すように、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系は、ステージ２００上に設置されて複数のマスク１０を水平方向に格納したカセット２１０と、カセット２１０から１つのマスク１０を取り出す第１のアーム２２１を有した第１の移載装置２２０と、マスク１０を掴む第２のアームを有した第２の移載装置２３０と、第１及び第２の洗浄槽２１，２２や第１及び第２のリンス槽５１，５２にマスク１０を搬送する搬送装置２４０と、を備えている。ここで、搬送装置２４０は、マスク１０を搬送する際に、マスク１０の一辺を保持するための鉤部２４２を有している。
【００８２】
次に、本実施形態に係る洗浄装置の搬送系の動作について説明する。最初に、図４に示すように、第１の移載装置２２０の第１のアーム２２１が伸縮して、カセット２１０から１つのマスク１０を取り出す。次に、図５に示すように、第１の移載装置２２０は、第１のアーム２２１を下降させてマスク１０をステージ２００の所定の位置に載置する。次に、図６に示すように、第２の移載装置２３０が、第２のアーム２３１によってマスク１０を掴み、さらに図７に示すように、マスク１０を搬送装置２４０上に載置する。
【００８３】
そして、図８に示すように、マスク１０が載置された搬送装置２４０は、垂直方向に９０度程度回転して垂直な状態に至るまで起き上がる。また、搬送装置２４０上に載置されたマスク１０も同時に、垂直方向に９０度程度回転して起き上がる。このときの搬送装置２４０及びそれに載置されたマスク１０の様子を示すと、図９の斜視図のようになる。
【００８４】
このように、搬送装置２４０及びマスク１０が垂直な状態となるために、マスク１０を構成する金属薄膜に応力（金属薄膜に対する重力を起因とする応力や液による揺動を起因とする応力）が加わって金属疲労や損傷が生じることを極力回避することが可能となる。さらに、マスク１０を垂直方向に立てかけることにより、液切れがよくなるという効果もある。
【００８５】
なお、上記搬送装置２４０とマスク１０が回転する際の角度は、必ずしも９０度程度である必要は無い。即ち、重力を起因とする応力によってマスク１０を構成する金属薄膜に金属疲労や損傷が極力生じないような角度であれば、搬送装置２４０及びマスク１０は、水平及び垂直以外の角度に至るようにして回転してもよい。
【００８６】
さらに、図１０の斜視図に示すように、搬送装置２４０に予め備えられている保持具２４１が、マスク１０の係止部１３と嵌合されるようにして当該マスク１０の係止部１３に圧着される。これにより、マスク１０は、その金属薄膜の表面に損傷を与えることなく、搬送装置２４０の保持具２４１と鉤部２４２とにより挟まれて保持される。
【００８７】
こうして搬送装置２４０上に保持されたマスク１０は、搬送装置２４０と共に、洗浄装置の洗浄系、即ち、第１及び第２の洗浄槽２１，２２（及び第１及び第２のリンス槽５１，５２）へ搬送される。ここで、当該搬送の際は、搬送装置２４０は、図１１の断面図に示すように、垂直方向及び水平方向の移動を連続的に行うことにより、同図中の軌跡１及び８のように、円弧状に近似した曲線状の所定の軌跡を以って移動する。なお、同図中のＡ，Ｂ，Ｃは洗浄液もしくはリンス液の液面より上方における垂直方向の位置（高さ）を示している。
【００８８】
そのような所定の軌跡を有した搬送装置２４０の移動により、当該移動が垂直方向から水平方向へ、もしくは水平方向から垂直方向に切り替わる際の衝撃による応力によって金属薄膜から成るマスク１０に金属疲労や損傷が生じることを極力回避することができる。
【００８９】
また、搬送装置２４０は、所定の速度を以って移動する。この所定の速度は、搬送装置２４０が移動する際の風圧や衝撃による応力によって、金属薄膜から成るマスク１０に金属疲労や損傷が生じない程度の速度であるものとする。もしくは、上記所定の速度は、搬送装置２４０が移動する際に生じる気流の乱れによって、第１及び第２のリンス槽５１，５２内のリンス液の蒸発を促さないような所定の速度であるものとする。
【００９０】
次に、図１２に示すように、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第１の洗浄槽２１上に搬送される。そして、図１３に示すように、第１の洗浄槽２１中に備えられている第１の液中キャリア２１ｄが洗浄液の液面より上方に上昇する。そして、第１の液中キャリア２１ｄが搬送装置２４０と同一の位置まで上昇した後、もしくは搬送装置２４０が洗浄液の液面の上方に上昇した液中キャリア２１ｄと同一の位置まで移動した後、搬送装置２４０の保持具２４１の圧着が解除されて、マスク１０が液中キャリア２１ｄに移し替えられる。
【００９１】
その後、図１４に示すように、マスク１０が載置された第１の液中キャリア２１ｄが、洗浄液中に下降して、マスク１０が洗浄液に浸漬される。また、マスク１０を洗浄液中から取り出すときは、図１４、図１３、図１２に示した過程を、この順で経るものとする。そして、図１２乃至図１４に示した第１の洗浄槽２１のときと同様に、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第２の洗浄槽２２上に搬送される。そして、マスク１０が第１の液中キャリア２１ｄを介して洗浄液中に浸漬された後、取り出される。
【００９２】
上述したように、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液にマスク１０を浸漬する際、搬送装置２４０を洗浄液に浸漬することなく、洗浄処理を行うことができる。即ち、搬送装置２４０に洗浄液が付着することを極力回避することができる。そのため、第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液が、搬送装置２４０を介して第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液に運ばれることを極力回避することができる。
【００９３】
次に、図１２乃至図１４に示した第１の洗浄槽２１のときと同様に、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第１のリンス槽５１上に搬送される。そして、マスク１０が第２の液中キャリア５１ｄを介してリンス液中に浸漬された後、取り出される。さらに、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、第２のリンス槽５２上に搬送される。そして、マスク１０が第２の液中キャリア５２ｄを介してリンス液中に浸漬された後、取り出される。
【００９４】
上述したように、第１及び第２のリンス槽５１，５２のリンス液にマスク１０を浸漬する際、搬送装置２４０をリンス液に浸漬することなく、リンス処理を行うことができる。即ち、搬送装置２４０にリンス液が付着することを極力回避することができる。そのため、再び洗浄処理を行う際、搬送装置２４０にリンス液が付着して、当該リンス液が第１及び第２の洗浄槽２１，２２の洗浄液に運ばれることを極力回避することができる。
【００９５】
なお、上述した搬送装置２４０は、マスク１０を洗浄液もしくはリンス液に浸漬する場合、図１１の軌跡１乃至４に従って移動することが好ましい。即ち、最初に、搬送装置２４０は、軌跡１に従ってＡからＢの高さに移動して一時停止する。その停止の際には、急激に停止するのではなく、マスクに前述の応力がかからないように徐々に減速しながら停止させるようにする。そして、不図示の液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄがＢの高さに上昇した後、搬送装置２４０は、液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄにマスク１０を受け渡しながら、ＢからＣの高さに移動する。その後、搬送装置２４０は、液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄを離れるようにして軌跡３に従って水平方向に移動する。さらに、搬送装置２４０は、Ａの高さに戻るようにして、軌跡４に従って、垂直方向に移動する。
【００９６】
また、上述した搬送装置２４０は、マスク１０を洗浄液もしくはリンス液の液中から取り出す場合、図１１の軌跡５乃至８に従って移動することが好ましい。即ち、最初に、搬送装置２４０は、軌跡５に従ってＡからＣの高さに移動する。次に、液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄに近づくようにして、軌跡６に従って水平方向に移動する。その後、搬送装置２４０は、軌跡７に従って、ＣからＢの高さに移動して一時停止する。その後、搬送装置２４０は、Ｂの高さに上昇している液中キャリア２１ｄ，２２ｄ，５１ｄ，５２ｄからマスク１０を掬い上げるようにして移し替えながら、軌跡８に従って、ＢからＡの高さに移動する。このときも、搬送装置２４０が急激に上方向に移動しないように、徐々に移動速度を増すようにすることが好ましい。そうすることにより、搬送装置２４０は、マスクに上述の応力をかけることなく移動できる。
【００９７】
ここで、搬送装置２４０は１つのマスク１０を、第１及び第２の洗浄槽２１，２２もしくは第１及び第２のリンス槽５１，５２のいずれか１つの槽へ搬送した後、当該搬送が完了したマスク１０とは異なる他のマスク１０を、その他の槽に搬送してもよい。
【００９８】
最後に、マスク１０を載置した搬送装置２４０が、図１に示した真空乾燥器９９に搬送されて乾燥される。
【００９９】
上述のように、図１１に示す軌跡１及び８において円弧をなすように移動させること、また、軌跡１においては、移動速度（下方向）を徐々に減速すること、さらに軌跡８においては、移動速度（上方向）を徐々に増すようにすることによって、マスク１０にかかる応力を減少させることができる。また、マスク１０を搬送していないときの搬送装置２４０の動きは、液槽の側壁や液中キャリアとぶつからないようにすればよく、円弧状でもよく、また、急激に移動してもよい。
【０１００】
なお、上述した実施形態では、洗浄液及びリンス液を、炭化水素系の洗浄液及びフッ素系のリンス液としたが、本発明はこれに限定されない。即ち、上記洗浄液及びリンス液は、マスク１０に対して洗浄処理（有機ＥＬ用の有機材料の除去）及びリンス処理を行うことが可能であり、炭化水素系の洗浄液及びフッ素系のリンス液と同様の沸点、及び水分に対する比重を有したものであれば、上記以外の洗浄液及びリンス液であってもよい。
【０１０１】
また、上述した実施形態では、マスク１０はニッケル（Ｎｉ）及び鉄（Ｆｅ）から成る金属薄膜であるものとしたが、本発明はこれに限定されない。即ち、本発明は、マスク１０が上記金属薄膜以外の金属、もしくは樹脂により構成される場合においても適用される。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。
【図２】本発明の実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。
【図３】本発明の実施形態に係る洗浄装置の洗浄系を説明する図である。
【図４】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図７】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図８】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する斜視図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する斜視図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る洗浄装置の搬送系を説明する断面図である。
【図１５】従来例に係る有機ＥＬ用のマスクを説明する上面図である。
【図１６】図１５のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【図１７】図１５のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。
【図１８】有機材料が蒸着されたマスクの断面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１ 有機材料 １ａ オーバーハング
１０ マスク １１ 孔 １２ 金属フレーム １３ 係止部
２１ 第１の洗浄槽 ２２ 第２の洗浄槽
２１ａ，２２ａ 第１の超音波振動器
２１ｂ，２２ｂ 第１の攪拌器
２１ｃ，２２ｃ 第１の温度センサ
２１ｄ，２２ｄ 第１の液中キャリア
３０ 真空蒸留器 ３１ 第１の冷却器
４０ 第１の温度調整器
５１ 第１のリンス槽 ５２ 第２のリンス槽
５１ａ，５２ａ 第２の超音波振動器
５１ｂ，５２ｂ 第２の攪拌器
５１ｃ，５２ｃ 第２の温度センサ
５１ｄ，５２ｄ 第２の液中キャリア
５４ 回収槽 ５５ 第３の冷却器
６０ 常圧蒸留器 ６１ 第２の冷却器
７０ 第２の温度調整器
８０ 水分離槽
９０ 分離器
９１ プール槽 ９１ｆ 上限センサ ９１ｅ 下限センサ
１０１ 第１の還流管 １０２ 第２の還流管
２００ ステージ
２１０ カセット
２２０ 第１の移載装置
２３０ 第２の移載装置
２４０ 搬送装置 ２４１ 保持具 ２４２ 鉤部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去する洗浄装置であって、
前記マスクを所定の洗浄液により洗浄処理する洗浄槽と、
前記洗浄槽からオーバーフローした前記洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器と、
前記真空蒸留器により真空蒸留された前記洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器と、
前記第１の冷却器により冷却された前記洗浄液を前記洗浄槽に還流させる第１の還流管と、
前記洗浄槽で洗浄された前記マスクを所定のリンス液によりリンス処理するリンス槽と、
前記リンス槽からオーバーフローした前記リンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器と、
前記常圧蒸留器で常圧蒸留された前記リンス液を室温に冷却する第２の冷却器と、
前記第２の冷却器により冷却された前記リンス液を前記リンス槽に還流させる第２の還流管と、を備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄槽内に、前記洗浄液を振動させる第１の超音波振動器を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄槽の洗浄液の温度を検出する第１の温度センサと、
前記第１の温度センサの検出結果に応じて前記洗浄槽内の前記洗浄液を室温に調整する第１の温度調整器と、を備えることを特徴とする請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記第１の温度調整器に第１の熱交換器を備え、
当該第１の温度調整器は、当該第１の熱交換器により冷却された前記洗浄液を前記洗浄槽へ流入させることにより当該洗浄槽内の前記洗浄液の温度を調整することを特徴とする請求項３記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記リンス槽内に、前記リンス液を振動させる第２の超音波振動器を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記リンス槽のリンス液の温度を検出する第２の温度センサと、
前記第２の温度センサの検出結果に応じて前記リンス槽内の前記リンス液を室温に調整する第２の温度調整器と、を備えることを特徴とする請求項５記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記第２の温度調整器に第２の熱交換器を備え、
当該第２の温度調整器は、当該第２の熱交換器により冷却された前記リンス液を前記リンス槽へ流入させることにより当該リンス槽内の前記リンス液の温度を調整することを特徴とする請求項６記載の洗浄装置。
【請求項８】
第３の冷却器を有した回収槽を備え、
前記回収槽は、当該第３の冷却器によって冷却されることにより、前記リンス槽内で蒸発した前記リンス液を回収し、
前記回収槽に回収された前記リンス液を、前記第２の還流管を通して前記リンス槽に還流させることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記回収槽に、当該回収槽内の温度を検出する第３の温度センサを備え、
前記第３の冷却器は、前記第３の温度センサを用いて、前記リンス槽内と前記回収槽内とで蒸気圧差が生じるように前記回収槽内を冷却することを特徴とする請求項８記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記第２の冷却器によって冷却された前記リンス液中の水分を分離する水分離槽を備え、
前記水分離槽を通した前記リンス液を、前記第２の還流管を通して前記リンス槽に還流させることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項１１】
前記回収槽によって回収された前記リンス液中の水分を分離する水分離槽を備え、
前記水分離槽を通した前記リンス液を、前記第２の還流管を通して前記リンス槽に還流させることを特徴とする請求項８または請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１２】
洗浄液を含有するリンス液を、洗浄液とリンス液とに分離する分離器と、
当該分離器により分離された洗浄液、及び前記常圧蒸留器の洗浄液を含有するリンス液を蓄積して再び前記分離器へ流入させるプール槽と、を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項１３】
前記プール槽に、前記洗浄液及び前記リンス液の液面の下限を検出する下限センサを備え、
当該下限センサの検出結果に応じて、分離された洗浄液を前記真空蒸留器へ流入させることを特徴とする請求項１２記載の洗浄装置。
【請求項１４】
前記所定のリンス液は、フッ素系溶媒であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項１】
マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去する洗浄装置であって、
前記マスクを所定の洗浄液により洗浄処理する洗浄槽と、
前記洗浄槽からオーバーフローした前記洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器と、
前記真空蒸留器により真空蒸留された前記洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器と、
前記第１の冷却器により冷却された前記洗浄液を前記洗浄槽に還流させる第１の還流管と、
前記洗浄槽で洗浄された前記マスクを所定のリンス液によりリンス処理するリンス槽と、
前記リンス槽からオーバーフローした前記リンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器と、
前記常圧蒸留器で常圧蒸留された前記リンス液を室温に冷却する第２の冷却器と、
前記第２の冷却器により冷却された前記リンス液を前記リンス槽に還流させる第２の還流管と、を備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄槽内に、前記洗浄液を振動させる第１の超音波振動器を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄槽の洗浄液の温度を検出する第１の温度センサと、
前記第１の温度センサの検出結果に応じて前記洗浄槽内の前記洗浄液を室温に調整する第１の温度調整器と、を備えることを特徴とする請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記第１の温度調整器に第１の熱交換器を備え、
当該第１の温度調整器は、当該第１の熱交換器により冷却された前記洗浄液を前記洗浄槽へ流入させることにより当該洗浄槽内の前記洗浄液の温度を調整することを特徴とする請求項３記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記リンス槽内に、前記リンス液を振動させる第２の超音波振動器を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記リンス槽のリンス液の温度を検出する第２の温度センサと、
前記第２の温度センサの検出結果に応じて前記リンス槽内の前記リンス液を室温に調整する第２の温度調整器と、を備えることを特徴とする請求項５記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記第２の温度調整器に第２の熱交換器を備え、
当該第２の温度調整器は、当該第２の熱交換器により冷却された前記リンス液を前記リンス槽へ流入させることにより当該リンス槽内の前記リンス液の温度を調整することを特徴とする請求項６記載の洗浄装置。
【請求項８】
第３の冷却器を有した回収槽を備え、
前記回収槽は、当該第３の冷却器によって冷却されることにより、前記リンス槽内で蒸発した前記リンス液を回収し、
前記回収槽に回収された前記リンス液を、前記第２の還流管を通して前記リンス槽に還流させることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記回収槽に、当該回収槽内の温度を検出する第３の温度センサを備え、
前記第３の冷却器は、前記第３の温度センサを用いて、前記リンス槽内と前記回収槽内とで蒸気圧差が生じるように前記回収槽内を冷却することを特徴とする請求項８記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記第２の冷却器によって冷却された前記リンス液中の水分を分離する水分離槽を備え、
前記水分離槽を通した前記リンス液を、前記第２の還流管を通して前記リンス槽に還流させることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項１１】
前記回収槽によって回収された前記リンス液中の水分を分離する水分離槽を備え、
前記水分離槽を通した前記リンス液を、前記第２の還流管を通して前記リンス槽に還流させることを特徴とする請求項８または請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１２】
洗浄液を含有するリンス液を、洗浄液とリンス液とに分離する分離器と、
当該分離器により分離された洗浄液、及び前記常圧蒸留器の洗浄液を含有するリンス液を蓄積して再び前記分離器へ流入させるプール槽と、を備えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項１３】
前記プール槽に、前記洗浄液及び前記リンス液の液面の下限を検出する下限センサを備え、
当該下限センサの検出結果に応じて、分離された洗浄液を前記真空蒸留器へ流入させることを特徴とする請求項１２記載の洗浄装置。
【請求項１４】
前記所定のリンス液は、フッ素系溶媒であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３のいずれかに記載の洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【公開番号】特開２００６−１００２６３（Ｐ２００６−１００２６３Ａ）
【公開日】平成１８年４月１３日（２００６．４．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２４９４３０（Ｐ２００５−２４９４３０）
【出願日】平成１７年８月３０日（２００５．８．３０）
【出願人】（０００００１８８９）三洋電機株式会社 (18,308)
【出願人】（５０４３３３１０１）株式会社 ギガテック (2)
【出願人】（５０４３３３１１２）大川興産株式会社 (2)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年４月１３日（２００６．４．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月３０日（２００５．８．３０）
【出願人】（０００００１８８９）三洋電機株式会社 (18,308)
【出願人】（５０４３３３１０１）株式会社 ギガテック (2)
【出願人】（５０４３３３１１２）大川興産株式会社 (2)
【Ｆターム（参考）】
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