【課題】液体への投入・排出時におけるワークへの負荷を低減して、ワークの折損や装置からの脱落を防止できると共に、貯留槽からリークする液体の量を削減でき、また、装置全長を短縮することができる搬送装置を提供する。
【解決手段】この搬送装置１は、板状のワークＷを貯留槽の液体に対して投入・排出を行う搬送装置において、前記ワークＷの保持を行う保持部１１、１２、２１、２２を有すると共に回転可能に支持されたワーク保持手段１０、２０を備え、前記ワークＷを保持させた前記ワーク保持手段１０、２０を回転させて該ワークＷを前記貯留槽３０の液体Ｌに対して投入・排出を行う。 （もっと読む）

【課題】表面処理に使用した処理容器を簡単な作動で洗浄できる水洗装置を、提供すること。
【解決手段】処理容器９を載せる受板７１と、受板７１に処理容器９を固定する固定機構と、受板７１及び処理容器９を共に上下反転させる反転機構と、上下反転された処理容器９を下方から覆うホッパ７４と、を備えており、上下反転された処理容器９内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器９内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置である。 （もっと読む）

【課題】溶剤蒸気の流出や引火の危険を減少し洗浄効率の良い迅速な洗浄作業を可能にする。複数の洗浄部を設けて同時に被洗浄物を挿入したり複数の洗浄部を順次移動しながら異なる洗浄作業を被洗浄物に加える。この復数の洗浄部を個々に密閉可能にするとともに被洗浄物の外部への出入口を一個とし、溶剤蒸気の外部への流出を極度に減少させる。
【解決手段】蓋体２にて密閉可能な出入口３を上端に設けた基準室１を設ける。この基準室１の外周に基準室１との連通および遮断を可能にした側室８、９を設ける。前記基準室１に被洗浄物７を出入する上下搬送機構５と、被洗浄物７を側室８、９内に搬入または基準室１に搬出可能とした水平搬送機構１１，１２とを設ける。この水平搬送機構１１、１２に接続し、側室８、９と基準室１との連通または遮断を可能とした遮断壁２６、２７とから成る被洗浄物の洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】洗浄ノズルの中心軸と被洗浄部との位置合わせを容易に行うことができる技術を提供することを課題とする。
【解決手段】連結手段５７は、支持穴５２を囲うようにして支持ブロック５３に設けられた複数個のピン穴６１〜６８と、これらのピン穴６１〜６８の一つに嵌合するように回転ブロック５３から突出されたピン７１とからなる。ピン７１をピン穴６１からピン穴６２に変更して連結することで、洗浄ノズル２５は矢印（１）のように移動する。同様にピン７１をピン穴６２から隣接するピン穴６３〜６８に変更して連結することで、洗浄ノズル２５は回転中心５４を中心にして一周する。
【効果】回転ブロックを回転させ支持ブロックに固定するだけで洗浄ノズルの位置が調整されるので、洗浄ノズルの中心軸と被洗浄部との位置合わせを容易に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液の使用量を低減させることによって付加価値を高めるように、洗浄技術を改良した開口容器の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 開口容器Ｂの内面に付着している被洗浄物を洗浄し、その洗浄を後続の個々の開口容器Ｂに順次繰り返す洗浄装置であって、１次洗浄の初期洗浄液を噴射する初期洗浄液噴射装置と、初期洗浄廃液を排出する初期洗浄廃液排出装置と、洗剤入り洗浄液を噴射する洗剤入り洗浄液噴射装置と、２次洗浄廃液を再使用洗浄廃液として保存する再使用洗浄廃液保存装置と、再使用洗浄廃液保存装置の２次洗浄廃液を再使用洗浄廃液として噴射する再使用洗浄廃液噴射装置と、２次洗浄廃液が前記再使用洗浄廃液保存装置に循環するように回収・保存され、その循環して回収・保存された２次洗浄廃液が後続の個々の開口容器Ｂの２次洗浄に循環して使用される一方、初期洗浄廃液は再使用されることなく非循環で排出されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】前工程から横姿勢で搬送されるガラス板を縦姿勢に姿勢変換をして次工程に受け渡すという一連の処理を、先行するガラス板から後続のガラス板に亘って的確に行い、無駄な待ち時間を可及的に低減させ、作業時間の短縮ひいては生産性の向上を図る。
【解決手段】横軸２廻りに一方向Ａに間欠回転する回転体３の外周部に、ガラス板４を保持する保持部５を複数配列し、回転体３の回転停止時に一の保持部５が受取エリア６で横姿勢のガラス板４を受け取り、その受け取り完了時に回転体３の回転を開始させ、その回転に伴ってガラス板４が縦姿勢で受渡エリア７に位置した時点で回転体３の回転を停止させ、その回転停止時に、一の保持部５が受渡エリア７で縦姿勢のガラス板４を受け渡し可能となると同時に、一の保持部５の回転方向後側に存する他の保持部５が受取エリア６で後続の横姿勢のガラス板４を受け取り可能となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】大口径高重量シリコン単結晶ブロックを自動で洗浄する装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】単結晶インゴットをブロック状に切断した単結晶ブロックの表面を洗浄する洗浄装置であって、少なくとも、
前記単結晶ブロックを洗浄するための洗浄槽部と、
前記単結晶ブロックを洗浄前工程部から洗浄工程部、更には洗浄後工程部へと搬送する搬送手段と、
前記単結晶ブロックの端面を把持して、前記搬送手段から前記洗浄槽部内へロードし、前記洗浄槽部内の洗浄槽に浸漬して前記単結晶ブロックを洗浄し、洗浄工程終了後に前記洗浄槽部から前記搬送手段へアンロードする把持ロボットと、
洗浄後の前記単結晶ブロックの表面を乾燥させる乾燥手段と
を具備するものであることを特徴とする単結晶ブロックの洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置１は、洗浄液を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体Ｗを保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置２０と、洗浄槽１０の底部に設けられた振動子４０と、振動子４０に超音波振動を生じさせる超音波発振装置４２とを備えている。洗浄槽１０内には、被処理体Ｗを保持する側部保持部材５０が設けられている。また、被処理体保持装置２０は、駆動装置２６によって側方に移動するようになっている。制御装置４４は、被処理体Ｗを側部保持部材５０に保持させた後、被処理体保持装置２０を側方へ移動させるように駆動装置２６を制御すると共に、振動子４０に超音波振動を生じさせて振動子４０からの超音波振動を被処理体Ｗに伝播させるようになっている。 （もっと読む）

【課題】粉粒体から障害物質を効率的に除去するとともに、難溶性の炭酸塩が析出してスケールによる配管の詰まりやポンプの故障等の虞を低減することができる粉粒体処理システムを提供する。
【解決手段】
粉粒体を洗浄しながら微粒物と中粒物に分級する湿式選別手段２から排出された微粒物と洗浄排水を固液分離する微粒物分離手段４と、微粒物分離手段４で固液分離された洗浄排水を湿式選別手段２へ返送する第一の循環経路３と、湿式選別手段２で分級された中粒物を再洗浄する再洗浄手段５から排出された洗浄排水を再洗浄手段５へ返送する第二の循環経路７と、再洗浄手段５に新規水を供給する新規水供給経路８と、再洗浄手段５から排出された洗浄排水の一部を、洗浄水として第一の循環経路３に供給する洗浄排水供給経路９と、湿式選別手段２から排出された洗浄排水に含まれる特定物質を除去するための炭酸イオンを生成する炭酸イオン生成手段６を備える。 （もっと読む）

【課題】 鋼材の湿式化学表面処理後の対向多段式洗浄による水洗において、洗浄水量を大幅に削減し、廃水処理を解消する。
【解決手段】 １）洗浄排水は全量上流の化学処理槽に転用して廃水を無くする。２）必要洗浄水準（＝化学処理槽濃度／最終洗浄濃度）に対応して水量比ｋ（＝洗浄水量／付着水量）と洗浄段数ｎの関係を特定し、３）ｋ≧１．６とし、４）スプレイ洗浄を効果的に組み込むことにより過大な設備にならず既存設備の改造により実施することができる。処理液の節減と言う付随効果も得られる。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【解決手段】 パレット洗浄システム２は、水平状態のパレット１を起立状態とする起立部Ｃと、パレットに洗浄液を噴射する洗浄部Ｄと、パレットに付着した洗浄液を脱水する脱水部Ｅと、パレットを乾燥させる乾燥部Ｆとを備えている。
このうち、上記乾燥部Ｆは、乾燥手段１９を備えた乾燥室２０と、複数の起立状態のパレットを所定間隔で保持して、該パレットを載置面に直交する方向に搬送する主コンベヤ（第７コンベヤ２２）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤにパレットを供給する供給コンベヤ（第６コンベヤ２１）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤからパレットを排出する排出コンベヤ（第８コンベヤ２３）とを備えている。
【効果】 パレットの洗浄から乾燥までを効率的に行うとともに設置面積を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】最外周誘導壁によって容器の開口部を開閉することにより、占有面積の小型化、及び処理の短時間化を実現する。
【解決手段】回転式処理装置１に、容器１Ａ、回転保持機構７、処理液吐出アーム３０、誘導壁１６，１７、及びエアシリンダ２２，２３を設けた。回転保持機構７は、容器１Ａの開口部３７から搬入された被処理基板３を水平に保持して回転させる。誘導壁１６，１７は、回転保持機構７の外周側に同心状に配置され、処理液吐出アーム３０から吐出された処理液の廃液を分別して排液する。エアシリンダ２２，２３は、誘導壁１６，１７のそれぞれを上端部が回転保持機構に保持された被処理基板３よりも上方に位置する回収位置と下方に位置する退避位置との間で昇降させる。誘導壁１６，１７のうち最外周誘導壁１７は、回収位置で開口部３７を閉鎖し、退避位置で開口部３７を開放する。 （もっと読む）

電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
（もっと読む）

【課題】体積の異なるびんをより効率的に洗浄し得る洗びん方法を提供する。
【解決手段】ラベルが貼付されたびんを洗浄槽（２、３）内の洗浄液に浸漬してびんからラベルを剥離し、ラベル滓を洗浄液と共に洗浄槽からオーバーフローにより排出してクッションタンク（６）に移送し、およびクッションタンク（６）からラベル滓および洗浄液を抜き出して濾過し、ラベル滓が除去された洗浄液を洗浄槽（２、３）に戻す洗びん方法において、この洗びん方法を第１体積のびんに対して実施した後、第１体積と異なる第２体積のびんに対して実施する際に、第１体積より第２体積が大きいときは、洗浄槽（２，３）内の洗浄液を、その体積差に対応する分だけ多くオーバーフローにより排出してクッションタンク（６）に貯留し、第１体積より第２体積が小さいときは、濾過によりラベル滓が除去された洗浄液を、その体積差に対応する分だけ多く洗浄槽（２，３）に戻す。 （もっと読む）

【課題】洗浄したい被洗浄部材内に収まる長さの気泡発生部材を差し込み、気泡発生部材の泡発生部から発生する泡状現象を利用して被洗浄部材の内面を洗浄するようにした被洗浄部材内面の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】密閉された容器２１と、容器に充填された洗浄液２２と、容器の内圧を負圧にする真空ポンプ２３と、容器内を負圧にしたときに気泡を発生する気泡発生部１７ｃを有する気泡発生部材１７を備え、容器内の洗浄液に浸漬され内面７ｃを洗浄すべき被洗浄部材７の内部にその内面７ｃと隙間を有した状態で気泡発生部材１７を挿入し、気泡発生部１７ｃから発生した泡により被洗浄部材の内面を積極的に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】収容部材内の薬液ミストを含む雰囲気が処理室内に拡散することを防止できる、基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ２内において、ウエハＷを保持するウエハ回転機構３は、カップ８内に収容された状態で設けられている。カップ８の上端部には、カーテン形成ノズル３０が設けられている。また、処理チャンバ２内には、ウエハＷの表面にＳＰＭを供給するための移動ノズル１４が設けられている。少なくともウエハＷの表面へのＳＰＭの供給中は、カップ８の上方に水カーテンＷＣが形成され、水カーテンＷＣによって、カップ８の内側の空間を含む水カーテンＷＣの内側の空間と水カーテンＷＣの外側の空間とが遮断される。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）

【課題】基板の処理不良を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理部のスピンチャック２１には、スピンベース２２が回転可能に設けられている。スピンベース２２上には、基板Ｗを保持するための複数の保持部２３が設けられている。各保持部２３は、保持部材５２および支持ピン８１を有する。基板Ｗに処理液（薬液）が供給される際には、基板Ｗが支持ピン８１上に支持された状態でスピンベース２２が約３００ｒｐｍで回転される。基板Ｗにリンス液が供給される際には、基板Ｗが保持部材５２により保持された状態でスピンベース２２が約１０００ｒｐｍで回転される。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式で基板を薬液処理した後にリンス処理し乾燥処理する場合に、スループットおよびメンテナンス性を向上させることができるシステムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを１枚ずつ薬液およびリンス液で処理する薬液処理部３８およびリンス処理部４０を連接して処理ユニット１４ａ〜１４ｃを構成し、１つの装置ベース上に複数の処理ユニット、基板搬送部２２および乾燥ユニット１６を設ける。処理ユニット１４ａ〜１４ｃにおいて基板Ｗを薬液処理部３８で薬液処理した後にリンス処理部４０でリンス処理する一連の処理を処理単位とし、１枚の基板に対し一連の処理を複数回行うときは、１つの処理ユニットから別の処理ユニットへ基板を順次搬送して、処理ユニットの設置数に対応する回数以内で適宜必要とする回数だけ処理単位を繰り返してから、基板を乾燥ユニット１６へ搬送して乾燥処理する （もっと読む）