超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体
【課題】被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置１は、洗浄液を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体Ｗを保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置２０と、洗浄槽１０の底部に設けられた振動子４０と、振動子４０に超音波振動を生じさせる超音波発振装置４２とを備えている。洗浄槽１０内には、被処理体Ｗを保持する側部保持部材５０が設けられている。また、被処理体保持装置２０は、駆動装置２６によって側方に移動するようになっている。制御装置４４は、被処理体Ｗを側部保持部材５０に保持させた後、被処理体保持装置２０を側方へ移動させるように駆動装置２６を制御すると共に、振動子４０に超音波振動を生じさせて振動子４０からの超音波振動を被処理体Ｗに伝播させるようになっている。
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置１は、洗浄液を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体Ｗを保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置２０と、洗浄槽１０の底部に設けられた振動子４０と、振動子４０に超音波振動を生じさせる超音波発振装置４２とを備えている。洗浄槽１０内には、被処理体Ｗを保持する側部保持部材５０が設けられている。また、被処理体保持装置２０は、駆動装置２６によって側方に移動するようになっている。制御装置４４は、被処理体Ｗを側部保持部材５０に保持させた後、被処理体保持装置２０を側方へ移動させるように駆動装置２６を制御すると共に、振動子４０に超音波振動を生じさせて振動子４０からの超音波振動を被処理体Ｗに伝播させるようになっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄液に浸漬された被処理体を、超音波を利用して洗浄する超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体ウエハまたはＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体を、洗浄槽に貯留された純水または薬液等の洗浄液に浸漬して、超音波を利用して超音波洗浄（メガソニック処理を含む）を行う超音波洗浄装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この超音波洗浄装置においては、洗浄槽の底部に超音波振動可能な振動子が取り付けられ、この振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置が接続されている。
【０００３】
このような超音波洗浄装置において被処理体を洗浄する場合、被処理体を洗浄槽内の洗浄液に浸漬させ、洗浄槽の底部に取り付けられた振動子に超音波発振装置によって超音波振動を生じさせる。このことにより、洗浄液に超音波振動が伝播されて被処理体に下方から超音波が照射され、被処理体に付着していたパーティクル等が除去される。このようにして、被処理体が超音波洗浄される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２０９０８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような超音波洗浄装置において被処理体を超音波洗浄する際、被処理体はウエハボードによって保持されている。この場合、被処理体の下方にウエハボードの保持棒が存在している。このことにより、下方から照射される超音波振動がウエハボードの保持棒によって遮蔽される。すなわち、振動子から伝播される超音波振動は、直進性が強い。このことにより、被処理体のうちウエハボードの保持棒の上方領域に超音波振動が伝播されにくくなり、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することが難しいという問題があった。
【０００６】
本発明は、このようなことを考慮してなされたものであり、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、洗浄液を貯留する洗浄槽と、前記洗浄槽内に挿入可能に設けられ、被処理体を保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置と、前記洗浄槽の底部に設けられた振動子と、前記振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置と、前記洗浄槽内に設けられ、前記被処理体を保持する側部保持部材と、前記被処理体保持装置を側方に移動させる駆動装置と、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させた後、前記被処理体保持装置を側方へ移動させるように前記駆動装置を制御すると共に、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体に伝播させるように前記超音波発振装置を制御することを特徴とする超音波洗浄装置を提供する。
【０００８】
なお、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成されており、前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、当該被処理体保持装置を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置が、保持位置から側方位置まで移動し、被処理体保持装置が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【０００９】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、前記各被処理体保持部は、個別に移動自在となっているようにしてもよい。
【００１０】
また、上述した超音波洗浄装置において、一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動するようにしてもよい。
【００１１】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動させ、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置を当該下降位置から当該側方位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。
【００１２】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させ、当該被処理体保持装置を当該側方位置から当該下降位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。
【００１３】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体を引き受けて保持する受渡位置と、前記被処理体から離れて退避する退避位置との間を移動するようにしてもよい。
【００１４】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有しているようにしてもよい。
【００１５】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成され、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有しており、前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、前記被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該一方の被処理体保持部が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置の少なくとも一方の被処理体保持部が、保持位置から側方位置まで移動し、当該一方の被処理体保持部が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうちこの一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００１６】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有しており、前記駆動装置は、前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動させると共に、前記第２被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動させるように構成され、前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、前記被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部を前記第２保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部を前記第１保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第１保持位置に戻すように前記駆動装置を制御すると共に、当該第１被処理体保持部が少なくとも当該第１側方位置にあるとき、および当該第２被処理体保持部が少なくとも当該第２側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置を制御するようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材および第１被処理体保持部に保持され、被処理体保持装置の第２被処理体保持部が、第２保持位置から第２側方位置まで移動し、その後に第２保持位置に戻り、更に、第１被処理体保持部が、第１保持位置から第１側方位置まで移動し、その後に第１保持位置に戻り、第１被処理体保持部が少なくとも第１側方位置にあるとき、および第２被処理体保持部が少なくとも第２側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち第１被処理体保持部および第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００１７】
また、本発明は、被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする超音波洗浄方法を提供する。
【００１８】
なお、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、前記被処理体保持装置が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置が、保持位置から側方位置まで移動し、被処理体保持装置が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００１９】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、前記各被処理体保持部は、個別に移動自在になっているようにしてもよい。
【００２０】
また、上述した超音波洗浄方法において、一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動するようにしてもよい。
【００２１】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動して、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動し、前記被処理体保持装置を前記下降位置から前記側方位置へ移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせるようにしてもよい。
【００２２】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させる工程を更に備え、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせるようにしてもよい。
【００２３】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、前記被処理体から離れて退避する退避位置から当該被処理体を引き受けて保持する受渡位置に移動して、当該被処理体を保持するようにしてもよい。
【００２４】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有し、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、一対の前記挟持部を当該被処理体の前記側面に当接させて当該被処理体を挟持するようにしてもよい。
【００２５】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、前記被処理体保持装置の前記一方の被処理体保持部が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置の少なくとも一方の被処理体保持部が、保持位置から側方位置まで移動し、当該一方の被処理体保持部が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうちこの一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００２６】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有し、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、当該被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動し、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動し、その後に当該第１保持位置に戻し、前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部が少なくとも前記第１側方位置にあるとき、および前記第２被処理体保持部が少なくとも前記第２側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させるようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材および第１被処理体保持部に保持され、被処理体保持装置の第２被処理体保持部が、第２保持位置から第２側方位置まで移動し、その後に第２保持位置に戻り、更に、第１被処理体保持部が、第１保持位置から第１側方位置まで移動し、その後に第１保持位置に戻り、第１被処理体保持部が少なくとも第１側方位置にあるとき、および第２被処理体保持部が少なくとも第２側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち第１被処理体保持部および第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００２７】
さらに、本発明は、超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、当該超音波洗浄方法は、被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする記録媒体を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、被処理体を側部保持部材に保持させた後、被処理体保持装置を側方へ移動させて、振動子からの超音波振動を、被処理体に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄装置を示す図である。
【図２】図２は、図１の側方断面図である。
【図３】図３は、図１の平面図である。
【図４】図４は、本発明の第１の実施の形態において、排出弁機構を示す図である。
【図５】図５は、本発明の第１の実施の形態において、被処理体保持装置の構成を示す図である。
【図６】図６は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、洗浄槽内にウエハが挿入される状態を示す図である。
【図７】図７は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、洗浄槽内の洗浄液にウエハが浸漬された状態を示す図である。
【図８】図８は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハがウエハボードからバスハンドに引き渡される状態を示す図である。
【図９】図９は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハボードが下降位置に移動した状態を示す図である。
【図１０】図１０は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハボードが側方位置に移動した状態を示す図である。
【図１１】図１１は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハボードが下降位置に移動した状態を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハがバスハンドからウエハボードに引き渡される状態を示す図である。
【図１３】図１３は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、バスハンドが退避位置に移動した状態を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、洗浄槽内からウエハが取り出された状態を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明の第２の実施の形態における超音波洗浄方法において、第２ウエハ保持部が第２下降位置に移動した状態を示す図である。
【図１６】図１６は、本発明の第２の実施の形態における超音波洗浄方法において、第２ウエハ保持部が第２側方位置に移動した状態を示す図である。
【図１７】図１７は、本発明の第２の実施の形態における超音波洗浄方法において、第２ウエハ保持部が第２下降位置に移動した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
第１の実施の形態
以下、図面を参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。図１乃至図１４は、第１の実施の形態における超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の第１の実施の形態を説明するための図である。
【００３１】
まず、図１により超音波洗浄装置１の全体構成について説明する。
【００３２】
図１に示すように超音波洗浄装置１は、洗浄液（例えば純水または薬液）を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体（例えば、半導体ウエハ、以下単にウエハＷと記す）を保持して洗浄液に浸漬するウエハボード（被処理体保持装置）２０とを備えている。このうち洗浄槽１０の底板（底部）１４の外面に振動子４０が設けられている。振動子４０に超音波発振装置４２が接続され、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成されている。
【００３３】
洗浄槽１０に、洗浄槽１０内に洗浄液を供給する洗浄液供給装置６０が設けられ、洗浄槽１０の底板１４に、洗浄液を排出する排出弁機構８０が設けられている。
【００３４】
次に、図１乃至図３を用いて各部の詳細構造について説明する。
【００３５】
図１乃至図３に示すように、洗浄槽１０は、４つの側壁１１と、各側壁１１の下端に、パッキング１２を介して気水密（気密・水密）に密接されるとともに固定ボルト１３により固定された底板１４とを有し、略直方体状に形成されている。このうち側壁１１の上端に切欠溝１５が形成され、洗浄液の液面が側壁１１の上端に達した場合に洗浄液が洗浄槽１０から流出するようになっている。
【００３６】
洗浄槽１０の側壁１１は、耐薬品性に富む材料、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）あるいはフッ素樹脂（ＰＦＡ）等にて形成されている。また、底板１４は、耐薬品性および音波透過性に富む材料、例えばアモルファスカーボンあるいは炭化ケイ素等のカーボン系材料にて形成されている。このことにより、薬液として後述するアンモニア過水、塩酸過水、あるいは希フッ酸等を用いる場合においても、洗浄槽１０の側壁１１および底板１４は耐薬品性を有することができる。このため、側壁１１および底板１４が洗浄液によって溶解することを防止し、メタルコンタミ等が発生することを防止することができる。また、底板１４の材料は、上述したように音波透過性をも有しているため、振動子４０により生じた超音波振動を確実に透過することができる。
【００３７】
洗浄槽１０は容器１６に収容されている。この容器１６の底部に、洗浄槽１０の側壁１１の上端に形成された切欠溝１５から流出する洗浄液を回収するパン（図示せず）が設けられ、このパンに、回収された洗浄液を排出するドレン（図示せず）が設けられている。
【００３８】
図１、図２、および図５に示すように、ウエハボード２０は、複数枚（例えば５０枚）のウエハＷを保持する一対のウエハ保持部（被処理体保持部）２１ａ、２１ｂと、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂにそれぞれ連結され、略垂直方向に延びる一対の基部２２ａ、２２ｂとを有している。このうち一対のウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙ（図６乃至図１４参照）に対して略対称的に配置されている。
【００３９】
各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、略水平方向に延びる２つの保持棒２３ａ、２３ｂと、各保持棒２３ａ、２３ｂの先端に連結された連結部材２４ａ、２４ｂとからそれぞれなっている。各保持棒２３ａ、２３ｂの基端には、基部２２ａ、２２ｂがそれぞれ連結されている。各保持棒２３ａ、２３ｂには、ウエハＷに係合自在な複数の保持溝２５ａ、２５ｂ（図１および図４参照）がそれぞれ形成され、各保持溝２５ａ、２５ｂは、略同一形状を有し、互いに整列されている。このような保持溝２５ａ、２５ｂにウエハＷを係合させることにより、ウエハＷを保持棒２３ａ、２３ｂに対して略直交する方向、すなわち垂直方向に保持することができるように構成されている。
【００４０】
ここで、ウエハボード２０の各部は、耐薬品性に富む石英を用いて形成され、各々の表面にはテフロン（登録商標）コーティングまたはＳｉＣ（炭化ケイ素）コーティングが施されている。
【００４１】
ウエハボード２０に、ウエハボード２０を昇降駆動する駆動装置２６が連結されている。すなわち、駆動装置２６は、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂをそれぞれ昇降させる昇降駆動部２７ａ、２７ｂと、各昇降駆動部２７ａ、２７ｂと各基部２２ａ、２２ｂとの間にそれぞれ連結され、昇降駆動部２７ａ、２７ｂの駆動力を伝達する昇降駆動力伝達部２８ａ、２８ｂとを有している。このうち各昇降駆動力伝達部２８ａ、２８ｂは、アダプタ２９ａ、２９ｂを介して基部２２ａ、２２ｂにそれぞれ連結されている。このようにして、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、互いに個別に移動自在（昇降自在）に構成されている。なお、各昇降駆動部２７ａ、２７ｂを用いることにより、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂの位置関係を調整することも可能になっている。
【００４２】
各昇降駆動部２７ａ、２７ｂに、制御装置４４が接続され、制御装置４４は、各昇降駆動部２７ａ、２７ｂを同期して駆動させるように構成されている。このようにして、昇降駆動部２７ａ、２７ｂは、制御装置４４からの制御信号に基づいて、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降させてウエハＷを洗浄槽１０内に挿入して洗浄液に浸漬する、あるいはウエハ保持部２１ａ、２１ｂを上昇させてウエハＷを洗浄槽１０から搬出するように構成されている。
【００４３】
また、ウエハボード２０は、洗浄槽１０内においてウエハＷを保持する保持位置（後述するバスハンド５０にウエハＷを引き渡す位置）と、この保持位置のわずかに下方に位置する下降位置との間を、駆動装置２６により略垂直方向に移動自在（昇降自在）に構成されている。すなわち、制御装置４４からの制御信号に基づいて、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、昇降駆動部２７ａ、２７ｂにより保持位置と下降位置との間を移動するようになっている。
【００４４】
また、ウエハボード２０は、下降位置と、下降位置（保持位置）の側方に位置する側方位置との間を略水平方向にも移動自在に構成されており、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、略水平方向においても互いに個別に移動自在に構成されている。なお、本明細書における「側方」という文言は、厳密な水平方向を意味するのではなく、例えば、ウエハＷのうち振動子４０から伝播される超音波振動がウエハ保持部２０ａ、２０ｂにより遮蔽される領域から、当該領域に超音波振動が伝播される程度にウエハ保持部２０ａ、２０ｂが変位可能であれば、水平方向に対して斜めの方向を含むものとして使用される。
【００４５】
ウエハボード２０に連結された駆動装置２６は、ウエハボード２０を下降位置と側方位置との間で移動させるようにもなっている。すなわち、駆動装置２６は、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置と側方位置との間でそれぞれ移動させる側方移動駆動部３０ａ、３０ｂと、この側方移動駆動部３０ａ、３０ｂと昇降駆動力伝達部２８ａ、２８ｂとの間にそれぞれ連結され、側方移動駆動部３０ａ、３０ｂの駆動力を伝達する側方駆動力伝達部３１ａ、３１ｂとを有している。
【００４６】
各側方移動駆動部３０ａ、３０ｂに、制御装置４４が接続されている。このようにして、側方移動駆動部３０ａ、３０ｂは、制御装置４４からの制御信号に基づいて、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置と側方位置との間でそれぞれ移動させるように構成されている。この場合、制御装置４４は、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動させるようになっている。
【００４７】
図２、および図６乃至図１４に示すように、洗浄槽１０内に、ウエハボード２０からウエハＷを引き受けて保持するバスハンド（側部保持部材）５０が設けられている。このバスハンド５０は、洗浄槽１０内において、ウエハＷを引き受けて保持する受渡位置と、ウエハＷから離れて退避する退避位置との間を略水平方向に移動可能に構成されている。すなわち、バスハンド５０は、ウエハボード２０に保持されたウエハＷの両側方に位置し、ウエハＷの側面に当接してウエハＷを挟持する一対の挟持部５１を有している。各挟持部５１は、ウエハＷの側面に当接する２つの当接棒５２と、各当接棒５２を連結する連結部材５３とを含んでいる。このうち各挟持部５１の２つの当接棒５２は、ウエハＷの中心を通る水平方向軸線Ｘ（図６乃至図１４参照）に対して対称的に配置されるとともに、ウエハＷの水平方向軸線ＸとウエハＷの外縁との交点の近傍に配置されている。このことにより、ウエハＷに、下方から伝播されてくる超音波振動を各挟持部５１によって遮蔽する領域が形成されることを防止することができ、ウエハＷの全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００４８】
ここで、バスハンド５０の各部は、ウエハボード２０と同様に、耐薬品性に富む石英を用いて形成され、各々の表面にはテフロンコーティングまたはＳｉＣコーティングが施されている。
【００４９】
また、各挟持部５１には、各挟持部５１を受渡位置と退避位置との間で連動させるハンド駆動部（図示せず）が連結され、ハンド駆動部に制御装置４４が連結されている。このように、ハンド駆動部は、制御装置４４からの制御信号に基づいて、各挟持部５１を受渡位置と退避位置との間で連動させるように構成されている。
【００５０】
洗浄液供給装置６０は、洗浄槽１０の対向する側壁１１に沿って設けられた２つの洗浄液供給ノズル６１を有している。各洗浄液供給ノズル６１は、洗浄槽１０の側壁１１に略水平方向に延びる管状ノズル本体６１ａと、この管状ノズル本体６１ａに形成され、長手方向に沿って適宜間隔をおいて配設された多数の第１ノズル孔６１ｂおよび第２ノズル孔６１ｃとを含んでいる。このうち、第１ノズル孔６１ｂは、ウエハＷの中心側に向けて洗浄液を噴射するように構成され、第２ノズル孔６１ｃは、洗浄槽１０の底板１４に向けて洗浄液を噴射するように構成されている。
【００５１】
洗浄液供給ノズル６１に洗浄液供給管６２を介して切換弁６３が連結されている。この切換弁６３に、純水供給管６４を介して純水供給源６５が連結されるとともに、薬液供給管６６を介して薬液供給源（薬液タンク）６７が連結されている。切換弁６３は制御装置４４に接続され、制御装置４４は、切換弁６３を介して、洗浄液供給管６２に連通させる供給管（純水供給管６４または薬液供給管６６）の切り換えを制御するようになっている。
【００５２】
純水供給管６４に、純水供給管６４を通る純水の流量を調整する開閉弁６８が設けられている。この開閉弁６８は制御装置４４に接続され、制御装置４４は、開閉弁６８を介して、純水供給源６５から洗浄槽１０への純水の供給を制御するようになっている。
【００５３】
薬液供給管６６に、薬液を洗浄槽１０に供給するための薬液ポンプ６９が設けられている。この薬液ポンプ６９は制御装置４４に接続され、制御装置４４は、薬液ポンプ６９を介して、薬液タンク６７から洗浄槽１０への薬液の供給を制御するようになっている。ここで、薬液としては、洗浄の目的に応じて、アンモニア過水（ＳＣ１、具体的にはＮＨ４ＯＨ／Ｈ２Ｏ２／Ｈ２Ｏ）、塩酸過水（ＳＣ２、具体的にはＨＣｌ／Ｈ２Ｏ２／Ｈ２Ｏ）、あるいは希フッ酸（ＤＨＦ）等が使用される。
【００５４】
なお、このような薬液ポンプ６９を用いることなく、薬液タンク６７内に、制御装置４４からの制御信号に基づいて窒素（Ｎ２）ガス等を供給して薬液を薬液供給管６６に供給するように構成してもよい。また、切換弁６３に連結される薬液タンク６７は１つに限られることはなく、複数の薬液タンク６７が連結されていてもよい。この場合、複数種類の薬液を洗浄槽１０に供給することが可能になる。
【００５５】
図３および図４に示すように、洗浄槽１０の底板１４に、洗浄液を排出する２つの排出弁機構８０が設けられている。各排出弁機構８０は、底板１４の外面に取り付けられた被当接部８１と、この被当接部８１に気水密に当接自在な弁体８２と、この弁体８２を駆動するピストンロッド８３を含むシリンダ装置８４とを有している。被当接部８１および底板１４に、排液口８５が貫通して形成されている。シリンダ装置８４に制御装置４４が接続され、シリンダ装置８４は、制御装置４４からの制御信号に基づいて、弁体８２を駆動するように構成されている。なお、排液口８５は、ウエハボード２０の基部の直下位置に配置されている。このことにより、洗浄槽１０の底板１４の外面うちウエハＷに対応する位置に、排出弁機構８０が配置されることがなく、振動子４０を取り付けることができ、ウエハＷを確実に洗浄することができる。なお、本実施の形態においては、排液口８５は矩形状に形成されているが、円形等の任意の形状にすることもできる。また、洗浄槽１０に設ける排出弁機構８０の個数は、２つに限られることはなく、１つまたは３つ以上とすることもできる。
【００５６】
図１および図２に示すように、洗浄槽１０の振動子４０は、複数の振動子単体４１からなり、洗浄槽１０の底板１４の外面に、複数の振動子単体４１が取り付けられている。各振動子単体４１は、結線されて振動子４０として構成され超音波発振装置４２に接続されている。なお、洗浄槽１０に取り付けられる振動子単体４１の個数は、洗浄槽１０の底板１４の外面のうち、ウエハボード２０に保持されるウエハＷに対応する位置を占めることができれば１つでも良く、任意の個数とすることもできる。
【００５７】
振動子４０に、超音波発振装置４２が接続され、この超音波発振装置４２に、電力を供給する駆動電源部４３が接続されている。また、超音波発振装置４２に制御装置４４が接続され、超音波発振装置４２は、制御装置４４からの指示に基づいて、高周波駆動電力（駆動信号）を振動子４０に送るように構成されている。
【００５８】
制御装置４４は、ウエハＷをウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡した後、ウエハボード２０のウエハ保持部２１ａ、２１ｂを保持位置から下降位置に移動させ、下降位置と側方位置との間で略対称的に連続移動させる。そして、制御装置４４は、下降位置と側方位置との間で移動している間、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成されている。このようにして、振動子４０からの超音波振動が、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播され、ウエハＷの全域に均一に超音波振動を伝播させるようになっている。また、制御装置４４は、ウエハＷの超音波洗浄が終了した後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置を介して保持位置に移動させ、ウエハＷをバスハンド５０からウエハボード２０に引き渡すように構成されている。
【００５９】
本実施の形態においては、制御装置４４はコンピュータを含み、このコンピュータが記録媒体４５に予め記憶されたプログラムを実行することによって、超音波洗浄装置１を用いたウエハＷの洗浄が実施されるようになっている。
【００６０】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわち本実施の形態による超音波洗浄方法について図６乃至図１４を用いて説明する。
【００６１】
まず、洗浄槽１０に洗浄液が貯留される（第１工程）。この場合、まず、図１に示すように、制御装置４４からの制御信号を受けて開閉弁６８が開き、純水供給源６５から切換弁６３を介して洗浄液供給ノズル６１に純水が供給される。この際、切換弁６３は、制御装置４４により制御されて、洗浄液供給管６２に純水供給管６４が連通される。
【００６２】
純水を供給した後、制御装置４４からの制御信号を受けて薬液ポンプ６９が駆動され、薬液タンク６７から切換弁６３を介して洗浄液供給ノズル６１に薬液が供給される。この際、切換弁６３は制御装置４４により制御され、洗浄液供給管６２に薬液供給管６６が連通される。
【００６３】
貯留された洗浄液の液面が、洗浄槽１０の側壁１１の上端に設けられた切欠溝１５に達すると、洗浄液は、この切欠溝１５を通って洗浄槽１０から流出する。流出した洗浄液は、洗浄槽１０を収容する容器１６のパン（図示せず）に回収され、図示しないドレンから容器１６外部に排出される。この後においても、薬液タンク６７からの薬液の供給は継続される。
【００６４】
次に、洗浄槽１０内の洗浄液にウエハＷが浸漬される（第２工程）。この場合、まず、図示しない搬送機構により搬送された複数枚、例えば５０枚のウエハＷが、ウエハボード２０の保持棒２３ａ、２３ｂに形成された保持溝２５ａ、２５ｂに係合して、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂに保持される（図６参照）。次に、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハＷが保持されたウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降し、洗浄槽１０内に挿入される（図７参照）。このようにして、洗浄液にウエハＷが浸漬される。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷを保持する保持位置に位置している。
【００６５】
次に、ウエハＷがウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡される（第３工程）。
この場合、まず、制御装置４４からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部５１が退避位置から受渡位置に移動し、各挟持部５１がウエハＷの側面に当接する（第３工程、図８参照）。このことにより、ウエハＷは一対の挟持部５１により挟持され、バスハンド５０に保持される。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷを保持する保持位置に維持されている。
【００６６】
次に、ウエハボード２０が、ウエハＷを保持していた位置から下降する（第４工程）。
すなわち、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降する（図９参照）。このことにより、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷから離れる。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、保持位置よりも下方に位置する下降位置にある。
【００６７】
次に、ウエハボード２０が、下降位置と側方位置との間を連続して移動する（第５工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて側方移動駆動部３０ａ、３０ｂが駆動され、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動する。すなわち、一方のウエハ保持部２１ａは、図９における左方向に移動するとともに、他方のウエハ保持部２１ｂは右方向に移動して、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが側方位置に達する（図１０参照）。その後、左方向に移動した一方のウエハ保持部２１ａは右方向に移動するとともに、右方向に移動した他方のウエハ保持部２１ｂは左方向に移動し、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは下降位置に戻る（図１１参照）。このようにしてウエハ保持部２１ａ、２１ｂは下降位置と側方位置との間を略対称的に連続して往復移動する。すなわち、後述する超音波洗浄する工程（第６工程）が終了した時点で、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、下降位置に戻る。なお、下降位置と側方位置との間をウエハ保持部２１ａ、２１ｂが往復する回数は、１回に限られることはなく、複数の回数としてもよい。
【００６８】
ウエハボード２０が下降位置と側方位置との間を連続して移動している間、制御装置４４は振動子４０に超音波振動を生じさせる（第６工程）。この場合、洗浄槽１０の振動子４０に超音波発振装置４２から高周波駆動電力（駆動信号）を送ることにより、この振動子４０に超音波振動を生じさせて、ウエハＷが超音波洗浄される。このようにウエハボード２０を移動しながら超音波振動を生じさせることにより、超音波洗浄を短時間で効率良く行うことができる。また、この間、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、保持位置よりも下方に位置する下降位置と側方位置との間を連続して移動している。このことにより、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を移動している間、ウエハＷに接触することを確実に防止することができる。
【００６９】
振動子４０が超音波振動している間、この超音波振動は、洗浄槽１０の底板１４を透過して洗浄液に伝播される。このようにして、ウエハＷに付着したパーティクル等が除去される。この間、洗浄槽１０内に薬液が供給され続けている。このことにより、ウエハＷから除去されて洗浄液の液面に浮かんだパーティクルを、オーバーフローする洗浄液とともに洗浄槽１０の切欠溝１５から流出させることができる。このため、洗浄液を清浄な状態に維持することができ、ウエハＷの洗浄効率を向上させることができる。
【００７０】
ウエハＷの超音波洗浄処理を行った後、洗浄槽１０内のウエハＷのリンス処理が行われる（第７工程）。この場合、まず、薬液ポンプ６９を停止し、洗浄槽１０への薬液の供給が止められる。次に、制御装置４４は、開閉弁６８を開くとともに切換弁６３を動作して、純水供給源６５から洗浄槽１０に純水が供給される。その後、上述した第６工程と同様にして、振動子４０に超音波振動を生じさせて、洗浄液に超音波振動を伝播させる。
【００７１】
次に、ウエハＷがバスハンド５０からウエハボード２０に引き渡される（第８工程、第９工程）。この場合、まず、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが上昇し、ウエハＷが保持棒２３ａ、２３ｂの保持溝２５ａ、２５ｂに係合して、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂに保持される（第８工程、図１２参照）。このようにして、ウエハＷがバスハンド５０からウエハボード２０に引き渡される。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷを保持する保持位置にある。
【００７２】
その後、制御装置４４からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部５１が受渡位置から退避位置に移動する（第９工程、図１３参照）。このことにより、バスハンド５０は、ウエハＷから離れる。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは保持位置に維持されている。
【００７３】
次に、洗浄液に浸漬しているウエハＷが洗浄槽１０から搬出される（第１０工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハＷが保持されたウエハ保持部２１ａ、２１ｂが上昇し、洗浄槽１０からウエハＷが搬出される。その後、ウエハＷがウエハボード２０から図示しない搬送機構に引き渡される。
【００７４】
その後、上述した工程を適宜繰り返すことにより、洗浄槽１０において、ウエハＷを順次超音波洗浄することができる。
【００７５】
なお、洗浄槽１０内の洗浄液は、必要に応じて交換される。この場合、まず、図３に示すように、制御装置４４からの制御信号に基づいて、排出弁機構８０のシリンダ装置８４が駆動されて、弁体８２が被当接部８１から引き離される。このことにより、排液口８５を通って洗浄液が排出され、洗浄槽１０内の洗浄液を短時間で排出することができる。洗浄液の排出が終了した後、シリンダ装置８４が駆動されて弁体８２が被当接部８１に当接され、被当接部８１と弁体８２との間が気水密に維持される。その後、上述した第１工程と同様にして、洗浄槽１０に洗浄液が貯留される。このようにして、洗浄液が交換される。
【００７６】
このように本実施の形態によれば、洗浄槽１０内の洗浄液に浸漬されるとともにウエハボード２０のウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持されているウエハＷが、洗浄槽１０内に設けられたバスハンド５０に引き渡され、その後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが、保持位置から下降位置に移動して、下降位置と側方位置との間を連続移動する。ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を移動している間、制御装置４４が振動子４０に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。このため、ウエハＷの全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００７７】
また、本実施の形態によれば、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に配置されるとともに、下降位置と側方位置との間を垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動する。このことにより、ウエハＷをウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡した後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降させる距離（保持位置と下降位置との間の距離）を短くすることができる。また、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂの下降位置と側方位置との間の移動距離を短くすることもできる。このため、駆動装置２６の構造を簡素化することができる。
【００７８】
なお、上述した本実施の形態においては、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。以下、代表的な変形例について述べる。
【００７９】
すなわち、本実施の形態においては、ウエハボード２０のウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を連続移動している例について述べた。しかしながら、このことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが、下降位置から側方位置に達した後、所定時間停止して、その後に、側方位置から下降位置に移動するように制御装置４４を構成しても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８０】
また、上述のように、側方位置に達したウエハ保持部２１ａ、２１ｂを所定時間停止させる場合、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが側方位置で停止している間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせるように制御装置４４を構成してもよい。すなわち、制御装置４４は、ウエハＷをウエハボード２からバスハンド５０に引き渡した後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置から側方位置へ移動させ、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが少なくとも側方位置にあるときに、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成していれば良く、この場合に、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に確実に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８１】
また、本実施の形態においては、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を連続移動している間、制御装置４４が振動子４０に超音波振動を生じさせている例について述べた。しかしながら、このことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置から側方位置へ移動している間にのみ、振動子４０が超音波振動を生じさせるようにしても良く、あるいはウエハ保持部２１ａ、２１ｂが側方位置から下降位置へ移動している間にのみ、振動子４０が超音波振動を生じさせるようにしても良い。いずれの場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８２】
また、本実施の形態においては、ウエハボード２０が、一対のウエハ保持部２１ａ、２１ｂを有し、これらウエハ保持部２１ａ、２１ｂが個別に移動する例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが一体に形成されて、下降位置と側方位置との間を一体に移動するように構成しても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハボード２０により保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８３】
また、本実施の形態においては、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、保持位置よりも下方に位置する下降位置を経由して保持位置から側方位置へ移動するとともに、下降位置を経由して側方位置から保持位置へ移動する例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを、下降位置を経由することなく、保持位置と側方位置との間を移動させるように構成しても良い。この場合、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂの駆動制御を簡素化することができる。
【００８４】
また、本実施の形態においては、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂがウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動する例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが、互いに同一方向に下降位置と側方位置との間を移動するように構成しても良い。この場合、例えば、まず、一方のウエハ保持部（第１ウエハ保持部）２１ａを下降位置から側方位置へ左方向（図１０参照）に移動する。次に、第１ウエハ保持部２１ａを側方位置から下降位置へ右方向に移動するとともに、他方のウエハ保持部（第２ウエハ保持部）２１ｂを下降位置から側方位置へ右方向に移動する。その後、第２ウエハ保持部２１ｂを側方位置から下降位置へ左方向に移動する。このようにしてウエハ保持部２１ａ、２１ｂを移動している間に、振動子４０に超音波振動を生じさせるようにしても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。なお、この場合、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を往復移動する回数は、任意の回数とすることができる。
【００８５】
また、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを、上述のように下降位置と側方位置との間を互いに同一方向に移動させる場合、制御装置４４は、ウエハＷをウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡した後、いずれか一方のウエハ保持部、例えば第１ウエハ保持部２１ａを下降位置から側方位置へ移動させ、この第１ウエハ保持部２１ａが少なくとも側方位置にあるときに、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成しても良い。あるいは、第１ウエハ保持部２１ａを下降位置から側方位置へ移動している間と、他方のウエハ保持部（第２ウエハ保持部）２１ｂを側方位置から下降位置へ移動している間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせても良い。あるいは、第１ウエハ保持部２１ａを側方位置から下降位置に移動させるとともに第２ウエハ保持部２１ｂを下降位置から側方位置に移動させている間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８６】
また、本実施の形態においては、洗浄槽１０が容器１６に収容され、この容器１６の底部に、洗浄槽１０から流出した洗浄液を回収するパンが配設されている例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、洗浄槽１０が、洗浄液を貯留する内槽と、内槽からオーバーフローする洗浄液を回収する外槽とを有していてもよい。この場合、外槽に、洗浄液を内槽内に配設される洗浄液供給ノズルに供給する循環管路が連結されていてもよく、あるいは外槽に洗浄液を排出する排出弁機構が設けられていてもよい。
【００８７】
また、本実施の形態においては、洗浄槽１０内に、２つの洗浄液供給ノズル６１が設けられている例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、４つの洗浄液供給ノズル（図示せず）を設けても良い。
【００８８】
また、本実施の形態においては、洗浄槽１０の底板１４をアモルファスカーボンまたは炭化ケイ素により形成し、この底板１４の肉厚を比較的厚く（例えば、６．５ｍｍ）して振動子４０を直接取り付ける例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、底板１４の肉厚をこれよりも薄くし、この底板１４に音波透過性が良好なステンレス性の補強用板を介在させて振動子４０を取り付けるように構成してもよい。この場合においても、振動子４０からの超音波を効率良く透過させることができる。
【００８９】
さらに、本実施の形態においては、洗浄槽１０の底板１４に振動子４０が直接取り付けられている。しかしながらこのことに限られることはなく、洗浄槽１０の下方に、洗浄槽１０の少なくとも底部が浸漬するように純水を貯留した追加の槽（図示せず）を設けて、この追加の槽の底部に振動子４０を取り付けるように構成しても良い。この場合、振動子４０から生じた超音波振動は、追加の槽の純水を介して洗浄槽１０に伝播され、洗浄槽１０においてウエハＷを確実に超音波洗浄することができる。
【００９０】
なお、上述した実施の形態についてのいくつかの変形例を述べたが、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【００９１】
第２の実施の形態
次に、図１５乃至図１７により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図１５乃至図１７は、第２の実施の形態における超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の第２の実施の形態を説明するための図である。
【００９２】
図１５乃至図１７に示す第２の実施の形態においては、ウエハをバスハンドおよびウエハボードの第１ウエハ保持部に保持させた後、第２ウエハ保持部が側方に移動して、超音波洗浄が行われる点が主に異なり、他の構成は、図１乃至図１４に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図１５乃至図１７において、図１乃至図１４に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００９３】
本実施の形態におけるウエハボード２０は、個別に移動自在な一対のウエハ保持部２１ａ、２１ｂ（すなわち、第１ウエハ保持部２１ａと第２ウエハ保持部２１ｂ）を有している。
【００９４】
制御装置４４は、ウエハＷをバスハンド５０およびウエハボード２０の第１ウエハ保持部２１ａに保持させた後、ウエハボード２０の第２ウエハ保持部２１ｂを第２保持位置から第２下降位置を経由して第２側方位置に移動させて、その後に第２側方位置から第２下降位置を経由して第１保持位置に戻すように駆動装置２６を制御する。その後、制御装置４４は、ウエハＷをバスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持させた後、第１ウエハ保持部２０ａを、第１保持位置から第１下降位置を経由して第１側方位置に移動させて、その後に第１側方位置から第１下降位置を経由して第１保持位置に戻すように駆動装置２６を制御する。
【００９５】
制御装置４４は、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置と第２側方位置との間で移動している間、および第１ウエハ保持部２１ａが、第１下降位置と第１側方位置との間で移動している間、振動子４０に超音波振動を生じさせるように超音波発振装置４２を制御する。このようにして、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるようになっている。なお、制御装置４４は、第１ウエハ保持部２１ａの移動と、第２ウエハ保持部２１ｂの移動を均等にして、ウエハＷの各領域において第１ウエハ保持部２１ａにより超音波振動が遮蔽される時間と、第２ウエハ保持部２１ｂにより超音波振動が遮蔽される時間が均等になるように、駆動装置２６を制御する。
【００９６】
本実施の形態における超音波洗浄方法について説明する。ここでは、主に、第１の実施の形態と異なる工程について説明する。
【００９７】
まず、洗浄液に浸漬されたウエハＷが、バスハンド５０の一対の挟持部５１により挟持される（第３工程、図８参照）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部４１が退避位置から受渡位置に移動し、各挟持部５１がウエハＷの側面に当接する。このことにより、ウエハＷが一対の挟持部５１により挟持される。このとき、第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂは、ウエハＷを保持する第１保持位置および第２保持位置にそれぞれ維持されている。
【００９８】
次に、ウエハボード２０の第２ウエハ保持部２１ｂが側方に移動してウエハＷの超音波洗浄が行われる。
【００９９】
この場合、まず、ウエハボード２０の第２ウエハ保持部２１ｂが、ウエハＷを保持していた位置から下降する（第２１工程）。すなわち、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ｂが駆動され、第２ウエハ保持部２１ｂが下降する（図１５参照）。このことにより、ウエハＷがバスハンド５０および第１ウエハ保持部２１ａに保持されると共に、第２ウエハ保持部２１ｂがウエハＷから離れる。このとき、第２ウエハ保持部２１ｂは、第２保持位置よりも下方に位置する第２下降位置にある。
【０１００】
次に、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置と第２側方位置との間を連続して移動する（第２２工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて側方移動駆動部３０ｂが駆動され、図１５における右方向に移動して、第２側方位置に達する（図１６参照）。その後、右方向に移動した第２ウエハ保持部２１ｂは、左方向に移動し、第２下降位置に戻る（図１７参照）。なお、この間、第１ウエハ保持部２１ａは、バスハンド５０と共にウエハＷを保持した状態で停止している。このようにして、第２ウエハ保持部２１ｂは、第２下降位置と第２側方位置との間を連続して往復移動する。なお、第２下降位置と第２側方位置との間を第２ウエハ保持部２１ｂが往復する回数は、１回に限られることはなく、複数の回数としてもよい。
【０１０１】
第２ウエハ保持部２１ｂが第２下降位置と第２側方位置との間を連続して移動している間、制御装置４４は振動子４０に超音波振動を生じさせる（第２３工程）。このようにして、ウエハＷのうち第２ウエハ保持部２１ｂにより遮蔽される領域に超音波振動を伝播させることができる。
【０１０２】
次に、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置から上昇してウエハＷを保持する第２保持位置に戻る（第２４工程、図１２参照）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ｂが駆動され、第２ウエハ保持部２１ｂが上昇する。このことにより、第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂは、略同一の高さとなり、ウエハＷが、保持棒２３ｂの保持溝２５ｂに係合して、第２ウエハ保持部２１ｂに保持されるようになる。このようにして、バスハンド５０、第１ウエハ保持部２１ａ、および第２ウエハ保持部２１ｂにより、ウエハＷが保持される。このとき、第２ウエハ保持部２１ｂは、ウエハＷを保持する第２保持位置にある。
【０１０３】
その後、第２ウエハ保持部２１ｂと同様にして、第１ウエハ保持部２１ａが側方に移動してウエハＷの超音波洗浄が行われる。
【０１０４】
この場合、まず、第１ウエハ保持部２１ａが、ウエハＷを保持していた位置から下降する（第２５工程）。すなわち、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａが駆動され、第１ウエハ保持部２１ａが下降する。このことにより、ウエハＷがバスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持されると共に、第１ウエハ保持部２１ａがウエハＷから離れる。このとき、第１ウエハ保持部２１ａは、第１保持位置よりも下方に位置する第１下降位置にある。
【０１０５】
次に、第１ウエハ保持部２１ａが、第１下降位置と第１側方位置との間を連続して移動する（第２６工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて側方移動駆動部３０ａが駆動され、図１５における左方向に移動して、第１側方位置に達する。その後、左方向に移動した第１ウエハ保持部２１ａは、右方向に移動し、第１下降位置に戻る。なお、この間、第２ウエハ保持部２１ｂは、バスハンド５０と共にウエハＷを保持した状態で停止している。このようにして、第１ウエハ保持部２１ａは、第１下降位置と第１側方位置との間を連続して往復移動する。なお、第１下降位置と第１側方位置との間を第１ウエハ保持部２１ａが往復する回数は、１回に限られることはなく、複数の回数としてもよい。
【０１０６】
第１ウエハ保持部２１ａが第１下降位置と第１側方位置との間を連続して移動している間、制御装置４４は振動子４０に超音波振動を生じさせる（第２７工程）。このようにして、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａにより遮蔽される領域に超音波振動を伝播させることができる。
【０１０７】
次に、第１ウエハ保持部２１ｂが、第１下降位置から上昇してウエハＷを保持する保持位置に戻る（第２８工程、図１２参照）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａが駆動され、第１ウエハ保持部２１ａが上昇する。このことにより、第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂは、略同一の高さとなり、ウエハＷが保持棒２３ａの保持溝２５ａに係合して、第１ウエハ保持部２１ａに保持されるようになる。このようにして、バスハンド５０、第１ウエハ保持部２１ａ、および第２ウエハ保持部２１ｂにより、ウエハＷが保持される。このとき、第１ウエハ保持部２１ａは、ウエハＷを保持する第１保持位置にある。
【０１０８】
次に、洗浄槽１０内のウエハＷのリンス処理が行われる（第２９工程）。この場合、洗浄槽１０内の薬液が排出されて純水が供給され、上述した第２１工程乃至第２８工程と同様にして、第１ウエハ保持部２１ａまたは第２ウエハ保持部２１ｂを移動させながら、洗浄液に超音波振動を伝播させる。
【０１０９】
その後、ウエハＷは洗浄槽１０から搬出される。
【０１１０】
このように本実施の形態によれば、洗浄槽１０内の洗浄液に浸漬されるとともにウエハボード２０の第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持されているウエハＷが、洗浄槽１０内に設けられたバスハンド５０および第１ウエハ保持部２１ａに保持され、その後、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２保持位置から第２下降位置に移動して、第２下降位置と第２側方位置との間を連続移動し、第２保持位置に戻る。さらにその後、ウエハＷが、バスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持されて、第１ウエハ保持部２１ａが、第１保持位置から第１下降位置に移動して、第１下降位置と第１側方位置との間を連続移動し、第１保持位置に戻る。第１ウエハ保持部２１ａが第１下降位置と第１側方位置との間を移動している間、および第２ウエハ保持部２１ｂが第２下降位置と第２側方位置との間を移動している間、制御装置４４が振動子４０に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。このため、ウエハＷの全域を均一に超音波洗浄することができる。
【０１１１】
また、本実施の形態によれば、ウエハＷを超音波洗浄する際、ウエハＷが、バスハンド５０およびウエハボード２０の一方のウエハ保持部により保持される。このことにより、ウエハＷを安定して保持することができる。
【０１１２】
なお、上述した第２の実施の形態においては、第１の実施の形態と同様に、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。
【０１１３】
とりわけ、第２の実施の形態においては、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置と第２側方位置との間で移動している間、および第１ウエハ保持部２１ａが、第１下降位置と第１側方位置との間で移動している間、振動子４０に超音波振動を生じさせる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第１側方位置、第２側方位置に達した第１ウエハ保持部２１ａ、第２ウエハ保持部２１ｂを所定時間停止させる場合に、第１ウエハ保持部２１ａが第１側方位置で停止している間、および第２ウエハ保持部２１ｂが第２側方位置で停止している間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせるように制御装置４４を構成しても良い。すなわち、制御装置４４は、ウエハＷをバスハンド５０および第１ウエハ保持部２１ａに保持させた後、第２ウエハ保持部２１ｂを第２保持位置から第２側方位置へ移動させ、その後に第２保持位置に戻し、更に、ウエハＷをバスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持させた後、第１ウエハ保持部２１ａを第１保持位置から第１側方位置へ移動させ、その後に第１保持位置に戻し、第１ウエハ保持部２１ａが少なくとも第１側方位置にあるとき、および第２ウエハ保持部２１ｂが少なくとも第２側方位置にあるときに、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成してれば良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【０１１４】
ところで、上述したように、超音波洗浄装置１はコンピュータを含む制御装置４４を有している。この制御装置４４により、超音波洗浄装置１の各構成要素が動作し、ウエハＷの洗浄が実施されるよう構成されている。そして、超音波洗浄装置１を用いたウエハＷの洗浄を実施するために、制御装置４４のコンピュータによって実行されるプログラムを記録した記録媒体４５も本件の対象である。ここで、記録媒体４５は、ＲＯＭまたはＲＡＭなどのメモリーでもよく、また、ハードディスクまたはＣＤ−ＲＯＭなどのディスク状の記録媒体４５であってもよい。
【０１１５】
なお、以上の説明においては、本発明による超音波洗浄装置１、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体４５を、半導体ウエハＷの洗浄処理に適用した例を示している。しかしながらこのことに限られることはなく、ＬＣＤ基板またはＣＤ基板等、種々の基板等の洗浄に本発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【０１１６】
１ 超音波洗浄装置
１０ 洗浄槽
１１ 側壁
１２ パッキング
１３ 固定ボルト
１４ 底板
１５ 切欠溝
１６ 容器
２０ ウエハボード
２１ａ、２１ｂ ウエハ保持部
２２ａ、２２ｂ 基部
２３ａ、２３ｂ 保持棒
２４ａ、２４ｂ 連結部材
２５ａ、２５ｂ 保持溝
２６ 駆動装置
２７ａ、２７ｂ 昇降駆動部
２８ａ、２８ｂ 昇降駆動力伝達部
２９ａ、２９ｂ アダプタ
３０ａ、３０ｂ 側方移動駆動部
３１ａ、３１ｂ 側方駆動力伝達部
４０ 振動子
４１ 振動子単体
４２ 超音波発振装置
４３ 駆動電源部
４４ 制御装置
４５ 記録媒体
５０ バスハンド
５１ 挟持部
５２ 当接棒
５３ 連結部材
６０ 洗浄液供給装置
６１ 洗浄液供給ノズル
６１ａ 管状ノズル本体
６１ｂ 第１ノズル孔
６１ｃ 第２ノズル孔
６２ 洗浄液供給管
６３ 切換弁
６４ 純水供給管
６５ 純水供給源
６６ 薬液供給管
６７ 薬液タンク
６８ 開閉弁
６９ 薬液ポンプ
８０ 排出弁機構
８１ 被当接部
８２ 弁体
８３ ピストンロッド
８４ シリンダ装置
８５ 排液口
Ｗ ウエハ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄液に浸漬された被処理体を、超音波を利用して洗浄する超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体ウエハまたはＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体を、洗浄槽に貯留された純水または薬液等の洗浄液に浸漬して、超音波を利用して超音波洗浄（メガソニック処理を含む）を行う超音波洗浄装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この超音波洗浄装置においては、洗浄槽の底部に超音波振動可能な振動子が取り付けられ、この振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置が接続されている。
【０００３】
このような超音波洗浄装置において被処理体を洗浄する場合、被処理体を洗浄槽内の洗浄液に浸漬させ、洗浄槽の底部に取り付けられた振動子に超音波発振装置によって超音波振動を生じさせる。このことにより、洗浄液に超音波振動が伝播されて被処理体に下方から超音波が照射され、被処理体に付着していたパーティクル等が除去される。このようにして、被処理体が超音波洗浄される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２０９０８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような超音波洗浄装置において被処理体を超音波洗浄する際、被処理体はウエハボードによって保持されている。この場合、被処理体の下方にウエハボードの保持棒が存在している。このことにより、下方から照射される超音波振動がウエハボードの保持棒によって遮蔽される。すなわち、振動子から伝播される超音波振動は、直進性が強い。このことにより、被処理体のうちウエハボードの保持棒の上方領域に超音波振動が伝播されにくくなり、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することが難しいという問題があった。
【０００６】
本発明は、このようなことを考慮してなされたものであり、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、洗浄液を貯留する洗浄槽と、前記洗浄槽内に挿入可能に設けられ、被処理体を保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置と、前記洗浄槽の底部に設けられた振動子と、前記振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置と、前記洗浄槽内に設けられ、前記被処理体を保持する側部保持部材と、前記被処理体保持装置を側方に移動させる駆動装置と、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させた後、前記被処理体保持装置を側方へ移動させるように前記駆動装置を制御すると共に、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体に伝播させるように前記超音波発振装置を制御することを特徴とする超音波洗浄装置を提供する。
【０００８】
なお、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成されており、前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、当該被処理体保持装置を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置が、保持位置から側方位置まで移動し、被処理体保持装置が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【０００９】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、前記各被処理体保持部は、個別に移動自在となっているようにしてもよい。
【００１０】
また、上述した超音波洗浄装置において、一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動するようにしてもよい。
【００１１】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動させ、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置を当該下降位置から当該側方位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。
【００１２】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させ、当該被処理体保持装置を当該側方位置から当該下降位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。
【００１３】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体を引き受けて保持する受渡位置と、前記被処理体から離れて退避する退避位置との間を移動するようにしてもよい。
【００１４】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有しているようにしてもよい。
【００１５】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成され、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有しており、前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、前記被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該一方の被処理体保持部が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御するようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置の少なくとも一方の被処理体保持部が、保持位置から側方位置まで移動し、当該一方の被処理体保持部が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうちこの一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００１６】
また、上述した超音波洗浄装置において、前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有しており、前記駆動装置は、前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動させると共に、前記第２被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動させるように構成され、前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、前記被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部を前記第２保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部を前記第１保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第１保持位置に戻すように前記駆動装置を制御すると共に、当該第１被処理体保持部が少なくとも当該第１側方位置にあるとき、および当該第２被処理体保持部が少なくとも当該第２側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置を制御するようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材および第１被処理体保持部に保持され、被処理体保持装置の第２被処理体保持部が、第２保持位置から第２側方位置まで移動し、その後に第２保持位置に戻り、更に、第１被処理体保持部が、第１保持位置から第１側方位置まで移動し、その後に第１保持位置に戻り、第１被処理体保持部が少なくとも第１側方位置にあるとき、および第２被処理体保持部が少なくとも第２側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち第１被処理体保持部および第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００１７】
また、本発明は、被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする超音波洗浄方法を提供する。
【００１８】
なお、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、前記被処理体保持装置が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置が、保持位置から側方位置まで移動し、被処理体保持装置が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００１９】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、前記各被処理体保持部は、個別に移動自在になっているようにしてもよい。
【００２０】
また、上述した超音波洗浄方法において、一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動するようにしてもよい。
【００２１】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動して、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動し、前記被処理体保持装置を前記下降位置から前記側方位置へ移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせるようにしてもよい。
【００２２】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させる工程を更に備え、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせるようにしてもよい。
【００２３】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、前記被処理体から離れて退避する退避位置から当該被処理体を引き受けて保持する受渡位置に移動して、当該被処理体を保持するようにしてもよい。
【００２４】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有し、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、一対の前記挟持部を当該被処理体の前記側面に当接させて当該被処理体を挟持するようにしてもよい。
【００２５】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、前記被処理体保持装置の前記一方の被処理体保持部が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材に引き渡され、被処理体保持装置の少なくとも一方の被処理体保持部が、保持位置から側方位置まで移動し、当該一方の被処理体保持部が少なくとも側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうちこの一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００２６】
また、上述した超音波洗浄方法において、前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有し、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、当該被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動し、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動し、その後に当該第１保持位置に戻し、前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部が少なくとも前記第１側方位置にあるとき、および前記第２被処理体保持部が少なくとも前記第２側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させるようにしてもよい。この場合、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されるとともに、被処理体保持装置により保持されている被処理体が、洗浄槽内に設けられた側部保持部材および第１被処理体保持部に保持され、被処理体保持装置の第２被処理体保持部が、第２保持位置から第２側方位置まで移動し、その後に第２保持位置に戻り、更に、第１被処理体保持部が、第１保持位置から第１側方位置まで移動し、その後に第１保持位置に戻り、第１被処理体保持部が少なくとも第１側方位置にあるとき、および第２被処理体保持部が少なくとも第２側方位置にあるときに、制御装置が振動子に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子からの超音波振動を、被処理体のうち第１被処理体保持部および第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００２７】
さらに、本発明は、超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、当該超音波洗浄方法は、被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする記録媒体を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、被処理体を側部保持部材に保持させた後、被処理体保持装置を側方へ移動させて、振動子からの超音波振動を、被処理体に伝播させることができる。このため、被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄装置を示す図である。
【図２】図２は、図１の側方断面図である。
【図３】図３は、図１の平面図である。
【図４】図４は、本発明の第１の実施の形態において、排出弁機構を示す図である。
【図５】図５は、本発明の第１の実施の形態において、被処理体保持装置の構成を示す図である。
【図６】図６は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、洗浄槽内にウエハが挿入される状態を示す図である。
【図７】図７は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、洗浄槽内の洗浄液にウエハが浸漬された状態を示す図である。
【図８】図８は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハがウエハボードからバスハンドに引き渡される状態を示す図である。
【図９】図９は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハボードが下降位置に移動した状態を示す図である。
【図１０】図１０は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハボードが側方位置に移動した状態を示す図である。
【図１１】図１１は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハボードが下降位置に移動した状態を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、ウエハがバスハンドからウエハボードに引き渡される状態を示す図である。
【図１３】図１３は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、バスハンドが退避位置に移動した状態を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の第１の実施の形態における超音波洗浄方法において、洗浄槽内からウエハが取り出された状態を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明の第２の実施の形態における超音波洗浄方法において、第２ウエハ保持部が第２下降位置に移動した状態を示す図である。
【図１６】図１６は、本発明の第２の実施の形態における超音波洗浄方法において、第２ウエハ保持部が第２側方位置に移動した状態を示す図である。
【図１７】図１７は、本発明の第２の実施の形態における超音波洗浄方法において、第２ウエハ保持部が第２下降位置に移動した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
第１の実施の形態
以下、図面を参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。図１乃至図１４は、第１の実施の形態における超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の第１の実施の形態を説明するための図である。
【００３１】
まず、図１により超音波洗浄装置１の全体構成について説明する。
【００３２】
図１に示すように超音波洗浄装置１は、洗浄液（例えば純水または薬液）を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体（例えば、半導体ウエハ、以下単にウエハＷと記す）を保持して洗浄液に浸漬するウエハボード（被処理体保持装置）２０とを備えている。このうち洗浄槽１０の底板（底部）１４の外面に振動子４０が設けられている。振動子４０に超音波発振装置４２が接続され、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成されている。
【００３３】
洗浄槽１０に、洗浄槽１０内に洗浄液を供給する洗浄液供給装置６０が設けられ、洗浄槽１０の底板１４に、洗浄液を排出する排出弁機構８０が設けられている。
【００３４】
次に、図１乃至図３を用いて各部の詳細構造について説明する。
【００３５】
図１乃至図３に示すように、洗浄槽１０は、４つの側壁１１と、各側壁１１の下端に、パッキング１２を介して気水密（気密・水密）に密接されるとともに固定ボルト１３により固定された底板１４とを有し、略直方体状に形成されている。このうち側壁１１の上端に切欠溝１５が形成され、洗浄液の液面が側壁１１の上端に達した場合に洗浄液が洗浄槽１０から流出するようになっている。
【００３６】
洗浄槽１０の側壁１１は、耐薬品性に富む材料、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）あるいはフッ素樹脂（ＰＦＡ）等にて形成されている。また、底板１４は、耐薬品性および音波透過性に富む材料、例えばアモルファスカーボンあるいは炭化ケイ素等のカーボン系材料にて形成されている。このことにより、薬液として後述するアンモニア過水、塩酸過水、あるいは希フッ酸等を用いる場合においても、洗浄槽１０の側壁１１および底板１４は耐薬品性を有することができる。このため、側壁１１および底板１４が洗浄液によって溶解することを防止し、メタルコンタミ等が発生することを防止することができる。また、底板１４の材料は、上述したように音波透過性をも有しているため、振動子４０により生じた超音波振動を確実に透過することができる。
【００３７】
洗浄槽１０は容器１６に収容されている。この容器１６の底部に、洗浄槽１０の側壁１１の上端に形成された切欠溝１５から流出する洗浄液を回収するパン（図示せず）が設けられ、このパンに、回収された洗浄液を排出するドレン（図示せず）が設けられている。
【００３８】
図１、図２、および図５に示すように、ウエハボード２０は、複数枚（例えば５０枚）のウエハＷを保持する一対のウエハ保持部（被処理体保持部）２１ａ、２１ｂと、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂにそれぞれ連結され、略垂直方向に延びる一対の基部２２ａ、２２ｂとを有している。このうち一対のウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙ（図６乃至図１４参照）に対して略対称的に配置されている。
【００３９】
各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、略水平方向に延びる２つの保持棒２３ａ、２３ｂと、各保持棒２３ａ、２３ｂの先端に連結された連結部材２４ａ、２４ｂとからそれぞれなっている。各保持棒２３ａ、２３ｂの基端には、基部２２ａ、２２ｂがそれぞれ連結されている。各保持棒２３ａ、２３ｂには、ウエハＷに係合自在な複数の保持溝２５ａ、２５ｂ（図１および図４参照）がそれぞれ形成され、各保持溝２５ａ、２５ｂは、略同一形状を有し、互いに整列されている。このような保持溝２５ａ、２５ｂにウエハＷを係合させることにより、ウエハＷを保持棒２３ａ、２３ｂに対して略直交する方向、すなわち垂直方向に保持することができるように構成されている。
【００４０】
ここで、ウエハボード２０の各部は、耐薬品性に富む石英を用いて形成され、各々の表面にはテフロン（登録商標）コーティングまたはＳｉＣ（炭化ケイ素）コーティングが施されている。
【００４１】
ウエハボード２０に、ウエハボード２０を昇降駆動する駆動装置２６が連結されている。すなわち、駆動装置２６は、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂをそれぞれ昇降させる昇降駆動部２７ａ、２７ｂと、各昇降駆動部２７ａ、２７ｂと各基部２２ａ、２２ｂとの間にそれぞれ連結され、昇降駆動部２７ａ、２７ｂの駆動力を伝達する昇降駆動力伝達部２８ａ、２８ｂとを有している。このうち各昇降駆動力伝達部２８ａ、２８ｂは、アダプタ２９ａ、２９ｂを介して基部２２ａ、２２ｂにそれぞれ連結されている。このようにして、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、互いに個別に移動自在（昇降自在）に構成されている。なお、各昇降駆動部２７ａ、２７ｂを用いることにより、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂの位置関係を調整することも可能になっている。
【００４２】
各昇降駆動部２７ａ、２７ｂに、制御装置４４が接続され、制御装置４４は、各昇降駆動部２７ａ、２７ｂを同期して駆動させるように構成されている。このようにして、昇降駆動部２７ａ、２７ｂは、制御装置４４からの制御信号に基づいて、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降させてウエハＷを洗浄槽１０内に挿入して洗浄液に浸漬する、あるいはウエハ保持部２１ａ、２１ｂを上昇させてウエハＷを洗浄槽１０から搬出するように構成されている。
【００４３】
また、ウエハボード２０は、洗浄槽１０内においてウエハＷを保持する保持位置（後述するバスハンド５０にウエハＷを引き渡す位置）と、この保持位置のわずかに下方に位置する下降位置との間を、駆動装置２６により略垂直方向に移動自在（昇降自在）に構成されている。すなわち、制御装置４４からの制御信号に基づいて、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、昇降駆動部２７ａ、２７ｂにより保持位置と下降位置との間を移動するようになっている。
【００４４】
また、ウエハボード２０は、下降位置と、下降位置（保持位置）の側方に位置する側方位置との間を略水平方向にも移動自在に構成されており、各ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、略水平方向においても互いに個別に移動自在に構成されている。なお、本明細書における「側方」という文言は、厳密な水平方向を意味するのではなく、例えば、ウエハＷのうち振動子４０から伝播される超音波振動がウエハ保持部２０ａ、２０ｂにより遮蔽される領域から、当該領域に超音波振動が伝播される程度にウエハ保持部２０ａ、２０ｂが変位可能であれば、水平方向に対して斜めの方向を含むものとして使用される。
【００４５】
ウエハボード２０に連結された駆動装置２６は、ウエハボード２０を下降位置と側方位置との間で移動させるようにもなっている。すなわち、駆動装置２６は、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置と側方位置との間でそれぞれ移動させる側方移動駆動部３０ａ、３０ｂと、この側方移動駆動部３０ａ、３０ｂと昇降駆動力伝達部２８ａ、２８ｂとの間にそれぞれ連結され、側方移動駆動部３０ａ、３０ｂの駆動力を伝達する側方駆動力伝達部３１ａ、３１ｂとを有している。
【００４６】
各側方移動駆動部３０ａ、３０ｂに、制御装置４４が接続されている。このようにして、側方移動駆動部３０ａ、３０ｂは、制御装置４４からの制御信号に基づいて、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置と側方位置との間でそれぞれ移動させるように構成されている。この場合、制御装置４４は、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動させるようになっている。
【００４７】
図２、および図６乃至図１４に示すように、洗浄槽１０内に、ウエハボード２０からウエハＷを引き受けて保持するバスハンド（側部保持部材）５０が設けられている。このバスハンド５０は、洗浄槽１０内において、ウエハＷを引き受けて保持する受渡位置と、ウエハＷから離れて退避する退避位置との間を略水平方向に移動可能に構成されている。すなわち、バスハンド５０は、ウエハボード２０に保持されたウエハＷの両側方に位置し、ウエハＷの側面に当接してウエハＷを挟持する一対の挟持部５１を有している。各挟持部５１は、ウエハＷの側面に当接する２つの当接棒５２と、各当接棒５２を連結する連結部材５３とを含んでいる。このうち各挟持部５１の２つの当接棒５２は、ウエハＷの中心を通る水平方向軸線Ｘ（図６乃至図１４参照）に対して対称的に配置されるとともに、ウエハＷの水平方向軸線ＸとウエハＷの外縁との交点の近傍に配置されている。このことにより、ウエハＷに、下方から伝播されてくる超音波振動を各挟持部５１によって遮蔽する領域が形成されることを防止することができ、ウエハＷの全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００４８】
ここで、バスハンド５０の各部は、ウエハボード２０と同様に、耐薬品性に富む石英を用いて形成され、各々の表面にはテフロンコーティングまたはＳｉＣコーティングが施されている。
【００４９】
また、各挟持部５１には、各挟持部５１を受渡位置と退避位置との間で連動させるハンド駆動部（図示せず）が連結され、ハンド駆動部に制御装置４４が連結されている。このように、ハンド駆動部は、制御装置４４からの制御信号に基づいて、各挟持部５１を受渡位置と退避位置との間で連動させるように構成されている。
【００５０】
洗浄液供給装置６０は、洗浄槽１０の対向する側壁１１に沿って設けられた２つの洗浄液供給ノズル６１を有している。各洗浄液供給ノズル６１は、洗浄槽１０の側壁１１に略水平方向に延びる管状ノズル本体６１ａと、この管状ノズル本体６１ａに形成され、長手方向に沿って適宜間隔をおいて配設された多数の第１ノズル孔６１ｂおよび第２ノズル孔６１ｃとを含んでいる。このうち、第１ノズル孔６１ｂは、ウエハＷの中心側に向けて洗浄液を噴射するように構成され、第２ノズル孔６１ｃは、洗浄槽１０の底板１４に向けて洗浄液を噴射するように構成されている。
【００５１】
洗浄液供給ノズル６１に洗浄液供給管６２を介して切換弁６３が連結されている。この切換弁６３に、純水供給管６４を介して純水供給源６５が連結されるとともに、薬液供給管６６を介して薬液供給源（薬液タンク）６７が連結されている。切換弁６３は制御装置４４に接続され、制御装置４４は、切換弁６３を介して、洗浄液供給管６２に連通させる供給管（純水供給管６４または薬液供給管６６）の切り換えを制御するようになっている。
【００５２】
純水供給管６４に、純水供給管６４を通る純水の流量を調整する開閉弁６８が設けられている。この開閉弁６８は制御装置４４に接続され、制御装置４４は、開閉弁６８を介して、純水供給源６５から洗浄槽１０への純水の供給を制御するようになっている。
【００５３】
薬液供給管６６に、薬液を洗浄槽１０に供給するための薬液ポンプ６９が設けられている。この薬液ポンプ６９は制御装置４４に接続され、制御装置４４は、薬液ポンプ６９を介して、薬液タンク６７から洗浄槽１０への薬液の供給を制御するようになっている。ここで、薬液としては、洗浄の目的に応じて、アンモニア過水（ＳＣ１、具体的にはＮＨ４ＯＨ／Ｈ２Ｏ２／Ｈ２Ｏ）、塩酸過水（ＳＣ２、具体的にはＨＣｌ／Ｈ２Ｏ２／Ｈ２Ｏ）、あるいは希フッ酸（ＤＨＦ）等が使用される。
【００５４】
なお、このような薬液ポンプ６９を用いることなく、薬液タンク６７内に、制御装置４４からの制御信号に基づいて窒素（Ｎ２）ガス等を供給して薬液を薬液供給管６６に供給するように構成してもよい。また、切換弁６３に連結される薬液タンク６７は１つに限られることはなく、複数の薬液タンク６７が連結されていてもよい。この場合、複数種類の薬液を洗浄槽１０に供給することが可能になる。
【００５５】
図３および図４に示すように、洗浄槽１０の底板１４に、洗浄液を排出する２つの排出弁機構８０が設けられている。各排出弁機構８０は、底板１４の外面に取り付けられた被当接部８１と、この被当接部８１に気水密に当接自在な弁体８２と、この弁体８２を駆動するピストンロッド８３を含むシリンダ装置８４とを有している。被当接部８１および底板１４に、排液口８５が貫通して形成されている。シリンダ装置８４に制御装置４４が接続され、シリンダ装置８４は、制御装置４４からの制御信号に基づいて、弁体８２を駆動するように構成されている。なお、排液口８５は、ウエハボード２０の基部の直下位置に配置されている。このことにより、洗浄槽１０の底板１４の外面うちウエハＷに対応する位置に、排出弁機構８０が配置されることがなく、振動子４０を取り付けることができ、ウエハＷを確実に洗浄することができる。なお、本実施の形態においては、排液口８５は矩形状に形成されているが、円形等の任意の形状にすることもできる。また、洗浄槽１０に設ける排出弁機構８０の個数は、２つに限られることはなく、１つまたは３つ以上とすることもできる。
【００５６】
図１および図２に示すように、洗浄槽１０の振動子４０は、複数の振動子単体４１からなり、洗浄槽１０の底板１４の外面に、複数の振動子単体４１が取り付けられている。各振動子単体４１は、結線されて振動子４０として構成され超音波発振装置４２に接続されている。なお、洗浄槽１０に取り付けられる振動子単体４１の個数は、洗浄槽１０の底板１４の外面のうち、ウエハボード２０に保持されるウエハＷに対応する位置を占めることができれば１つでも良く、任意の個数とすることもできる。
【００５７】
振動子４０に、超音波発振装置４２が接続され、この超音波発振装置４２に、電力を供給する駆動電源部４３が接続されている。また、超音波発振装置４２に制御装置４４が接続され、超音波発振装置４２は、制御装置４４からの指示に基づいて、高周波駆動電力（駆動信号）を振動子４０に送るように構成されている。
【００５８】
制御装置４４は、ウエハＷをウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡した後、ウエハボード２０のウエハ保持部２１ａ、２１ｂを保持位置から下降位置に移動させ、下降位置と側方位置との間で略対称的に連続移動させる。そして、制御装置４４は、下降位置と側方位置との間で移動している間、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成されている。このようにして、振動子４０からの超音波振動が、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播され、ウエハＷの全域に均一に超音波振動を伝播させるようになっている。また、制御装置４４は、ウエハＷの超音波洗浄が終了した後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置を介して保持位置に移動させ、ウエハＷをバスハンド５０からウエハボード２０に引き渡すように構成されている。
【００５９】
本実施の形態においては、制御装置４４はコンピュータを含み、このコンピュータが記録媒体４５に予め記憶されたプログラムを実行することによって、超音波洗浄装置１を用いたウエハＷの洗浄が実施されるようになっている。
【００６０】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわち本実施の形態による超音波洗浄方法について図６乃至図１４を用いて説明する。
【００６１】
まず、洗浄槽１０に洗浄液が貯留される（第１工程）。この場合、まず、図１に示すように、制御装置４４からの制御信号を受けて開閉弁６８が開き、純水供給源６５から切換弁６３を介して洗浄液供給ノズル６１に純水が供給される。この際、切換弁６３は、制御装置４４により制御されて、洗浄液供給管６２に純水供給管６４が連通される。
【００６２】
純水を供給した後、制御装置４４からの制御信号を受けて薬液ポンプ６９が駆動され、薬液タンク６７から切換弁６３を介して洗浄液供給ノズル６１に薬液が供給される。この際、切換弁６３は制御装置４４により制御され、洗浄液供給管６２に薬液供給管６６が連通される。
【００６３】
貯留された洗浄液の液面が、洗浄槽１０の側壁１１の上端に設けられた切欠溝１５に達すると、洗浄液は、この切欠溝１５を通って洗浄槽１０から流出する。流出した洗浄液は、洗浄槽１０を収容する容器１６のパン（図示せず）に回収され、図示しないドレンから容器１６外部に排出される。この後においても、薬液タンク６７からの薬液の供給は継続される。
【００６４】
次に、洗浄槽１０内の洗浄液にウエハＷが浸漬される（第２工程）。この場合、まず、図示しない搬送機構により搬送された複数枚、例えば５０枚のウエハＷが、ウエハボード２０の保持棒２３ａ、２３ｂに形成された保持溝２５ａ、２５ｂに係合して、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂに保持される（図６参照）。次に、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハＷが保持されたウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降し、洗浄槽１０内に挿入される（図７参照）。このようにして、洗浄液にウエハＷが浸漬される。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷを保持する保持位置に位置している。
【００６５】
次に、ウエハＷがウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡される（第３工程）。
この場合、まず、制御装置４４からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部５１が退避位置から受渡位置に移動し、各挟持部５１がウエハＷの側面に当接する（第３工程、図８参照）。このことにより、ウエハＷは一対の挟持部５１により挟持され、バスハンド５０に保持される。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷを保持する保持位置に維持されている。
【００６６】
次に、ウエハボード２０が、ウエハＷを保持していた位置から下降する（第４工程）。
すなわち、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降する（図９参照）。このことにより、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷから離れる。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、保持位置よりも下方に位置する下降位置にある。
【００６７】
次に、ウエハボード２０が、下降位置と側方位置との間を連続して移動する（第５工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて側方移動駆動部３０ａ、３０ｂが駆動され、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動する。すなわち、一方のウエハ保持部２１ａは、図９における左方向に移動するとともに、他方のウエハ保持部２１ｂは右方向に移動して、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが側方位置に達する（図１０参照）。その後、左方向に移動した一方のウエハ保持部２１ａは右方向に移動するとともに、右方向に移動した他方のウエハ保持部２１ｂは左方向に移動し、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは下降位置に戻る（図１１参照）。このようにしてウエハ保持部２１ａ、２１ｂは下降位置と側方位置との間を略対称的に連続して往復移動する。すなわち、後述する超音波洗浄する工程（第６工程）が終了した時点で、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、下降位置に戻る。なお、下降位置と側方位置との間をウエハ保持部２１ａ、２１ｂが往復する回数は、１回に限られることはなく、複数の回数としてもよい。
【００６８】
ウエハボード２０が下降位置と側方位置との間を連続して移動している間、制御装置４４は振動子４０に超音波振動を生じさせる（第６工程）。この場合、洗浄槽１０の振動子４０に超音波発振装置４２から高周波駆動電力（駆動信号）を送ることにより、この振動子４０に超音波振動を生じさせて、ウエハＷが超音波洗浄される。このようにウエハボード２０を移動しながら超音波振動を生じさせることにより、超音波洗浄を短時間で効率良く行うことができる。また、この間、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、保持位置よりも下方に位置する下降位置と側方位置との間を連続して移動している。このことにより、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を移動している間、ウエハＷに接触することを確実に防止することができる。
【００６９】
振動子４０が超音波振動している間、この超音波振動は、洗浄槽１０の底板１４を透過して洗浄液に伝播される。このようにして、ウエハＷに付着したパーティクル等が除去される。この間、洗浄槽１０内に薬液が供給され続けている。このことにより、ウエハＷから除去されて洗浄液の液面に浮かんだパーティクルを、オーバーフローする洗浄液とともに洗浄槽１０の切欠溝１５から流出させることができる。このため、洗浄液を清浄な状態に維持することができ、ウエハＷの洗浄効率を向上させることができる。
【００７０】
ウエハＷの超音波洗浄処理を行った後、洗浄槽１０内のウエハＷのリンス処理が行われる（第７工程）。この場合、まず、薬液ポンプ６９を停止し、洗浄槽１０への薬液の供給が止められる。次に、制御装置４４は、開閉弁６８を開くとともに切換弁６３を動作して、純水供給源６５から洗浄槽１０に純水が供給される。その後、上述した第６工程と同様にして、振動子４０に超音波振動を生じさせて、洗浄液に超音波振動を伝播させる。
【００７１】
次に、ウエハＷがバスハンド５０からウエハボード２０に引き渡される（第８工程、第９工程）。この場合、まず、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが上昇し、ウエハＷが保持棒２３ａ、２３ｂの保持溝２５ａ、２５ｂに係合して、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂに保持される（第８工程、図１２参照）。このようにして、ウエハＷがバスハンド５０からウエハボード２０に引き渡される。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂはウエハＷを保持する保持位置にある。
【００７２】
その後、制御装置４４からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部５１が受渡位置から退避位置に移動する（第９工程、図１３参照）。このことにより、バスハンド５０は、ウエハＷから離れる。このとき、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは保持位置に維持されている。
【００７３】
次に、洗浄液に浸漬しているウエハＷが洗浄槽１０から搬出される（第１０工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａ、２７ｂが同期して駆動され、ウエハＷが保持されたウエハ保持部２１ａ、２１ｂが上昇し、洗浄槽１０からウエハＷが搬出される。その後、ウエハＷがウエハボード２０から図示しない搬送機構に引き渡される。
【００７４】
その後、上述した工程を適宜繰り返すことにより、洗浄槽１０において、ウエハＷを順次超音波洗浄することができる。
【００７５】
なお、洗浄槽１０内の洗浄液は、必要に応じて交換される。この場合、まず、図３に示すように、制御装置４４からの制御信号に基づいて、排出弁機構８０のシリンダ装置８４が駆動されて、弁体８２が被当接部８１から引き離される。このことにより、排液口８５を通って洗浄液が排出され、洗浄槽１０内の洗浄液を短時間で排出することができる。洗浄液の排出が終了した後、シリンダ装置８４が駆動されて弁体８２が被当接部８１に当接され、被当接部８１と弁体８２との間が気水密に維持される。その後、上述した第１工程と同様にして、洗浄槽１０に洗浄液が貯留される。このようにして、洗浄液が交換される。
【００７６】
このように本実施の形態によれば、洗浄槽１０内の洗浄液に浸漬されるとともにウエハボード２０のウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持されているウエハＷが、洗浄槽１０内に設けられたバスハンド５０に引き渡され、その後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが、保持位置から下降位置に移動して、下降位置と側方位置との間を連続移動する。ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を移動している間、制御装置４４が振動子４０に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。このため、ウエハＷの全域を均一に超音波洗浄することができる。
【００７７】
また、本実施の形態によれば、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、ウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に配置されるとともに、下降位置と側方位置との間を垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動する。このことにより、ウエハＷをウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡した後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降させる距離（保持位置と下降位置との間の距離）を短くすることができる。また、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂの下降位置と側方位置との間の移動距離を短くすることもできる。このため、駆動装置２６の構造を簡素化することができる。
【００７８】
なお、上述した本実施の形態においては、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。以下、代表的な変形例について述べる。
【００７９】
すなわち、本実施の形態においては、ウエハボード２０のウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を連続移動している例について述べた。しかしながら、このことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが、下降位置から側方位置に達した後、所定時間停止して、その後に、側方位置から下降位置に移動するように制御装置４４を構成しても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８０】
また、上述のように、側方位置に達したウエハ保持部２１ａ、２１ｂを所定時間停止させる場合、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが側方位置で停止している間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせるように制御装置４４を構成してもよい。すなわち、制御装置４４は、ウエハＷをウエハボード２からバスハンド５０に引き渡した後、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを下降位置から側方位置へ移動させ、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが少なくとも側方位置にあるときに、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成していれば良く、この場合に、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に確実に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８１】
また、本実施の形態においては、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を連続移動している間、制御装置４４が振動子４０に超音波振動を生じさせている例について述べた。しかしながら、このことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置から側方位置へ移動している間にのみ、振動子４０が超音波振動を生じさせるようにしても良く、あるいはウエハ保持部２１ａ、２１ｂが側方位置から下降位置へ移動している間にのみ、振動子４０が超音波振動を生じさせるようにしても良い。いずれの場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８２】
また、本実施の形態においては、ウエハボード２０が、一対のウエハ保持部２１ａ、２１ｂを有し、これらウエハ保持部２１ａ、２１ｂが個別に移動する例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが一体に形成されて、下降位置と側方位置との間を一体に移動するように構成しても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハボード２０により保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８３】
また、本実施の形態においては、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂは、保持位置よりも下方に位置する下降位置を経由して保持位置から側方位置へ移動するとともに、下降位置を経由して側方位置から保持位置へ移動する例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを、下降位置を経由することなく、保持位置と側方位置との間を移動させるように構成しても良い。この場合、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂの駆動制御を簡素化することができる。
【００８４】
また、本実施の形態においては、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂがウエハＷの中心を通る垂直方向軸線Ｙに対して略対称的に移動する例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが、互いに同一方向に下降位置と側方位置との間を移動するように構成しても良い。この場合、例えば、まず、一方のウエハ保持部（第１ウエハ保持部）２１ａを下降位置から側方位置へ左方向（図１０参照）に移動する。次に、第１ウエハ保持部２１ａを側方位置から下降位置へ右方向に移動するとともに、他方のウエハ保持部（第２ウエハ保持部）２１ｂを下降位置から側方位置へ右方向に移動する。その後、第２ウエハ保持部２１ｂを側方位置から下降位置へ左方向に移動する。このようにしてウエハ保持部２１ａ、２１ｂを移動している間に、振動子４０に超音波振動を生じさせるようにしても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。なお、この場合、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂが下降位置と側方位置との間を往復移動する回数は、任意の回数とすることができる。
【００８５】
また、ウエハ保持部２１ａ、２１ｂを、上述のように下降位置と側方位置との間を互いに同一方向に移動させる場合、制御装置４４は、ウエハＷをウエハボード２０からバスハンド５０に引き渡した後、いずれか一方のウエハ保持部、例えば第１ウエハ保持部２１ａを下降位置から側方位置へ移動させ、この第１ウエハ保持部２１ａが少なくとも側方位置にあるときに、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成しても良い。あるいは、第１ウエハ保持部２１ａを下降位置から側方位置へ移動している間と、他方のウエハ保持部（第２ウエハ保持部）２１ｂを側方位置から下降位置へ移動している間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせても良い。あるいは、第１ウエハ保持部２１ａを側方位置から下降位置に移動させるとともに第２ウエハ保持部２１ｂを下降位置から側方位置に移動させている間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせても良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうちウエハ保持部２１ａ、２１ｂにより保持される領域に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【００８６】
また、本実施の形態においては、洗浄槽１０が容器１６に収容され、この容器１６の底部に、洗浄槽１０から流出した洗浄液を回収するパンが配設されている例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、洗浄槽１０が、洗浄液を貯留する内槽と、内槽からオーバーフローする洗浄液を回収する外槽とを有していてもよい。この場合、外槽に、洗浄液を内槽内に配設される洗浄液供給ノズルに供給する循環管路が連結されていてもよく、あるいは外槽に洗浄液を排出する排出弁機構が設けられていてもよい。
【００８７】
また、本実施の形態においては、洗浄槽１０内に、２つの洗浄液供給ノズル６１が設けられている例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、４つの洗浄液供給ノズル（図示せず）を設けても良い。
【００８８】
また、本実施の形態においては、洗浄槽１０の底板１４をアモルファスカーボンまたは炭化ケイ素により形成し、この底板１４の肉厚を比較的厚く（例えば、６．５ｍｍ）して振動子４０を直接取り付ける例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、底板１４の肉厚をこれよりも薄くし、この底板１４に音波透過性が良好なステンレス性の補強用板を介在させて振動子４０を取り付けるように構成してもよい。この場合においても、振動子４０からの超音波を効率良く透過させることができる。
【００８９】
さらに、本実施の形態においては、洗浄槽１０の底板１４に振動子４０が直接取り付けられている。しかしながらこのことに限られることはなく、洗浄槽１０の下方に、洗浄槽１０の少なくとも底部が浸漬するように純水を貯留した追加の槽（図示せず）を設けて、この追加の槽の底部に振動子４０を取り付けるように構成しても良い。この場合、振動子４０から生じた超音波振動は、追加の槽の純水を介して洗浄槽１０に伝播され、洗浄槽１０においてウエハＷを確実に超音波洗浄することができる。
【００９０】
なお、上述した実施の形態についてのいくつかの変形例を述べたが、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【００９１】
第２の実施の形態
次に、図１５乃至図１７により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図１５乃至図１７は、第２の実施の形態における超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の第２の実施の形態を説明するための図である。
【００９２】
図１５乃至図１７に示す第２の実施の形態においては、ウエハをバスハンドおよびウエハボードの第１ウエハ保持部に保持させた後、第２ウエハ保持部が側方に移動して、超音波洗浄が行われる点が主に異なり、他の構成は、図１乃至図１４に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図１５乃至図１７において、図１乃至図１４に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００９３】
本実施の形態におけるウエハボード２０は、個別に移動自在な一対のウエハ保持部２１ａ、２１ｂ（すなわち、第１ウエハ保持部２１ａと第２ウエハ保持部２１ｂ）を有している。
【００９４】
制御装置４４は、ウエハＷをバスハンド５０およびウエハボード２０の第１ウエハ保持部２１ａに保持させた後、ウエハボード２０の第２ウエハ保持部２１ｂを第２保持位置から第２下降位置を経由して第２側方位置に移動させて、その後に第２側方位置から第２下降位置を経由して第１保持位置に戻すように駆動装置２６を制御する。その後、制御装置４４は、ウエハＷをバスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持させた後、第１ウエハ保持部２０ａを、第１保持位置から第１下降位置を経由して第１側方位置に移動させて、その後に第１側方位置から第１下降位置を経由して第１保持位置に戻すように駆動装置２６を制御する。
【００９５】
制御装置４４は、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置と第２側方位置との間で移動している間、および第１ウエハ保持部２１ａが、第１下降位置と第１側方位置との間で移動している間、振動子４０に超音波振動を生じさせるように超音波発振装置４２を制御する。このようにして、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるようになっている。なお、制御装置４４は、第１ウエハ保持部２１ａの移動と、第２ウエハ保持部２１ｂの移動を均等にして、ウエハＷの各領域において第１ウエハ保持部２１ａにより超音波振動が遮蔽される時間と、第２ウエハ保持部２１ｂにより超音波振動が遮蔽される時間が均等になるように、駆動装置２６を制御する。
【００９６】
本実施の形態における超音波洗浄方法について説明する。ここでは、主に、第１の実施の形態と異なる工程について説明する。
【００９７】
まず、洗浄液に浸漬されたウエハＷが、バスハンド５０の一対の挟持部５１により挟持される（第３工程、図８参照）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部４１が退避位置から受渡位置に移動し、各挟持部５１がウエハＷの側面に当接する。このことにより、ウエハＷが一対の挟持部５１により挟持される。このとき、第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂは、ウエハＷを保持する第１保持位置および第２保持位置にそれぞれ維持されている。
【００９８】
次に、ウエハボード２０の第２ウエハ保持部２１ｂが側方に移動してウエハＷの超音波洗浄が行われる。
【００９９】
この場合、まず、ウエハボード２０の第２ウエハ保持部２１ｂが、ウエハＷを保持していた位置から下降する（第２１工程）。すなわち、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ｂが駆動され、第２ウエハ保持部２１ｂが下降する（図１５参照）。このことにより、ウエハＷがバスハンド５０および第１ウエハ保持部２１ａに保持されると共に、第２ウエハ保持部２１ｂがウエハＷから離れる。このとき、第２ウエハ保持部２１ｂは、第２保持位置よりも下方に位置する第２下降位置にある。
【０１００】
次に、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置と第２側方位置との間を連続して移動する（第２２工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて側方移動駆動部３０ｂが駆動され、図１５における右方向に移動して、第２側方位置に達する（図１６参照）。その後、右方向に移動した第２ウエハ保持部２１ｂは、左方向に移動し、第２下降位置に戻る（図１７参照）。なお、この間、第１ウエハ保持部２１ａは、バスハンド５０と共にウエハＷを保持した状態で停止している。このようにして、第２ウエハ保持部２１ｂは、第２下降位置と第２側方位置との間を連続して往復移動する。なお、第２下降位置と第２側方位置との間を第２ウエハ保持部２１ｂが往復する回数は、１回に限られることはなく、複数の回数としてもよい。
【０１０１】
第２ウエハ保持部２１ｂが第２下降位置と第２側方位置との間を連続して移動している間、制御装置４４は振動子４０に超音波振動を生じさせる（第２３工程）。このようにして、ウエハＷのうち第２ウエハ保持部２１ｂにより遮蔽される領域に超音波振動を伝播させることができる。
【０１０２】
次に、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置から上昇してウエハＷを保持する第２保持位置に戻る（第２４工程、図１２参照）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ｂが駆動され、第２ウエハ保持部２１ｂが上昇する。このことにより、第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂは、略同一の高さとなり、ウエハＷが、保持棒２３ｂの保持溝２５ｂに係合して、第２ウエハ保持部２１ｂに保持されるようになる。このようにして、バスハンド５０、第１ウエハ保持部２１ａ、および第２ウエハ保持部２１ｂにより、ウエハＷが保持される。このとき、第２ウエハ保持部２１ｂは、ウエハＷを保持する第２保持位置にある。
【０１０３】
その後、第２ウエハ保持部２１ｂと同様にして、第１ウエハ保持部２１ａが側方に移動してウエハＷの超音波洗浄が行われる。
【０１０４】
この場合、まず、第１ウエハ保持部２１ａが、ウエハＷを保持していた位置から下降する（第２５工程）。すなわち、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａが駆動され、第１ウエハ保持部２１ａが下降する。このことにより、ウエハＷがバスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持されると共に、第１ウエハ保持部２１ａがウエハＷから離れる。このとき、第１ウエハ保持部２１ａは、第１保持位置よりも下方に位置する第１下降位置にある。
【０１０５】
次に、第１ウエハ保持部２１ａが、第１下降位置と第１側方位置との間を連続して移動する（第２６工程）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて側方移動駆動部３０ａが駆動され、図１５における左方向に移動して、第１側方位置に達する。その後、左方向に移動した第１ウエハ保持部２１ａは、右方向に移動し、第１下降位置に戻る。なお、この間、第２ウエハ保持部２１ｂは、バスハンド５０と共にウエハＷを保持した状態で停止している。このようにして、第１ウエハ保持部２１ａは、第１下降位置と第１側方位置との間を連続して往復移動する。なお、第１下降位置と第１側方位置との間を第１ウエハ保持部２１ａが往復する回数は、１回に限られることはなく、複数の回数としてもよい。
【０１０６】
第１ウエハ保持部２１ａが第１下降位置と第１側方位置との間を連続して移動している間、制御装置４４は振動子４０に超音波振動を生じさせる（第２７工程）。このようにして、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａにより遮蔽される領域に超音波振動を伝播させることができる。
【０１０７】
次に、第１ウエハ保持部２１ｂが、第１下降位置から上昇してウエハＷを保持する保持位置に戻る（第２８工程、図１２参照）。この場合、制御装置４４からの制御信号を受けて昇降駆動部２７ａが駆動され、第１ウエハ保持部２１ａが上昇する。このことにより、第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂは、略同一の高さとなり、ウエハＷが保持棒２３ａの保持溝２５ａに係合して、第１ウエハ保持部２１ａに保持されるようになる。このようにして、バスハンド５０、第１ウエハ保持部２１ａ、および第２ウエハ保持部２１ｂにより、ウエハＷが保持される。このとき、第１ウエハ保持部２１ａは、ウエハＷを保持する第１保持位置にある。
【０１０８】
次に、洗浄槽１０内のウエハＷのリンス処理が行われる（第２９工程）。この場合、洗浄槽１０内の薬液が排出されて純水が供給され、上述した第２１工程乃至第２８工程と同様にして、第１ウエハ保持部２１ａまたは第２ウエハ保持部２１ｂを移動させながら、洗浄液に超音波振動を伝播させる。
【０１０９】
その後、ウエハＷは洗浄槽１０から搬出される。
【０１１０】
このように本実施の形態によれば、洗浄槽１０内の洗浄液に浸漬されるとともにウエハボード２０の第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持されているウエハＷが、洗浄槽１０内に設けられたバスハンド５０および第１ウエハ保持部２１ａに保持され、その後、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２保持位置から第２下降位置に移動して、第２下降位置と第２側方位置との間を連続移動し、第２保持位置に戻る。さらにその後、ウエハＷが、バスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持されて、第１ウエハ保持部２１ａが、第１保持位置から第１下降位置に移動して、第１下降位置と第１側方位置との間を連続移動し、第１保持位置に戻る。第１ウエハ保持部２１ａが第１下降位置と第１側方位置との間を移動している間、および第２ウエハ保持部２１ｂが第２下降位置と第２側方位置との間を移動している間、制御装置４４が振動子４０に超音波振動を生じさせる。このことにより、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。このため、ウエハＷの全域を均一に超音波洗浄することができる。
【０１１１】
また、本実施の形態によれば、ウエハＷを超音波洗浄する際、ウエハＷが、バスハンド５０およびウエハボード２０の一方のウエハ保持部により保持される。このことにより、ウエハＷを安定して保持することができる。
【０１１２】
なお、上述した第２の実施の形態においては、第１の実施の形態と同様に、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。
【０１１３】
とりわけ、第２の実施の形態においては、第２ウエハ保持部２１ｂが、第２下降位置と第２側方位置との間で移動している間、および第１ウエハ保持部２１ａが、第１下降位置と第１側方位置との間で移動している間、振動子４０に超音波振動を生じさせる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第１側方位置、第２側方位置に達した第１ウエハ保持部２１ａ、第２ウエハ保持部２１ｂを所定時間停止させる場合に、第１ウエハ保持部２１ａが第１側方位置で停止している間、および第２ウエハ保持部２１ｂが第２側方位置で停止している間にのみ、振動子４０に超音波振動を生じさせるように制御装置４４を構成しても良い。すなわち、制御装置４４は、ウエハＷをバスハンド５０および第１ウエハ保持部２１ａに保持させた後、第２ウエハ保持部２１ｂを第２保持位置から第２側方位置へ移動させ、その後に第２保持位置に戻し、更に、ウエハＷをバスハンド５０および第２ウエハ保持部２１ｂに保持させた後、第１ウエハ保持部２１ａを第１保持位置から第１側方位置へ移動させ、その後に第１保持位置に戻し、第１ウエハ保持部２１ａが少なくとも第１側方位置にあるとき、および第２ウエハ保持部２１ｂが少なくとも第２側方位置にあるときに、振動子４０に超音波振動を生じさせるように構成してれば良い。この場合においても、振動子４０からの超音波振動を、ウエハＷのうち第１ウエハ保持部２１ａおよび第２ウエハ保持部２１ｂにより保持される領域（遮蔽される領域）に伝播させるとともに、ウエハＷの全域に超音波振動を均一に伝播させることができる。
【０１１４】
ところで、上述したように、超音波洗浄装置１はコンピュータを含む制御装置４４を有している。この制御装置４４により、超音波洗浄装置１の各構成要素が動作し、ウエハＷの洗浄が実施されるよう構成されている。そして、超音波洗浄装置１を用いたウエハＷの洗浄を実施するために、制御装置４４のコンピュータによって実行されるプログラムを記録した記録媒体４５も本件の対象である。ここで、記録媒体４５は、ＲＯＭまたはＲＡＭなどのメモリーでもよく、また、ハードディスクまたはＣＤ−ＲＯＭなどのディスク状の記録媒体４５であってもよい。
【０１１５】
なお、以上の説明においては、本発明による超音波洗浄装置１、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体４５を、半導体ウエハＷの洗浄処理に適用した例を示している。しかしながらこのことに限られることはなく、ＬＣＤ基板またはＣＤ基板等、種々の基板等の洗浄に本発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【０１１６】
１ 超音波洗浄装置
１０ 洗浄槽
１１ 側壁
１２ パッキング
１３ 固定ボルト
１４ 底板
１５ 切欠溝
１６ 容器
２０ ウエハボード
２１ａ、２１ｂ ウエハ保持部
２２ａ、２２ｂ 基部
２３ａ、２３ｂ 保持棒
２４ａ、２４ｂ 連結部材
２５ａ、２５ｂ 保持溝
２６ 駆動装置
２７ａ、２７ｂ 昇降駆動部
２８ａ、２８ｂ 昇降駆動力伝達部
２９ａ、２９ｂ アダプタ
３０ａ、３０ｂ 側方移動駆動部
３１ａ、３１ｂ 側方駆動力伝達部
４０ 振動子
４１ 振動子単体
４２ 超音波発振装置
４３ 駆動電源部
４４ 制御装置
４５ 記録媒体
５０ バスハンド
５１ 挟持部
５２ 当接棒
５３ 連結部材
６０ 洗浄液供給装置
６１ 洗浄液供給ノズル
６１ａ 管状ノズル本体
６１ｂ 第１ノズル孔
６１ｃ 第２ノズル孔
６２ 洗浄液供給管
６３ 切換弁
６４ 純水供給管
６５ 純水供給源
６６ 薬液供給管
６７ 薬液タンク
６８ 開閉弁
６９ 薬液ポンプ
８０ 排出弁機構
８１ 被当接部
８２ 弁体
８３ ピストンロッド
８４ シリンダ装置
８５ 排液口
Ｗ ウエハ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に挿入可能に設けられ、被処理体を保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子と、
前記振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置と、
前記洗浄槽内に設けられ、前記被処理体を保持する側部保持部材と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる駆動装置と、
前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させた後、前記被処理体保持装置を側方へ移動させるように前記駆動装置を制御すると共に、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体に伝播させるように前記超音波発振装置を制御することを特徴とする超音波洗浄装置。
【請求項２】
前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成されており、
前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、当該被処理体保持装置を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項３】
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記各被処理体保持部は、個別に移動自在となっていることを特徴とする請求項２に記載の超音波洗浄装置。
【請求項４】
一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動することを特徴とする請求項３に記載の超音波洗浄装置。
【請求項５】
前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動させ、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置を当該下降位置から当該側方位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
【請求項６】
前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させ、当該被処理体保持装置を当該側方位置から当該下降位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項５に記載の超音波洗浄装置。
【請求項７】
前記側部保持部材は、前記被処理体を引き受けて保持する受渡位置と、前記被処理体から離れて退避する退避位置との間を移動することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
【請求項８】
前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有していることを特徴とする請求項７に記載の超音波洗浄装置。
【請求項９】
前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成され、
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有しており、
前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、前記被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該一方の被処理体保持部が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項１０】
前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有しており、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動させると共に、前記第２被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動させるように構成され、
前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、前記被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部を前記第２保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部を前記第１保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第１保持位置に戻すように前記駆動装置を制御すると共に、当該第１被処理体保持部が少なくとも当該第１側方位置にあるとき、および当該第２被処理体保持部が少なくとも当該第２側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項１１】
被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする超音波洗浄方法。
【請求項１２】
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、
前記被処理体保持装置が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項１１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１３】
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記各被処理体保持部は、個別に移動自在になっていることを特徴とする請求項１２に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１４】
一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動することを特徴とする請求項１３に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１５】
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動して、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動し、
前記被処理体保持装置を前記下降位置から前記側方位置へ移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせることを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
【請求項１６】
前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させる工程を更に備え、
前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせることを特徴とする請求項１５に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１７】
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、前記被処理体から離れて退避する退避位置から当該被処理体を引き受けて保持する受渡位置に移動して、当該被処理体を保持することを特徴とする請求項１１乃至１６のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
【請求項１８】
前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有し、
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、一対の前記挟持部を当該被処理体の前記側面に当接させて当該被処理体を挟持することを特徴とする請求項１７に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１９】
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、
前記被処理体保持装置の前記一方の被処理体保持部が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項１１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項２０】
前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有し、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、当該被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動し、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動し、その後に当該第１保持位置に戻し、
前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部が少なくとも前記第１側方位置にあるとき、および前記第２被処理体保持部が少なくとも前記第２側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項１１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項２１】
超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、
当該超音波洗浄方法は、
被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする記録媒体。
【請求項１】
洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に挿入可能に設けられ、被処理体を保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子と、
前記振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置と、
前記洗浄槽内に設けられ、前記被処理体を保持する側部保持部材と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる駆動装置と、
前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させた後、前記被処理体保持装置を側方へ移動させるように前記駆動装置を制御すると共に、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体に伝播させるように前記超音波発振装置を制御することを特徴とする超音波洗浄装置。
【請求項２】
前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成されており、
前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、当該被処理体保持装置を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項３】
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記各被処理体保持部は、個別に移動自在となっていることを特徴とする請求項２に記載の超音波洗浄装置。
【請求項４】
一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動することを特徴とする請求項３に記載の超音波洗浄装置。
【請求項５】
前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動させ、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置を当該下降位置から当該側方位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
【請求項６】
前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させ、当該被処理体保持装置を当該側方位置から当該下降位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項５に記載の超音波洗浄装置。
【請求項７】
前記側部保持部材は、前記被処理体を引き受けて保持する受渡位置と、前記被処理体から離れて退避する退避位置との間を移動することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
【請求項８】
前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有していることを特徴とする請求項７に記載の超音波洗浄装置。
【請求項９】
前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成され、
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有しており、
前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、前記被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該一方の被処理体保持部が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項１０】
前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有しており、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動させると共に、前記第２被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動させるように構成され、
前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、前記被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部を前記第２保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部を前記第１保持位置から前記第２側方位置へ移動させ、その後に当該第１保持位置に戻すように前記駆動装置を制御すると共に、当該第１被処理体保持部が少なくとも当該第１側方位置にあるとき、および当該第２被処理体保持部が少なくとも当該第２側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の超音波洗浄装置。
【請求項１１】
被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする超音波洗浄方法。
【請求項１２】
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、
前記被処理体保持装置が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項１１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１３】
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記各被処理体保持部は、個別に移動自在になっていることを特徴とする請求項１２に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１４】
一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動することを特徴とする請求項１３に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１５】
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動して、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動し、
前記被処理体保持装置を前記下降位置から前記側方位置へ移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせることを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
【請求項１６】
前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させる工程を更に備え、
前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせることを特徴とする請求項１５に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１７】
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、前記被処理体から離れて退避する退避位置から当該被処理体を引き受けて保持する受渡位置に移動して、当該被処理体を保持することを特徴とする請求項１１乃至１６のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
【請求項１８】
前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有し、
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、一対の前記挟持部を当該被処理体の前記側面に当接させて当該被処理体を挟持することを特徴とする請求項１７に記載の超音波洗浄方法。
【請求項１９】
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、
前記被処理体保持装置の前記一方の被処理体保持部が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項１１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項２０】
前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第１被処理体保持部と第２被処理体保持部とを有し、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第１被処理体保持部に保持させた後、当該被処理体保持装置の前記第２被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第２保持位置から当該第２保持位置の側方に位置する第２側方位置まで移動し、その後に当該第２保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第２被処理体保持部に保持させた後、当該第１被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第１保持位置から当該第１保持位置の側方に位置する第１側方位置まで移動し、その後に当該第１保持位置に戻し、
前記被処理体保持装置の前記第１被処理体保持部が少なくとも前記第１側方位置にあるとき、および前記第２被処理体保持部が少なくとも前記第２側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第１被処理体保持部および前記第２被処理体保持部により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項１１に記載の超音波洗浄方法。
【請求項２１】
超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、
当該超音波洗浄方法は、
被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１１−１００９６９（Ｐ２０１１−１００９６９Ａ）
【公開日】平成２３年５月１９日（２０１１．５．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１７４６０４（Ｐ２０１０−１７４６０４）
【出願日】平成２２年８月３日（２０１０．８．３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１９日（２０１１．５．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月３日（２０１０．８．３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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