【課題】 従来洗浄困難であった被洗浄面全域をコンタミが覆った場合であっても、該コンタミを好適に除去する。
【解決手段 】被洗浄面に対して垂直な方向から洗浄流体を吹き付ける第一の洗浄工程と、第一の洗浄工程により部分的に露出した被洗浄面に対して垂直とは異なる所定の角度を以って洗浄流体を吹き付ける第二の洗浄工程と、によって被洗浄面とコンタミとの剥離部分を拡大させてコンタミの除去を図る。 （もっと読む）

【課題】従来よりコンパクト化することが可能な浸漬装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の電着処理装置１０は、ワークＷに電着被膜を形成するための表面の電着塗料を貯留した円形の電着処理槽１１と、電着処理槽１１内の電着塗料を一方向に旋回させる起流ポンプ１５と、ワークＷを吊り下げて、電着塗料に浸した状態に保持するワーク治具２０と、電着塗料中の異物を取り除くためのフィルタ１６とを備えている。電着処理槽１１を円形にしたことで電着処理装置１０が従来よりもコンパクト化され、設置の自由度が向上する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄液を節水してコストを低減すると共に、洗浄工程の省スペース化を図ることが可能な洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】外部から搬入された基板Ｗを略垂直姿勢で収容する洗浄槽５１Ａと、該洗浄槽５１Ａ内の基板Ｗに両面から洗浄液を噴射する洗浄液噴射部と、洗浄槽５１Ａから洗浄液を回収する洗浄液回収部とを備え、洗浄槽５１Ａは、基板Ｗに直交する断面における下部Ｋが上部Ｊよりも狭い幅で、かつ、中間部Ｔの幅が上から下に向かって狭くなっている。 （もっと読む）

【課題】 洗浄効率の高いベアリング洗浄装置を提供する。
【解決手段】
２本の回転駆動軸３０、３０の間にベアリング５０を乗せ、回転しつつ支持し、ベアリング５０の内部には、軸線５５に沿ってノズル中空軸１がされる。ノズル中空軸１には、複数のノズル孔１０が形成され、またノズル中空軸１には洗浄液供給装置１６から洗浄液が供給され、該ノズル孔１０から洗浄液を径方向に噴射する。ノズル孔１０は、ノズル中空軸１の周側面上にらせん状に配置され、また駆動装置１５によりベアリング５０の回転方向とは逆方向回転し、ベアリング５０の内周を洗浄する。 また、ノズル中空軸１は駆動装置１５により軸線方向に往復動可能に構成されており、ベアリング５０の軸線５５に沿って往復動しつつ、又回転しつつ、ノズル孔１０から洗浄液を噴射して、ベアリング５０の内周を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】洗浄効率を向上できる緩衝器の洗浄装置および製造方法の提供。
【解決手段】外筒１１と、外筒１１の端部から突出するロッドと、ロッドを覆うように配されるダストカバー２０とからなる緩衝器１０の洗浄装置３０であって、緩衝器１０を吊持する取付部３４と、緩衝器１０を洗浄するシャワー部４５とから構成され、シャワー部４５は、取付部３４に吊持された緩衝器１０の下側に緩衝器１０と離間して配置されるシャワー本体５２と、シャワー本体５２に設けられ、洗浄流体を噴出するシャワー噴出口５５，５６とからなり、緩衝器１０に向けて傾斜して洗浄流体が噴出するようシャワー噴出口５５，５６を配置する。 （もっと読む）

【課題】メガソニック洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】メガソニック洗浄方法として、洗浄対象体と区分される空間で、メガソニックによって洗浄液を起電させてマイクロ空洞を生成させる。生成されたマイクロ空洞のうち、安定な振動のマイクロ空洞のみを洗浄対象体がロードされた空間に移動させる。また、前記安定な振動のマイクロ空洞を利用して前記洗浄対象体の表面を洗浄する。前記方法によると、洗浄対象体内のパターンの損傷を防ぎ且つ洗浄対象体表面のパーティクルを効果的に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 外装体と洗浄治具本体の間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを低減し、洗浄での歩留まりを向上させることができる洗浄治具を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、洗浄治具を搬送するための搬送手段と、洗浄ノズル手段の内部流路と接続する複数の洗浄ノズル部と、洗浄ノズル手段が接続された噴出手段と、純水が蓄えられている純水槽と、純水槽から前記噴出手段へ純水を送る高圧ポンプ手段と、を備え、洗浄ノズル手段が円筒形の洗浄ノズル部とこの洗浄ノズル部とつながる内部流路とを備え、洗浄ノズル部が、前記搬送手段と平行となる平行線に対して、３０度〜６０度の角度で傾斜して円筒形の洗浄ノズル部の円筒の中心線が設けられていることを特徴とすることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】長尺方向に走行する織編物に対して、できるだけ少ない量の薬液を付与し、この薬液でもって織編物内部への薬液の十分な含浸を得ると共に、続く乾燥工程における省エネルギーに寄与できる薬液の少量付与を可能とする。
【解決手段】第１薬液が塗布された第１グラビア塗工ロールの周面上に織編物の一方面側が接すると同時に、当該織編物を第１グラビア塗工ロールに対して、第１押圧ロールにより、０．０５ＭＰａ〜０．５ＭＰａの押圧力で押圧して、第１薬液を織編物に対して一方面側から含浸する第１含浸工程と、第２薬液が塗布された第２グラビア塗工ロールの周面上に織編物の他方面側が接すると同時に、当該織編物を第２グラビア塗工ロールに対して、第２押圧ロールにより、０．０５ＭＰａ〜０．５ＭＰａの押圧力で押圧して、第２薬液を織編物に対して他方面側から含浸する第２含浸工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】薄板部材洗浄装置１０００は、蓋部材１１０１と、この蓋部材１１０１により一方端側に設けられた開口部が閉ざされ、内部に水道水１３００が蓄えられる細長い円筒形状容器１１０２とを含む洗浄容器１１００と、この洗浄容器１１００内に収容され、洗浄容器１１００内を移動することで水道水１３００によりその表面が洗浄されるメッシュ部材１６０を保持する薄板部材固定部材１２００とを備えている。 （もっと読む）

この出願は、基板の少なくとも部分的な領域を処理するための複数の方法及び装置を開示する。前記方法においては、少なくとも１つの液体が基板の少なくとも１つの部分的な領域に提供され、それぞれの方法に従って所望の効果を達成するために、電磁放射がこの液体に導入される。１つの方法において、液体を提供する前にＵＶ放射によって液体のラジカルが発生され、ラジカルの発生は、少なくともラジカルの一部が基板に到達するように、液体を基板の提供する直前に行われる。基板の表面の少なくとも部分的な領域及び前記基板の表面に近い層からイオンが除去される１つの方法においては、前記基板の少なくとも部分的な領域に液体膜を形成するために、周囲温度よりも高く加熱された液体が基板に提供され、放射の少なくとも一部が基板表面に到達するように、電磁放射が前記液体膜に導入される。少なくとも部分的に疎水性の基板表面を有する基板の表面特性を、前記疎水性表面の少なくとも一部が親水性表面特性を得るように変化させる別の方法において、液体が、表面特性を変化させようとする基板の表面の少なくとも部分的な領域に提供され、所定の波長範囲のＵＶ放射が、前記液体を通って、表面特性を変化させようとする前記基板の表面の少なくとも部分的な領域まで案内される。この方法は、共通の装置において、あらゆる所望の順序で順次に及び／又は並行して行われてよい。
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【課題】この発明は基板の板面をノズル体によって噴射供給される処理液によって処理する際、全面を均一に処理できるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定方向に搬送する搬送ローラ５と、基板の搬送方向と交差する幅方向の両端部に処理液を隙間が生じることのない密の状態で均一に噴射供給する第１のノズル体２３と、基板の第１のノズル体によって処理液が供給された幅方向両端部を除く部分に処理液を基板の搬送方向及び搬送方向と交差する方向に対して隙間が生じる疎の状態で噴射供給する第２のノズル体２４を具備する。 （もっと読む）

【課題】貯留槽内の処理液の温度を槽内で一様にし、また、基板上に形成された膜の厚みが不均一であったり基板上の部位によって膜質の違いがあったりしても、基板面内における処理速度の不均一を緩和することでき、基板の主面全体における処理品質の均一性を向上させることができる装置を提供する。
【解決手段】処理液２０を貯留する貯留槽１０と、貯留槽の上部開口面を閉塞する覆蓋部２８と、貯留槽に貯留された処理液中で基板Ｗを搬送する搬送ローラ２６と、貯留槽の底部に設けられた供給口２２と、覆蓋部に設けられた補助供給口３０と、供給口および補助供給口に処理液を供給する処理液供給管２４、３２とを備えて、ディップ処理を行う装置を構成した。 （もっと読む）

【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程３、物品を、１−メトキシ−２−トリフルオロメチル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと１−メトキシ−１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンの混合物等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程４、エーテル置換工程４から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、０．２〜２倍の量の水を接触させる水抽出工程６、含フッ素エーテルとアルコールを含んだ水とを分離させる水分離工程７、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程４に戻す工程を有する物品の水切り方法。 （もっと読む）

【課題】彫刻欠陥、特にキャップの効果的な除去方法であって、彫刻エッジを損傷しない方法を提案する。
【解決手段】本発明は、フレキシブルキャリア上に堆積された金属膜からマスク投影レーザーアブレーション彫刻欠陥を除去する方法に関する。本発明によると、前記方法は、約１５００ＰＳＩから約３０００ＰＳＩの間で加圧された液体を前記欠陥上に噴霧することを含む。 （もっと読む）

【課題】ドライアイス洗浄時に乱気流の発生を抑えつつ異物の除去が可能なフィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し装置２と、ウェブフィルムＷを液体で洗浄する第１洗浄部３１、第２洗浄部３３と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する第１乾燥部３２、第２乾燥部３４と、乾燥したウェブフィルムＷに対して気体とともにパウダー状のドライアイスを吹き付ける吹付けノズル４１を有し、吹付けノズル４１でドライアイスを吹き付けてウェブフィルムＷを洗浄するドライアイス洗浄部４と、ドライアイス洗浄したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り装置６と、を備え、吹付けノズル４１は、ドライアイスの吹付け方向がウェブフィルムの洗浄面に対して斜めに傾けて設置されている。 （もっと読む）

【課題】シュート式のキャップ洗浄殺菌装置において、シュート内での合成樹脂キャップに作用する積圧を緩和してキャップの変形を防止し、且つ上流側で噴射した温水や無菌水が下流側の温水や無菌水に及ぼす影響を少なくして効率よく殺菌洗浄できるようにする。
【解決手段】シュート５は上り勾配シュート部７、９を有し、該上り勾配シュート部に沿って殺菌洗浄媒体としての温水を噴射する複数個の噴射ノズルを有する温水パイプを配置し、該上り勾配シュート部に供給されたキャップに温水を噴射し、該温水の噴射圧力により前記キャップ３５に前記上り勾配シュート部を上昇する推力を付与し、前記殺菌洗浄媒体によりキャップを殺菌洗浄すると共に搬送を行う。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の側端面から、加工硬化層や無数のマイクロクラックを除去する基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理部４０は、主として本体部４０１と、送給部５と、回収部６とを備える。本体部４０１には、ガラス基板９０が遊挿されたときに、当該ガラス基板９０の側端面と端縁の表裏面を覆うことが可能な開口部４０３が設けられている。また、開口部４０３の内部には、供給口４０４および排出口４０５が設けられている。送給部５は、薬液送給部５０、純水送給部５１および熱風送給部５２を備えており、供給口４０４を介して開口部４３に連通接続される。また回収部６は、使用済薬液収容部６０、純水廃棄部６１および排気部６２を備えており、排出口を介して開口部４０３に連通接続される。 （もっと読む）

【課題】 帯状金属の酸洗時における不必要な溶削が低減化され、帯状金属の歩留りおよび酸洗液の原単位が向上し、帯状金属の断面プロフィールの修正をおこなうこともできる、帯状金属の酸洗装置を提供する。
【解決手段】 帯状金属Ｗの板巾方向に延び複数個のスプレーノズルをそなえたノズルヘッダ２０を複数本並設してなる酸洗ゾーンを、帯状金属Ｗの走行路に沿って複数ゾーン配設し（酸洗ゾーンＡ〜Ｄ）、ノズルヘッダ２０に設けたスプレーノズル群のスプレー流量の板巾方向の流量分布を、酸洗ゾーン毎に異なる流量分布とするとともに、複数の酸洗ゾーンのうちのいくつかの酸洗ゾーンの前記流量分布を、板巾方向に変化する流量分布とし、各酸洗ゾーンへの酸洗液の供給を個々にオンオフして各酸洗ゾーンをスプレー状態又はスプレー停止状態に切換える切換装置（開閉弁Ｖa_１〜Ｖd_２）を備えた。 （もっと読む）

【課題】グリコール系やアルコール系の有機溶剤を使用せず、環境負荷の少ない安価な洗浄方法であり、かつ０．２２ｍｍ幅や０．１４ｍｍ幅といった非常に狭い幅の印刷パターンの穴をも綺麗に洗浄可能なメタル版の洗浄方法及び洗浄装置並びメタル版洗浄用の気液噴射ノズルを提供する。
【解決手段】印刷配線基板に対してクリーム半田を印刷するために用いたメタル版１の洗浄方法であって、アルカリ性水と圧縮空気とをアルカリ性水噴射ノズル１４内において混合して、アルカリ性水を微細粒化しながら、この微細粒化したアルカリ性水をアルカリ性水噴射ノズル１４からメタル版１に向けて高速で噴き付けてメタル版１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】処理部中の塵埃を除去でき、装置の小型化、処理のスループットの向上及び歩留まりの向上を図れるようにすること。
【解決手段】搬送手段によって搬送されるウエハを処理部に搬送して処理を施す基板搬送処理において、ウエハＷの処理前に、搬送手段であるメインアームＡ２によって搬送される、塵埃を捕集可能な状態の捕集プレートＰＬを塗布処理ユニット３２に搬入して、塗布処理ユニット内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。塵埃を捕集した捕集プレートを洗浄ユニット８０内に搬入し、この洗浄ユニット内において捕集した塵埃を洗浄により除去し、塵埃が除去された捕集プレートを、塵埃を捕集可能な状態例えばイオナイザ２００によって帯電して再生する。塵埃を捕集可能な状態に再生された捕集プレートを、メインアームによって処理前の処理部に搬入して、この処理部内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。 （もっと読む）