【課題】精密工作機械の切削加工による加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】精密工作機械の切削加工により加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置１０であって、前記被洗浄物にエアーブローを施す空圧除去領域部３０と、前記被洗浄物を水中で洗浄する水中洗浄領域部と、前記空圧除去領域部と前記水中洗浄領域部４０の間を上下に移動する昇降領域部５０と、該昇降領域部及び前記空圧除去領域部３０を制御する制御領域部７０とを、其々本体領域部に配設した構成から成る手段を採る。 （もっと読む）

【課題】金属の洗浄において、低起泡性能、防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）と下記一般式（２）で表される非イオン界面活性剤とを含有するものとする。




式（１）中、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜３０の数であり、式（２）中、ＰＯはオキシプロピレン基、ＥＯはオキシエチレン基、ｐ、ｒはそれぞれ平均付加モル数として、ｐ＝０〜５、ｒ＝３〜１５である。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄作業を行う作業室を、洗浄槽内を上下移動可能とし洗浄槽とは別個に気密的に遮断して形成したものであるから、減圧乾燥等の被洗浄物の洗浄作業に必要な最小限の空間を形成する事が可能となるとともに洗浄槽に洗浄液や洗浄蒸気が存在する状態での減圧乾燥が、減圧機構に無駄な負荷をかけたりすることが無く効率的に行う事を可能とする。
【解決手段】洗浄槽１内を上下移動可能とするとともに上下移動方向の側面に開放および密閉可能な開口部２２を形成して被洗浄物１２を収納するための耐圧性の作業室２を設ける。この作業室２の側面に設けた開口部２２を被覆して作業室２内を密閉可能とするとともにこの作業室２内を減圧機構２７に接続して減圧可能とする被覆体２４を、洗浄槽１の内面に水平方向に進退可能に形成する。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、溶液保持容器１３０に収容されている基板処理溶液ＴＬに処理対象基板ＰＢが浸漬される。このような溶液保持容器１３０に溶液供給機構１４１が基板処理溶液ＴＬを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液ＴＬを溶液乱流機構１４２が処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳに圧送する。このため、処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳは基板処理溶液ＴＬが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 （もっと読む）

【課題】薄板部材を破損させることなく効率良く薄板部材を洗浄することを可能とする薄板部材洗浄装置を提供する。
【解決手段】メッシュ部材保持部５３０が支持された回転腕部材５２７を回転ハンドル５２４を用いて回転させることで、水道水がメッシュ部材１６０の表面を流れ、メッシュ部材１６０に付着している薬液カスが除去される。 （もっと読む）

【課題】 クーラント由来の残渣に対して優れた洗浄性を有するとともに適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示され、ｍ/(ｎ＋ｍ＋ｋ)が０．２０〜０．５５であるノニオン界面活性剤（Ａ）と脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。
ＨＯ−（ＥＯ）n−（ＰＯ）m−（ＥＯ)ｋ−Ｈ （１）
［式中、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、（ＥＯ）n、（ＰＯ）m、（ＥＯ)ｋは、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドがブロック状で付加している。ｎ、ｍ、ｋはそれぞれ２０以上の数を表し、ｎ＋ｍ＋ｋは６０〜２００である。］ （もっと読む）

【課題】迅速かつ確実に多結晶シリコン塊を洗浄して効果的にシリコンの微粉末や小片、不純物を除去し、酸洗工程の酸液の劣化を抑えながら、高品質の単結晶シリコンの製造を可能とする。
【解決手段】多結晶シリコンロッドを切断または破砕により細分化して得られた多結晶シリコン塊の洗浄装置であって、複数の貫通孔が設けられ多結晶シリコン塊を収容する搬送可能な洗浄かごと、洗浄かごを収容し、底面に設けられた給水口から連続的に洗浄水を供給される洗浄槽本体と、洗浄槽本体内に備えられて洗浄かごを収容し、洗浄かごの貫通孔よりも目が小さい複数の開口部を底面に有する内かごと、洗浄かごを保持しこの洗浄かごを内かご内で揺動させる揺動装置とを備え、洗浄槽本体に、この洗浄槽本体の上部から溢水する洗浄水を回収するオーバーフロー部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】
加工作業により被加工物に付着残留した加工油を簡易な方法により減量除去し、これを再利用可能とするとともに、被加工物の洗浄のために必要となる洗浄溶剤を少なくするか又はゼロとすることにより、ランニングコストを低くするとともに、地球環境への負荷を軽減する。
【解決手段】
被加工物12の加工作業に使用した加工油と同じ加工油4を、前記加工作業時の油温よりも高温に加熱して粘度を低下させ、この加熱した加工油4を、前記加工作業により加工油が付着した被加工物12に接触させることにより、被加工物12に付着している加工油の粘度を低下させ、その付着量を減少させる。 （もっと読む）

【課題】手作業での洗浄に比べ、格段に迅速かつ簡単に刷毛を洗浄することができ、その構造がきわめて簡素で、作業現場への持ち運びや運用、使用後のメンテナンスなどもきわめて容易な洗浄器具を提供すること。
【解決手段】洗浄器具１は、容器３と、クランク部材５を備える。クランク部材５は、回転中心に配置される第一主軸部５Ａ、第二主軸部５Ｃ、および工具接続部５Ｄと、回転中心から偏った位置に配置される偏心軸部５Ｂを有する形状で、工具接続部５Ｄが電動工具２１に取り付けられる。電動工具２１を作動させると、クランク部材５が回転駆動され、その際、偏心軸部５Ｂに追従して動作する刷毛３１が、容器３内の洗浄液中で上下方向への移動を伴う往復運動をする状態となって、刷毛３１が洗浄される （もっと読む）

【課題】焼き網の洗浄装置において、従前より各々の方法がとられ、また装置が使用されているが、１枚ごとの洗浄のために処理能力に問題があった。
【解決手段】搬送ベルト上に焼き網1枚分の移動を規制する部材を設け、その上に複数枚の焼き網を重ねた状態にて、その上部より高圧の角度を変化させ、回転した洗浄水を噴射し通過させることにより、焼き網どうしが擦り合い研磨作用を発生させ数枚同時に洗浄可能となるため処理能力を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、洗浄性および耐泡立ち性が優れ、短時間の洗浄でも高度に清浄化されたＨＤ用基板を得ることを可能とするＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いた清浄度の高いＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、特定のアクリル酸系共重合化合物および／又はその塩（成分(Ａ)）と、ポリアミン（成分（Ｂ））と、水（成分(Ｃ)）と、を含有し、実質的に非イオン性界面活性剤を含有せず、前記成分(Ｃ)以外の成分の重量の総和における前記成分（Ｂ）の含有量は３０〜９５重量％であり、前記成分(Ａ)と前記成分(Ｂ)の重量比｛成分(Ａ)/成分(Ｂ)｝が０．０４〜０．８である、Ｎｉ−Ｐ含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ディスク駆動装置の構成部品の清浄度を向上し、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でもＴＡ障害発生の確率を低く保つことのできるディスク駆動装置の生産方法を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の生産方法は、所定レベル以上のクリーンルーム内で洗浄工程１００と組立工程２００が連続して実施される。洗浄、組立対象であるディスク駆動装置のベース部材１２は、洗浄工程１００は、アルカリ洗浄工程１０４、第１純水洗浄工程１０６、第２純水洗浄工程１０８、スプレー洗浄工程１１０、水切工程１１２、乾燥工程１１４を含む。第１純水洗浄工程１０６は、第１純水洗浄槽１２６に満たされた純水１２８中で、４０ｋＨｚ、６８ｋＨｚ、１３２ｋＨｚの周波数による純水超音波洗浄を順に施す。洗浄されたベース部材１２は、洗浄工程１００と連続した組立工程２００で清浄度が所定値以上ｎ他の構成部品と共に組み立てられる。 （もっと読む）

【課題】炊飯釜を適切に洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、凹状部20を有する回動可能な炊飯釜支持体21と、炊飯釜支持体21を回動させる支持体回動手段22とを備える。凹状部20には、凹状部20の凹部分内への取手部６の挿入を許容する許容状態および凹状部20の凹部分内から取手部６が抜け出るのを規制する規制状態になる抜止め体26を回動自在に設ける。洗浄装置１は、抜止め体26にて取手部６が凹部分内から抜け出ない状態の下向き姿勢の炊飯釜２内に向けて洗浄液を噴射する洗浄手段を備える。 （もっと読む）

【課題】手作業による作業効率の低いインキ装置の清掃作業を、生産性、作業効率の向上と溶剤、ウエスの資材の消費を抑え、洗浄によるコスト削減の自動洗浄装置を提供する。
【解決手段】インキドクターブレード自動洗浄装置１においては、インキドクターブレード３に固着したインキ汚れを洗浄するためにエアーと共に微少量の溶剤を噴射、また回転式エアーノズルにてインキを掻き取る作用を利用しております。このエアーノズルを可変速にて移動させることにより、インキドクターブレード３全体において、汚れの度合いに応じて自動洗浄致します。また、ドクターブレード本体３を任意角度にて揺動させることによりインキドクターブレード３の複雑な形状の自動洗浄に対応しております。これにより、手作業での洗浄に比較し、洗浄時間の短縮、洗浄コストの削減、洗浄効果の向上を提供致します。 （もっと読む）

【課題】
半導体基板やガラス基板の洗浄液やエッチング液として、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウムおよび水酸化ナトリウムなどの水溶液が用いられるが、アルカリ成分中の金属不純物が処理中に基板表面に吸着してしまうため、次工程として吸着した金属不純物を除去する工程が必要となる。また洗浄液の場合には、微粒子の除去には効果があるが、金属不純物は洗浄出来ないために酸洗浄を行う必要があり、工程が複雑となる。本発明では、アルカリ性水溶液で金属不純物の吸着がない、さらには洗浄能力を持つ基板処理用水溶液組成物を提供する。
【解決手段】
アルカリ成分と、特定のキレート剤とを組み合わせた基板処理用アルカリ性水溶液により、金属不純物の基板への吸着を防止し、さらには基板に付着した金属を洗浄除去する。必要に応じて、金属防食剤および界面活性剤を加えて、金属材料の腐食を抑え、あるいは基板への親和性および微粒子除去能力を高めることも可能である。 （もっと読む）

【課題】付帯設備の少ない洗浄装置で効率よく洗浄でき、洗浄作業や保守点検作業等の経費を節減可能な金属部品の洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】金属製の被洗浄対象部品１の表面の付着物を除去する金属部品の洗浄方法であって、陽極８ａおよび陰極８ｂを挿入した洗浄液中に直流電圧を印加処理して洗浄液を調製する洗浄液調製工程と、調製された洗浄液中で上記被洗浄対象部品を超音波洗浄する超音波洗浄工程とを備えてなり、洗浄液調整工程と超音波洗浄工程とが異なる槽内で行なわれ、洗浄液調製槽３での洗浄液調整工程で調整された洗浄用水溶液を、超音波洗浄工程を行なう洗浄槽４に循環供給する。 （もっと読む）

【課題】切削加工後の部品等を整列移動させて搬送するとともに、この部品等の洗浄を行うことができるコンパクトで且つ騒音の少ない洗浄振動フィーダを提供する。
【解決手段】本願発明の洗浄振動フィーダ１は、洗剤を用いた洗浄液２７を入れた洗浄槽２０に被搬送物６０が供給され、この被搬送物６０は振動によりこの洗浄槽２０の壁の内周面２３に設けられた螺旋形状の搬送路２１を整列移動して排出口２４から、水を用いた洗浄液３７を入れた外部洗浄槽３０に供給される。その後、この被搬送物６０は外部洗浄槽３０の壁の内周面３３に設けられた螺旋形状の搬送路３１を整列移動して搬送され排出口３４から排出される。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな装置で効率良く棒状部材の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部にワーク１を収容可能な収容部５を有するケース１０ａ，１１Ａと、収容部５への洗浄液の給排を行う洗浄液給排装置２Ａとを備え、ケース１０ａ，１１Ａは、収容部５へのワーク１の出し入れを行うことができるよう開閉可能に分割して構成され、ワーク１は、収容部５内へ供給されて排出される洗浄液によって洗浄されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有するアニオン成分と、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、炭素数０〜２５のアンモニウムカチオン、特定のアミン又はアミジン化合物にプロトンが付加したカチオンからなる群から選ばれる１種以上のカチオン成分からなるアニオン性界面活性剤（Ａ）を含有する電子材料用洗浄剤であって、（Ａ）の０．２重量％水溶液の２０℃におけるロス・マイルス試験により測定される起泡力が５０ｍｍ以下であり、泡の安定度が５ｍｍ以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 （もっと読む）