【課題】基板上に形成されたパターンの破損を回避しつつ、基板に対する洗浄能力を低下させずに洗浄を行うことができる。
【解決手段】基板上を複数の領域に区切り、領域毎にその位置情報とパターン情報を取得する情報取得部１１と、位置情報とパターン情報に基づいて、領域毎に基板に薬液を吐出するときの処理条件を決定する条件決定部１２と、基板に薬液を吐出する吐出部１５と、吐出部１５を基板の一端から他端への第１方向に向かって基板に対して相対的に移動する位置制御部１３と、位置制御部１３により移動される吐出部１５が基板上の領域の上方を通過するとき、前記処理条件に従って吐出部１５から吐出される薬液の圧力を調整する吐出調整部１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】ワークの下面をスプレー洗浄する際のワークの浮き上がりを防止することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄方法は、ワーク10の上側及び下側にそれぞれ配置された上スプレーノズル２及び下スプレーノズル４から上洗浄液３及び下洗浄液５をそれぞれ噴射した状態で、ワーク10を上下両ノズル2,4に対して相対的に水平方向に移動させることにより、ワーク10の上面10a及び外周面10bのうち少なくとも上面10aを上洗浄液３で洗浄するとともに、ワーク10の下面10cを下洗浄液５で洗浄する洗浄工程を含む。洗浄工程では、上ノズル２及び下ノズル４からそれぞれ上洗浄液３及び下洗浄液５を、下洗浄液５がワーク10の下面10cに当たるときは上洗浄液３が必ずワーク10の上面10a及び外周面10cからなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射する。 （もっと読む）

【課題】被処理体の全域を均一に超音波洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置１は、洗浄液を貯留する洗浄槽１０と、洗浄槽１０内に挿入可能に設けられ、被処理体Ｗを保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置２０と、洗浄槽１０の底部に設けられた振動子４０と、振動子４０に超音波振動を生じさせる超音波発振装置４２とを備えている。洗浄槽１０内には、被処理体Ｗを保持する側部保持部材５０が設けられている。また、被処理体保持装置２０は、駆動装置２６によって側方に移動するようになっている。制御装置４４は、被処理体Ｗを側部保持部材５０に保持させた後、被処理体保持装置２０を側方へ移動させるように駆動装置２６を制御すると共に、振動子４０に超音波振動を生じさせて振動子４０からの超音波振動を被処理体Ｗに伝播させるようになっている。 （もっと読む）

【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物を容器内に収容して洗浄する場合に、洗浄対象物を効率的に洗浄することが可能な洗浄装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】洗浄対象物を収容する容器２０を有し、前記洗浄対象物を前記容器２０内で洗浄する洗浄装置１であって、前記容器２０を支持する支持部材３１、３２と、前記容器２０を振動させる振動源５０と、前記容器２０に洗浄液を供給する洗浄液供給手段６０と、前記容器２０から前記洗浄液を排出する洗浄液排出手段６５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄における被洗浄物の洗浄ムラを抑制し、洗浄槽数を削減して装置のコストを低減することができ、パーティクル除去を効果的に行うことができる超音波洗浄装置および超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、被洗浄物を浸漬して洗浄するための洗浄液を収容する洗浄槽と、該洗浄槽に超音波を伝搬するための伝搬水を収容する超音波伝搬槽と、前記超音波伝搬槽の下部に配置され振動子により超音波を前記伝搬水に重畳する振動板と、洗浄する被洗浄物を前記洗浄槽中に保持する保持治具とを具備し、前記被洗浄物が前記保持治具で保持されて前記洗浄槽内の洗浄液に浸漬され、前記洗浄槽が前記超音波伝搬槽内の伝搬水に浸され、前記振動板により重畳した超音波を伝搬水を介して洗浄槽に伝搬させて前記被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置であって、前記超音波伝搬槽を水平面内で揺動させる伝搬槽揺動機構を具備する超音波洗浄装置。 （もっと読む）

本発明は、薄いウェハ（６）を洗浄する装置で、ウェハ（６）が各々の一辺で担持装置（２）に固定されており、２つの隣接する基板間に空隙（７）が形成されている。本装置は、流体を各空隙（７）内に注入するシャワー装置（１５）と、流体を満たすことができ且つ担持装置（２）を収容できる寸法を有する槽（１４）とから実質上構成される。本発明によれば、任意選択的に、シャワー装置（１５）が移動不能な担持装置（２）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）が移動不能なシャワー装置（１５）に対して移動可能であるか、あるいは担持装置（２）とシャワー装置（１５）が相対的に移動可能である。本発明による方法は、好ましい洗浄処理において、担持装置（２）を槽内で移動しながらまず温流体でシャワー洗浄を行った後、冷流体で超音波洗浄を行い、さらに温流体でシャワー洗浄を再度行うことを特徴とする。
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【課題】良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることが可能な磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】濯ぎ工程において、磁気ヘッドスライダ１５は、収容トレイ１４に形成された収容部内に収容されており、この収容トレイ１４を濯ぎ液中に浸漬され、濯ぎ液中で移動される。これにより、磁気ヘッドスライダ１５は、貫通孔１１ｂ・１２ｂから収容部内へ入り込んだ濯ぎ液から浮力を得て浮き上がるとともに、濯ぎ液から水圧を受けることになるので、十分な濯ぎを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の厚みにかかわらず、その少なくとも一方表面の周縁領域および周端面を良好に洗浄することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】ブラシ１６は、略円板状の胴部２７と、この胴部２７の先端側の端面に接続され、先端側に向けて拡がる略円錐台状の第１周端面当接部２８とを備えている。胴部２７の先端側の端面における第１周端面当接部２８の周囲の円環帯状の部分が、基板の一方表面の周縁領域に当接する第１洗浄面２９Ａとなっている。また、第１周端面当接部２８の側面が、基板の周端面に当接する第２洗浄面２９Ｂとなっている。第１洗浄面２９Ａを基板の表面の周縁領域に押し付けるとともに、ブラシ１６の第２洗浄面２９Ｂを基板の周端面に押し付けることにより、基板の一方表面の周縁領域および周端面を同時に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の両面の各周縁領域および周端面を洗浄することができ、かつ、各周縁領域における洗浄幅を容易に変更することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第１ブラシ８４および第２ブラシ８８を備えている。第１ブラシ８４の先端部の側面は、円錐面をなし、周縁領域１３および周端面１５に当接する洗浄面９８となっている。一方、第２ブラシ８８の先端部の側面は、円錐面をなし、周縁領域１４および周端面１５に当接する洗浄面９９となっている。第１ブラシ８４の洗浄面９８をウエハＷの表面の周縁領域１３および周端面１５に当接させて、その周縁領域１３および周端面１５を洗浄することができ、また、第２ブラシ８８の洗浄面９９をウエハＷの裏面の周縁領域１４および周端面１５に当接させて、その周縁領域１４および周端面１５を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】タンクの製造時に発生した磁性異物をタンク内から確実に洗浄除去することができるタンクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】タンク１１の外壁１２に形成された給油口１７、油量センサ取付口１９、ドレン口２２等の開口部に磁石２６，２７，２８を装着するとともに、タンク１１内に洗浄液２９を注入して、タンク１１を密封する。その状態で、揺動反転装置４３によりタンク１１を揺動及び反転させて、タンク１１内の磁性異物を磁石２６〜２８に吸着させる。その後、洗浄液２９を排出するとともに、磁石２６〜２８を磁性異物の吸着状態でタンク１１から取り外す。 （もっと読む）