磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置
【課題】良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることが可能な磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】濯ぎ工程において、磁気ヘッドスライダ１５は、収容トレイ１４に形成された収容部内に収容されており、この収容トレイ１４を濯ぎ液中に浸漬され、濯ぎ液中で移動される。これにより、磁気ヘッドスライダ１５は、貫通孔１１ｂ・１２ｂから収容部内へ入り込んだ濯ぎ液から浮力を得て浮き上がるとともに、濯ぎ液から水圧を受けることになるので、十分な濯ぎを行うことができる。
【解決手段】濯ぎ工程において、磁気ヘッドスライダ１５は、収容トレイ１４に形成された収容部内に収容されており、この収容トレイ１４を濯ぎ液中に浸漬され、濯ぎ液中で移動される。これにより、磁気ヘッドスライダ１５は、貫通孔１１ｂ・１２ｂから収容部内へ入り込んだ濯ぎ液から浮力を得て浮き上がるとともに、濯ぎ液から水圧を受けることになるので、十分な濯ぎを行うことができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、磁気ディスク装置は、装置の小型化および記憶容量の大容量化が急速に進んでおり、これに伴い、データを記録・再生するためのヘッドを保持する磁気ヘッドスライダの、磁気ディスクからの浮上量が１０ｎｍ以下程度まで低減されている。
【０００３】
このような磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダ等に、塵埃、粉塵、ガス化した有機物などの汚染物が付着していると、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの間の耐摺動信頼性が低下してしまうことがある。そのため、磁気ヘッドスライダには、高い清浄度が要求される。
【０００４】
そこで、磁気ヘッドスライダには、製造の最終段階で洗浄が施される。ここでの洗浄は、一般に、磁気ヘッドスライダに付着している汚染物を洗浄液によって洗い落とす洗浄工程と、これにより付着した洗浄液を濯ぎ液によって洗い落とす濯ぎ工程と、これにより付着した濯ぎ液を乾燥させる乾燥工程と、を含んでいる。
【特許文献１】特開平４−２９７８７号公報
【特許文献２】特開２００５−１５８１３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、磁気ヘッドスライダのように微小で損傷しやすい部品に洗浄を施す場合、磁気ヘッドスライダをトレイなどに収容した状態で洗浄や濯ぎを施す必要があることから、洗浄や濯ぎが不十分となって良好な清浄度を得ることが困難である。
【０００６】
例えば、特許文献１には、被洗浄物を洗浄籠に収納し、収納効率を高めるために洗浄籠を複数段重ねて、その状態で洗浄槽内の洗浄液に浸漬し、揺動させながら超音波によって洗浄を行う洗浄方法が開示されている。しかしながら、この洗浄方法では、磁気ヘッドスライダが槽内のほぼ一箇所に留まることから、超音波発振器の配置位置による超音波の強度分布のばらつきの影響や、定在波ができることによる超音波の強度分布のばらつきの影響によって、洗浄性にムラが生じやすい。また、洗浄籠を複数段重ねることから、超音波が他の洗浄籠などに遮蔽されやすく、これによっても、洗浄性にムラが生じやすい。その結果、洗浄が不十分となって良好な清浄度を得ることが困難となる。
【０００７】
また、特許文献２には、被洗浄物を洗浄液で超音波によって洗浄した後、濯ぎ液としての純水を貯留した濯ぎ槽に浸漬し、超音波によって濯ぎを行う洗浄方法が開示されている。しかしながら、この洗浄方法では、超音波によって洗浄槽やトレイから汚染物が発塵し、この汚染物が純水中に分散せずに磁気ヘッドスライダに付着してしまうことがある。また、超音波によって純水中に気泡が生じやすくなることから、純水中に生じた気泡が収容トレイの収容部に繋がる開口部分を塞いでしまい、収容部内に純水が入り込みづらくなってしまうことがある。その結果、濯ぎが不十分となって良好な清浄度を得ることが困難となる。
【０００８】
本発明は、上記問題に鑑みて為されたものであり、良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることが可能な磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置を提供することをその目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法は、超音波振動を付与した洗浄液中に磁気ヘッドスライダを浸漬する洗浄工程と、前記磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイの該収容部内に前記磁気ヘッドスライダを収容し、濯ぎ液に超音波振動を付与せずに、前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる濯ぎ工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法において、前記濯ぎ工程は、前記収容トレイを前記濯ぎ液中で前記通孔の貫通方向と交差する方向に移動させることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法において、前記濯ぎ工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける手順と、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる手順と、を交互に行うことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法において、前記洗浄工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを、超音波振動を付与した前記洗浄液中に浸漬し、前記洗浄液中で移動させることを特徴とする。
【００１３】
次に、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法は、上述の本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法を含むことを特徴とする。
【００１４】
次に、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄装置は、磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイと、前記収容トレイを自身の回転中心から離れた位置に保持するトレイ保持具と、洗浄液を貯留する洗浄槽と、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液に超音波振動を付与する超音波発振器と、前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で回転させる洗浄用回転機構と、濯ぎ液を貯留する濯ぎ槽と、前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記濯ぎ槽に貯留された前記濯ぎ液中に浸漬した状態で回転させる濯ぎ用回転機構と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄装置は、前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で、前記洗浄用回転機構により回転する前記トレイ保持具の回転軸方向に沿って揺動させる洗浄用揺動機構を備えることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄装置は、前記濯ぎ槽内で前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける噴液機構を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
上記本発明によれば、良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１９】
まず、磁気ヘッドスライダの製造方法について説明する。
【００２０】
図１は、磁気ヘッドスライダの製造工程の説明図である。磁気ヘッドスライダの製造工程では、まず、セラミック基板の表面に記録素子と再生素子を形成して得たウエハーを、機械加工により切断して棒板状に成形する（Ｓ１）。次に、棒板状に成形したウエハーをラップ加工して、磁気ディスクと対向する面となる浮上面を形成し（Ｓ２）、露出した各素子の腐食防止と摺動性向上のための保護膜を浮上面に形成し（Ｓ３）、安定浮上を実現するための浮上面レールを浮上面に形成する（Ｓ４）。その後、このようにして加工された棒板状のウエハーをスライダサイズに切断し（Ｓ５）、最終的に仕上げ洗浄を施す（Ｓ６）。
【００２１】
次に、磁気ヘッドスライダの洗浄方法および洗浄装置について説明する。これらは、上述した製造工程の仕上げ洗浄（Ｓ６）に適用される。
【００２２】
図２は、磁気ヘッドスライダの洗浄装置１００の概略構成を表す図である。洗浄装置１００は、主に、磁気ヘッドスライダに付着している汚染物を洗浄槽２００に貯留された洗浄液２１によって洗い落とすための洗浄ブロック２と、これにより付着した洗浄液を濯ぎ槽３００に貯留された濯ぎ液３１によって洗い落とすための濯ぎブロック３と、これにより付着した濯ぎ液を乾燥槽４００内で乾燥させるための乾燥ブロック４と、に区分けすることができる。
【００２３】
洗浄装置１００では、磁気ヘッドスライダが収容トレイに収容されており、この収容トレイを複数保持した保持体１０がそれぞれのブロック２〜４において取り扱われる。この保持体１０は、図示しない搬送機構によって、保持体１０を収納するローダ５００から取出され、洗浄ブロック２、濯ぎブロック３、乾燥ブロック４の順に搬送されて、最後にアンローダ６００へ収納される。
【００２４】
収容トレイの構造を、図３により説明する。図３（Ａ）は、収容トレイの一部となるトレイベース１１の構造を表す図である。図３（Ｂ）は、収容トレイの一部となるトレイカバー１２の構造を表す図である。図３（Ｃ）は、これらトレイベース１１とトレイカバー１２を組合わせてなる収容トレイ１４の構造を表す図である。
【００２５】
トレイベース１１は、磁気ヘッドスライダ１５を収容保持するためのものである。このトレイベース１１は、板状とされ、トレイカバー１２に嵌め込まれる側の主面であるベース表面１１ｅには、格子状の仕切り部１１ａによってそれぞれ仕切られた窪みが多数設けられている。これらの窪みは、磁気ヘッドスライダ１５を個別に収容可能な大きさを有しており、磁気ヘッドスライダ１５の収容スペースとされる。トレイベース１１に設けられたそれぞれの窪みの底には、収容トレイ１４の外面となる側の主面へ貫通する貫通孔（通孔）１１ｂが形成されている。この貫通孔１１ｂは、洗浄液や濯ぎ液を通過させるためのものであり、磁気ヘッドスライダ１５が抜け落ちない程度の大きさを有している。
【００２６】
また、トレイベース１１には、主面間を貫通する止め孔１１ｃが、１つの辺に沿うようにして複数箇所（ここでは２箇所）に形成されている。また、トレイベース１１には、ベース表面１１ｅの周縁に沿って、内側が凸状となる段差１１ｄが形成されている。この段差１１ｄは、トレイカバー１２に嵌め込むための形状である。
【００２７】
トレイカバー１２は、トレイベース１１に設けられた窪みに収容された磁気ヘッドスライダ１５が洗浄中などに飛び出ないようにするために、トレイベース１１を覆うものである。このトレイカバー１２は、板状とされ、トレイベース１１に嵌め込まれた場合のそれぞれの窪みに対応する位置に、主面間を貫通する貫通孔（通孔）１２ｂが形成されている。この貫通孔１２ｂは、洗浄液や濯ぎ液を通過させるためのものであり、磁気ヘッドスライダ１５が抜け落ちない程度の大きさを有している。
【００２８】
また、トレイカバー１２には、トレイベース１１に嵌め込まれた場合の止め孔１１ｃに対応する位置に、主面間を貫通する止め孔１２ｃが形成されている。これらの止め孔１１ｃ・１２ｃは、後述するトレイ保持具５０によって収容トレイ１４が保持される場合に使用される。また、トレイカバー１２には、トレイベース１１に嵌め込まれる側の主面であるカバー表面１２ｅに沿って、内側が凹状となる段差１２ｄが形成されている。この段差１２ｄは、トレイベース１１に嵌め込むためのものである。
【００２９】
収容トレイ１４は、以上のようなトレイベース１１とトレイカバー１２を組合わせて構成される。すなわち、トレイベース１１に設けられたそれぞれの窪みに磁気ヘッドスライダ１５を収容した状態で、ベース表面１１ｅとカバー表面１２ｅとを向き合わせる形で、トレイベース１１の段差１１ｄとトレイカバー１２の段差１２ｄとが嵌め合わされる。
【００３０】
また、嵌め合わされたトレイベース１１とトレイカバー１２は、両者の周縁部分を挟み込むクリップ１３によって固定される。このクリップ１３は、磁気ヘッドスライダ１５が収容されている部分、すなわち貫通孔１１ｂ・１２ｂが形成されている部分を塞がない形状とされる。
【００３１】
このようにして得られる収容トレイ１４は、１つの辺に沿うようにして複数箇所に設けられた止め孔１１ｃおよび止め孔１２ｃが位置し、後述するトレイ保持具５０によって収容トレイ１４が保持される場合に使用されるスライダ未収納範囲６０と、磁気ヘッドスライダ１５が収容されているスライダ収納範囲６１と、で構成される。
【００３２】
図４に、収容トレイ１４に収容された磁気ヘッドスライダ１５の状態を表す図を示す。磁気ヘッドスライダ１５は、トレイベース１１の仕切り部１１ａによって囲われた窪みと、この窪みの開口を覆うトレイカバー１２と、により形成される空間内に収容されている。このように磁気ヘッドスライダ１５を取り囲む構成が、磁気ヘッドスライダ１５の収容部である。また、トレイベース１１に形成された貫通孔１１ｂおよびトレイカバー１２に形成された貫通孔１２ｂは、それぞれ外部から収容部内へ通じている。
【００３３】
図５（Ａ）に、収容トレイ１４を保持するためのトレイ保持具５０の構造を示す。また、図５（Ｂ）には、収容トレイ１４がトレイ保持具５０によって保持された状態（保持体１０）を表す。
【００３４】
トレイ保持具５０は、環状の平板形状を有しており、周縁に沿って収容トレイ１４を保持するためのトレイ保持ピン５３が複数形成されている。このトレイ保持ピン５３は、収容トレイ１４の止め孔１１ｃ・１２ｃに差込まれるものである。ここで、トレイ保持具５０は、周縁に沿って１０個の収容トレイ１４を保持可能なようにトレイ保持ピン５３が設けられているが、収容トレイ１４を保持する数はこれに限られない。
【００３５】
また、トレイ保持具５０は、環状部分の内側に、それぞれのブロック２〜４において回転させられる際に使用される複数（ここでは２つ）の保持孔５１と、それぞれのブロック２〜４の間を搬送される際に搬送機構によって把持されるハンドル５２と、を有している。
【００３６】
このトレイ保持具５０は、それぞれのブロック２〜４において回転させながら用いられるものであり、その回転中心は環状部分の中央に位置する。そのため、トレイ保持具５０は、環状部分の周縁に沿って形成されたトレイ保持ピン５３によって、収容トレイ１４を回転中心から離れた位置に保持する。これにより、収容トレイ１４は、トレイ保持具５０の回転によって、回転中心の周りを公転移動することになる。
【００３７】
また、収容トレイ１４は、トレイ保持具５０によって保持された状態において、磁気ヘッドスライダ１５を収容するスライダ収納範囲６１が環状部分の外側に位置する。すなわち、収容トレイ１４の止め孔１１ｃ・１２ｃにトレイ保持具５０のトレイ保持ピン５３が差込まれることから、収容トレイ１４のうち、止め孔１１ｃ・１２ｃが位置するスライダ未収納範囲６０のみがトレイ保持具５０の周縁部分と重なっており、磁気ヘッドスライダ１５が収容されているスライダ収納範囲６１は、どちらの主面側も解放された状態となっている。すなわち、スライダ収納範囲６１の両主面に形成されている貫通孔１１ｂ・１２ｂがトレイ保持具５０によって遮られていない。
【００３８】
次に、洗浄装置１００のそれぞれのブロック２〜４について詳細に説明する。
【００３９】
図６は、洗浄装置１００の洗浄ブロック２による洗浄工程の説明図である。図６において、下側の図は洗浄ブロック２の正面図であり、上側の図は上面図である。洗浄ブロック２において、洗浄槽２００は、界面活性剤を純水で希釈した洗浄液２１を貯留している。洗浄液２１は、これに限らず、界面活性剤を含む水溶性溶剤や油溶性溶剤であっても良い。洗浄槽２００の側面と底面には、洗浄槽２００内の洗浄液２１に超音波振動を付与する超音波発振器２０１・２０２が取付けられている。洗浄液２１に付与される超音波の周波数は、２０ＫＨｚ〜２００ＫＨｚ程度（例えば、１７０ＫＨｚ）とすることができる。ここで、洗浄槽２００の側面と底面に超音波発振器２０１・２０２を取付けるのは、洗浄槽２００内の洗浄液２１にムラなく超音波振動を付与するためである。
【００４０】
また、洗浄槽２００内の洗浄液２１の貯留部分の脇には、貯留部分から溢れ出した洗浄液２１を加温および濾過する機構へ送り出すためのオーバフロー槽２０７が設けられている。洗浄液２１は、このオーバフロー槽２０７から、洗浄槽２００の下部に位置する加温槽２０３に送り込まれる。この加温槽２０３には、洗浄液２１を加温するためのヒータ２０４が設けられている。洗浄液２１の加温温度は、被洗浄物の汚染度合や洗浄液の性質によって適宜決定することができる（例えば、３５℃〜４５℃）。この加温槽２０３で加温された洗浄液２１は、循環ポンプ２０５を経由して、フィルタ２０６に送り込まれて濾過される。このフィルタ２０６で濾過された洗浄液２１は、加温槽２０３に戻される。このような洗浄液２１の循環は、循環ポンプ２０５の動作によって行われる。
【００４１】
また、洗浄ブロック２には、洗浄槽２００内で保持体１０を支持する回転アーム２０８が設けられている。回転アーム２０８に支持された保持体１０は、洗浄槽２００内の洗浄液２１に浸漬される。回転アーム２０８は保持ピン２１１を有しており、この保持ピン２１１が保持体１０におけるトレイ保持具５０の保持孔５１に差込まれることで、保持体１０が支持される。この保持体１０は、洗浄槽２００内で水平に支持されている。すなわち、板状に構成されている収容トレイ１４およびトレイ保持具５０が洗浄槽２００の底面と平行な状態となっている。
【００４２】
また、回転アーム２０８は、洗浄槽２００の上部に設けられたアーム回転モータ（洗浄用回転機構）２０９に接続されている。このアーム回転モータ２０９により、回転アーム２０８は、自身が支持している保持体１０とともに回転する。ここで、保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の周縁に沿って水平方向に回転し、収容トレイ１４は、洗浄槽２００内を公転移動する。また、アーム回転モータ２０９は、揺動機構（洗浄用揺動機構）２１０に接続されている。この揺動機構２１０により、回転アーム２０８は、自身が支持している保持体１０とともに揺動する。揺動機構２１０による揺動距離は、１０ｍｍ〜３００ｍｍ程度（例えば、８０ｍｍ）とすることができる。ここで、保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の板厚方向に沿って揺動し、収容トレイ１４は、洗浄槽２００内を底面付近から液面付近まで上下移動する。
【００４３】
以上に説明した洗浄動作によれば、収容トレイ１４は、洗浄槽２００内の超音波振動が付与された洗浄液２１の中を、公転移動および上下移動により幅広く移動することになる。このように、収容トレイ１４が洗浄槽２００内を幅広く移動することで、超音波発振器の配置位置による超音波の強度分布のばらつきの影響や、定在波ができることによる超音波の強度分布のばらつきの影響を極力低減して、十分な洗浄を行うことができる。
【００４４】
また、洗浄槽２００内で支持されている保持体１０は、収容トレイ１４のスライダ収納範囲６１と、洗浄槽２００の底面および側面と、の間に遮る物が何もない状態となることから、洗浄槽２００の底面および側面に取付けられた超音波発振器２０１・２０２からの超音波振動が十分に照射されることになり、十分な洗浄を行うことができる。
【００４５】
図７は、洗浄装置１００の濯ぎブロック３による濯ぎ工程の説明図である。濯ぎブロック３において、濯ぎ槽３００は、純水からなる濯ぎ液３１を貯留する。濯ぎ液３１は、これに限らず、界面活性剤を含まない水溶性溶剤や油溶性溶剤であっても良い。なお、濯ぎ槽３００には、上述の洗浄槽２００のような超音波発振器が取付けられておらず、濯ぎ槽３００内の濯ぎ液３１に超音波振動が付与されない。
【００４６】
濯ぎ槽３００内には、保持体１０を支持する円板状の回転テーブル３０１が設けられている。回転テーブル３０１には、保持体１０のトレイ保持具５０が載置される。また、回転テーブル３０１は、濯ぎ槽３００の下部に設けられた回転モータ（濯ぎ用回転機構）３０２にシャフトを介して接続されている。この回転モータ３０２により、回転テーブル３０１は、自身が支持している保持体１０とともに回転する。ここで、保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の周縁に沿って水平方向に回転し、収容トレイ１４は、濯ぎ槽３００内を公転移動する。
【００４７】
また、濯ぎ槽３００の上部には、濯ぎ槽３００内で支持されている保持体１０に濯ぎ液３１をシャワー状にして浴びせかけるシャワーノズル（噴液機構）３０３が設けられている。このシャワーノズル３０３は、濯ぎ槽３００内で支持されている保持体１０のうち収容トレイ１４の上側に位置するように複数（ここでは２つ）設置されており、保持体１０が回転することによって、全ての収容トレイ１４の貫通孔（ここでは貫通孔１２ｂ）が形成された面に濯ぎ液３１を浴びせかけられるようになっている。
【００４８】
また、濯ぎ槽３００の底には、濯ぎ液３１を排出するためのバルブ３０５が設けられており、このバルブ３０５が開放されることによって、濯ぎ槽３００内の濯ぎ液３１は、濯ぎ槽３００の下部に設けられた排水タンク３０６に排水パイプ３０８を通って排出される。
【００４９】
次に、濯ぎ工程の具体的な流れについて説明する。
【００５０】
まず、手順１では、洗浄工程が終了して洗浄ブロック２から搬送されてきた保持体１０を、濯ぎ槽３００内の回転テーブル３０１上に載置し、固定する。このとき、濯ぎ槽３００の底面に設けられた排水用のバルブ３０５を開いたままにしておく。そして、この状態で回転モータ３０２を駆動し、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させる。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分５０回転〜２５０回転程度で回転させる。これにより、保持体１０に付着している洗浄液、ひいては保持体１０の収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５に付着している洗浄液を、振り切ることができる。また、ここで振り切った洗浄液は、濯ぎ槽３００の底に落ち、開いているバルブ３０５から排水タンク３０６へ排出される。この手順を行うことによって、手順３以降で濯ぎ槽３００に貯留して使用される濯ぎ液３１に洗浄液の成分（例えば、界面活性剤）が混ざってしまうことを極力防ぐことができる。
【００５１】
次に、手順２では、バルブ３０５を開いたままの状態で、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させ、回転している保持体１０の収容トレイ１４の部分に対してシャワーノズル３０３から濯ぎ液３１をシャワー状にして浴びせかける。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分５回転〜２０回転程度で回転させる。これにより、収容トレイ１４の収容部には、一方の貫通孔（ここでは貫通孔１２ｂ）から濯ぎ液３１が入り込み、他方の貫通孔（ここでは貫通孔１１ｂ）から流れ出るので、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５を濯ぐことができる。また、バルブ３０５を開いたままにしておくことで、濯ぎに使用された濯ぎ液３１が、濯ぎ槽３００の底に落ち、開放されたバルブ３０５から排水タンク３０６へ排出される。この手順を行うことによって、手順３以降で濯ぎ槽３００に貯留して使用される濯ぎ液３１に洗浄液の成分（例えば、界面活性剤）が混ざってしまうことを極力防ぐことができる。
【００５２】
次に、手順３では、バルブ３０５を閉じて、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させ、回転している保持体１０の収容トレイ１４の部分に対してシャワーノズル３０３から濯ぎ液３１を浴びせかけ続ける。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分５回転〜２０回転程度で回転させる。そして、保持体１０の収容トレイ１４が浸る程度まで濯ぎ槽３００に濯ぎ液３１が溜まったら、シャワーノズル３０３からの濯ぎ液３１の供給を止める。濯ぎ液３１を浴びせかけている間、上述したように、濯ぎ液３１が収容トレイ１４の収容部内を通り抜けるので、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５を濯ぐことができる。
【００５３】
次に、手順４では、保持体１０の収容トレイ１４が濯ぎ液３１に浸った状態で、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させる。これにより、収容トレイ１４は、濯ぎ液３１の中を公転移動することになる。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分８０回転〜１３０回転程度で回転させる。
【００５４】
図８に、手順４における磁気ヘッドスライダ１５の状態を示す。磁気ヘッドスライダ１５は、トレイベース１１の仕切り部１１ａによって囲われた窪みと、この窪みの開口を覆うトレイカバー１２と、により形成される収容部内に収容されている。収容トレイ１４を濯ぎ液３１に浸漬することによって、収容部内は、貫通孔１１ｂ・１２ｂから入り込んだ濯ぎ液３１で満たされる。そのため、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５は、収容部内の底にある状態（図４参照）から浮力を得て浮き上がりやすくなり、その結果、濯ぎ液３１が外面全体に接触することとなって、十分な濯ぎを行うことができるようになる。
【００５５】
また、収容トレイ１４を濯ぎ液３１に浸漬することで、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５には、収容部内に入り込んだ濯ぎ液３１から水圧が加わることになるので、これにより、十分な濯ぎを行うことができる。さらに、収容トレイ１４を濯ぎ液３１の中で公転移動させることで、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５には、収容部内に入り込んだ濯ぎ液３１からより大きな水圧が加わることになるので、これにより、十分な濯ぎを行うことができる。
【００５６】
ここで、収容トレイ１４は、濯ぎ液３１の中で、貫通孔１１ｂ・１２ｂの貫通方向とは交差する方向（ここでは直交方向）に公転移動する。これによれば、磁気ヘッドスライダ１５が、収容部内で貫通孔１１ｂ・１２ｂが形成された壁面へ当接してしまうことを防止でき、収容部内で浮き上がった状態を維持しやすくなる。また、磁気ヘッドスライダ１５が、収容部内で貫通孔１１ｂ・１２ｂを塞いで、濯ぎ液３１の流れを遮ってしまうことを防止することができる。
【００５７】
また、収容トレイ１４を貫通孔１１ｂ・１２ｂの貫通方向とは交差する方向に公転移動させると、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５は、回転方向の後側に寄って仕切り部１１ａで構成された壁面に当接し、これによって、この当接した部分に濯ぎ液３１が回り込みにくくなるが、保持体１０を回転させる回転モータ３０２の回転方向を定期的に切替えるようにすることで、磁気ヘッドスライダ１５の外面全体に濯ぎ液３１を十分に接触させることができる。
【００５８】
なお、本実施形態では、収容トレイ１４を濯ぎ液３１の中で公転移動させているが、これに限らず、流れを付与した濯ぎ液３１の中で収容トレイ１４を保持するようにしても良い。すなわち、両者とも、濯ぎ液３１に対して収容トレイ１４を相対的に移動させているため、同様の効果を得ることができる。
【００５９】
図７の説明に戻り、次に、手順５では、濯ぎ槽３００の底面に設けられた排水用のバルブ３０５を開くことで、濯ぎ槽３００に貯留されている濯ぎ液３１を排水タンク３０６へ排水する。そして、手順５が終了したら手順３に戻り、以上に説明した手順３〜手順５の動作を複数回に渡って繰り返す。このように、収容トレイ１４に濯ぎ液３１を浴びせかける手順３と、収容トレイ１４を濯ぎ液３１の中で公転移動させる手順４と、を交互に行うことによって、収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５を十分に濯ぐことができる。
【００６０】
以上に説明した濯ぎ動作によれば、濯ぎ槽３００内の濯ぎ液３１に超音波振動を付与することなく、収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５を十分に濯ぐことができる。濯ぎ液３１に超音波振動を付与しないことにより、濯ぎ槽３００や収容トレイ１４から発塵した汚染物が磁気ヘッドスライダ１５に付着してしまったり、濯ぎ液３１中に発生した気泡が収容トレイ１４の貫通孔１１ｂ・１２ｂを塞いでしまうような事態を引き起こすことがない。
【００６１】
図９は、洗浄装置１００の乾燥ブロック４による乾燥工程の説明図である。乾燥ブロック４には、乾燥槽４００が設けられており、この乾燥槽４００内には、保持体１０を支持する円板状の回転テーブル４０１が設けられている。回転テーブル４０１には、保持体１０のトレイ保持具５０が載置される。また、回転テーブル４０１は、乾燥槽４００の下部に設けられた回転モータ４０２にシャフトを介して接続されている。
【００６２】
この回転モータ４０２により、回転テーブル４０１は、自身が支持している保持体１０とともに回転する。保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の周縁に沿って水平方向に回転し、収容トレイ１４は、乾燥槽４００内を公転移動する。ここでは、回転テーブル４０１を、例えば、毎分２０００回転〜３０００回転程度で回転させる。ここで、収容トレイ１４は保持体１０の回転中心から離れた位置に保持されていることから、保持体１０の回転によって収容トレイ１４には十分な速度を与えることができ、これによって、保持体１０に付着している濯ぎ液、ひいては保持体１０の収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５に付着している濯ぎ液を、十分に振り切って乾燥させることができる。
【００６３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の形式に限定されない。
【００６４】
例えば、上記の実施形態では、洗浄装置１００の洗浄ブロック２で洗浄工程、濯ぎブロック３で濯ぎ工程、乾燥ブロック４で乾燥工程を行っていたが、これに限らず、１つのブロックで複数の工程を行うことができる。具体的には、濯ぎ工程が終了した後に、濯ぎ槽３００の底面に設けられた排水用のバルブ３０５を開いて濯ぎ液３１を排出し、空となった濯ぎ槽３００内で乾燥工程を行っても良い。これによれば、同じブロックで濯ぎ工程と乾燥工程を行うことができ、乾燥工程用のブロックを別に設ける必要がない。
【００６５】
以上に説明した本発明の実施形態の効果について説明する。図１０は、洗浄装置１００による洗浄結果および濯ぎ結果を表す図である。
【００６６】
図１０（Ａ）は、洗浄装置１００による洗浄結果を表す図である。磁気ヘッドスライダに残留した汚染物の率を調査し、汚染物残り率を洗浄結果として表している。比較例としては、特許文献１のように、磁気ヘッドスライダを洗浄籠に収容し、洗浄液に超音波振動を付与しながら洗浄籠を洗浄槽内で揺動させたものを用いた。他の洗浄条件は、同じとしている。この結果、比較例では汚染物残り率が８％〜１５％であるのに対し、本発明の実施例では汚染物残り率が２％以下と、大きな差が生じており、本発明の実施例の方が良好な洗浄結果を得ることができた。
【００６７】
図１０（Ｂ）は、洗浄装置１００による濯ぎ結果を表す図である。磁気ヘッドスライダに残留した洗浄液の成分（界面活性剤）を高感度有機分析であるＴＯＦ−ＳＩＭＳにて分析し、界面活性剤の検出強度を濯ぎ結果として表している。比較例としては、特許文献２のように、濯ぎ液としての純水中に超音波を付与して磁気ヘッドスライダの濯ぎを行ったものを用いた。洗浄条件および他の濯ぎ条件は、同じとしている。この結果、比較例では界面活性剤検出強度が３〜４４であるのに対し、本発明の実施例では界面活性剤検出強度が５以下と、大きな差が生じており、本発明の実施例の方が良好な濯ぎ結果を得ることができた。
【００６８】
以上により、本発明の実施形態では、磁気ヘッドスライダを十分に洗浄すること及び濯ぐことができるので、これにより、良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることができる。このようにして得られた磁気ヘッドスライダは、磁気ディスク装置に搭載された際に、安定した浮上性能および高い耐摺動性能を実現することができ、ひいては信頼性の高い磁気ディスク装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】磁気ヘッドスライダの製造工程の説明図である。
【図２】磁気ヘッドスライダの洗浄装置の概略構成を表す図である。
【図３】収容トレイの構造を表す図である。
【図４】収容トレイに収容された磁気ヘッドスライダの状態を表す図である。
【図５】トレイ保持具の構造を表す図である。
【図６】洗浄装置の洗浄ブロックを表す図である。
【図７】洗浄装置の濯ぎブロックを表す図である。
【図８】濯ぎ工程時の磁気ヘッドスライダの状態を表す図である。
【図９】洗浄装置の乾燥ブロックを表す図である。
【図１０】洗浄装置による洗浄結果および濯ぎ結果を表す図である。
【符号の説明】
【００７０】
２ 洗浄ブロック、３ 濯ぎブロック、４ 乾燥ブロック、１０ 保持体、１４ 収容トレイ、１５ 磁気ヘッドスライダ、２１ 洗浄液、３１ 濯ぎ液、５０ トレイ保持具、１００ 洗浄装置、２００ 洗浄槽、２０１，２０２ 超音波発振器、２０３ 加温槽、２０４ ヒータ、２０５ 循環ポンプ、２０６ フィルタ、２０７ オーバフロー槽、２０８ 回転アーム、２０９ アーム回転モータ（洗浄用回転機構）、２１０ 揺動機構（洗浄用揺動機構）、２１１ 保持ピン、３００ 濯ぎ槽、３０１ 回転テーブル、３０２ 回転モータ（濯ぎ用回転機構）、３０３ シャワーノズル（噴液機構）、３０５ バルブ、３０６ 排水タンク、３０８ 排水パイプ、４００ 乾燥槽、４０１ 回転テーブル、４０２ 回転モータ、５００ ローダ、６００ アンローダ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、磁気ディスク装置は、装置の小型化および記憶容量の大容量化が急速に進んでおり、これに伴い、データを記録・再生するためのヘッドを保持する磁気ヘッドスライダの、磁気ディスクからの浮上量が１０ｎｍ以下程度まで低減されている。
【０００３】
このような磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダ等に、塵埃、粉塵、ガス化した有機物などの汚染物が付着していると、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの間の耐摺動信頼性が低下してしまうことがある。そのため、磁気ヘッドスライダには、高い清浄度が要求される。
【０００４】
そこで、磁気ヘッドスライダには、製造の最終段階で洗浄が施される。ここでの洗浄は、一般に、磁気ヘッドスライダに付着している汚染物を洗浄液によって洗い落とす洗浄工程と、これにより付着した洗浄液を濯ぎ液によって洗い落とす濯ぎ工程と、これにより付着した濯ぎ液を乾燥させる乾燥工程と、を含んでいる。
【特許文献１】特開平４−２９７８７号公報
【特許文献２】特開２００５−１５８１３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、磁気ヘッドスライダのように微小で損傷しやすい部品に洗浄を施す場合、磁気ヘッドスライダをトレイなどに収容した状態で洗浄や濯ぎを施す必要があることから、洗浄や濯ぎが不十分となって良好な清浄度を得ることが困難である。
【０００６】
例えば、特許文献１には、被洗浄物を洗浄籠に収納し、収納効率を高めるために洗浄籠を複数段重ねて、その状態で洗浄槽内の洗浄液に浸漬し、揺動させながら超音波によって洗浄を行う洗浄方法が開示されている。しかしながら、この洗浄方法では、磁気ヘッドスライダが槽内のほぼ一箇所に留まることから、超音波発振器の配置位置による超音波の強度分布のばらつきの影響や、定在波ができることによる超音波の強度分布のばらつきの影響によって、洗浄性にムラが生じやすい。また、洗浄籠を複数段重ねることから、超音波が他の洗浄籠などに遮蔽されやすく、これによっても、洗浄性にムラが生じやすい。その結果、洗浄が不十分となって良好な清浄度を得ることが困難となる。
【０００７】
また、特許文献２には、被洗浄物を洗浄液で超音波によって洗浄した後、濯ぎ液としての純水を貯留した濯ぎ槽に浸漬し、超音波によって濯ぎを行う洗浄方法が開示されている。しかしながら、この洗浄方法では、超音波によって洗浄槽やトレイから汚染物が発塵し、この汚染物が純水中に分散せずに磁気ヘッドスライダに付着してしまうことがある。また、超音波によって純水中に気泡が生じやすくなることから、純水中に生じた気泡が収容トレイの収容部に繋がる開口部分を塞いでしまい、収容部内に純水が入り込みづらくなってしまうことがある。その結果、濯ぎが不十分となって良好な清浄度を得ることが困難となる。
【０００８】
本発明は、上記問題に鑑みて為されたものであり、良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることが可能な磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置を提供することをその目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法は、超音波振動を付与した洗浄液中に磁気ヘッドスライダを浸漬する洗浄工程と、前記磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイの該収容部内に前記磁気ヘッドスライダを収容し、濯ぎ液に超音波振動を付与せずに、前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる濯ぎ工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法において、前記濯ぎ工程は、前記収容トレイを前記濯ぎ液中で前記通孔の貫通方向と交差する方向に移動させることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法において、前記濯ぎ工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける手順と、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる手順と、を交互に行うことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法において、前記洗浄工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを、超音波振動を付与した前記洗浄液中に浸漬し、前記洗浄液中で移動させることを特徴とする。
【００１３】
次に、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法は、上述の本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄方法を含むことを特徴とする。
【００１４】
次に、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄装置は、磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイと、前記収容トレイを自身の回転中心から離れた位置に保持するトレイ保持具と、洗浄液を貯留する洗浄槽と、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液に超音波振動を付与する超音波発振器と、前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で回転させる洗浄用回転機構と、濯ぎ液を貯留する濯ぎ槽と、前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記濯ぎ槽に貯留された前記濯ぎ液中に浸漬した状態で回転させる濯ぎ用回転機構と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄装置は、前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で、前記洗浄用回転機構により回転する前記トレイ保持具の回転軸方向に沿って揺動させる洗浄用揺動機構を備えることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の磁気ヘッドスライダの洗浄装置は、前記濯ぎ槽内で前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける噴液機構を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
上記本発明によれば、良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１９】
まず、磁気ヘッドスライダの製造方法について説明する。
【００２０】
図１は、磁気ヘッドスライダの製造工程の説明図である。磁気ヘッドスライダの製造工程では、まず、セラミック基板の表面に記録素子と再生素子を形成して得たウエハーを、機械加工により切断して棒板状に成形する（Ｓ１）。次に、棒板状に成形したウエハーをラップ加工して、磁気ディスクと対向する面となる浮上面を形成し（Ｓ２）、露出した各素子の腐食防止と摺動性向上のための保護膜を浮上面に形成し（Ｓ３）、安定浮上を実現するための浮上面レールを浮上面に形成する（Ｓ４）。その後、このようにして加工された棒板状のウエハーをスライダサイズに切断し（Ｓ５）、最終的に仕上げ洗浄を施す（Ｓ６）。
【００２１】
次に、磁気ヘッドスライダの洗浄方法および洗浄装置について説明する。これらは、上述した製造工程の仕上げ洗浄（Ｓ６）に適用される。
【００２２】
図２は、磁気ヘッドスライダの洗浄装置１００の概略構成を表す図である。洗浄装置１００は、主に、磁気ヘッドスライダに付着している汚染物を洗浄槽２００に貯留された洗浄液２１によって洗い落とすための洗浄ブロック２と、これにより付着した洗浄液を濯ぎ槽３００に貯留された濯ぎ液３１によって洗い落とすための濯ぎブロック３と、これにより付着した濯ぎ液を乾燥槽４００内で乾燥させるための乾燥ブロック４と、に区分けすることができる。
【００２３】
洗浄装置１００では、磁気ヘッドスライダが収容トレイに収容されており、この収容トレイを複数保持した保持体１０がそれぞれのブロック２〜４において取り扱われる。この保持体１０は、図示しない搬送機構によって、保持体１０を収納するローダ５００から取出され、洗浄ブロック２、濯ぎブロック３、乾燥ブロック４の順に搬送されて、最後にアンローダ６００へ収納される。
【００２４】
収容トレイの構造を、図３により説明する。図３（Ａ）は、収容トレイの一部となるトレイベース１１の構造を表す図である。図３（Ｂ）は、収容トレイの一部となるトレイカバー１２の構造を表す図である。図３（Ｃ）は、これらトレイベース１１とトレイカバー１２を組合わせてなる収容トレイ１４の構造を表す図である。
【００２５】
トレイベース１１は、磁気ヘッドスライダ１５を収容保持するためのものである。このトレイベース１１は、板状とされ、トレイカバー１２に嵌め込まれる側の主面であるベース表面１１ｅには、格子状の仕切り部１１ａによってそれぞれ仕切られた窪みが多数設けられている。これらの窪みは、磁気ヘッドスライダ１５を個別に収容可能な大きさを有しており、磁気ヘッドスライダ１５の収容スペースとされる。トレイベース１１に設けられたそれぞれの窪みの底には、収容トレイ１４の外面となる側の主面へ貫通する貫通孔（通孔）１１ｂが形成されている。この貫通孔１１ｂは、洗浄液や濯ぎ液を通過させるためのものであり、磁気ヘッドスライダ１５が抜け落ちない程度の大きさを有している。
【００２６】
また、トレイベース１１には、主面間を貫通する止め孔１１ｃが、１つの辺に沿うようにして複数箇所（ここでは２箇所）に形成されている。また、トレイベース１１には、ベース表面１１ｅの周縁に沿って、内側が凸状となる段差１１ｄが形成されている。この段差１１ｄは、トレイカバー１２に嵌め込むための形状である。
【００２７】
トレイカバー１２は、トレイベース１１に設けられた窪みに収容された磁気ヘッドスライダ１５が洗浄中などに飛び出ないようにするために、トレイベース１１を覆うものである。このトレイカバー１２は、板状とされ、トレイベース１１に嵌め込まれた場合のそれぞれの窪みに対応する位置に、主面間を貫通する貫通孔（通孔）１２ｂが形成されている。この貫通孔１２ｂは、洗浄液や濯ぎ液を通過させるためのものであり、磁気ヘッドスライダ１５が抜け落ちない程度の大きさを有している。
【００２８】
また、トレイカバー１２には、トレイベース１１に嵌め込まれた場合の止め孔１１ｃに対応する位置に、主面間を貫通する止め孔１２ｃが形成されている。これらの止め孔１１ｃ・１２ｃは、後述するトレイ保持具５０によって収容トレイ１４が保持される場合に使用される。また、トレイカバー１２には、トレイベース１１に嵌め込まれる側の主面であるカバー表面１２ｅに沿って、内側が凹状となる段差１２ｄが形成されている。この段差１２ｄは、トレイベース１１に嵌め込むためのものである。
【００２９】
収容トレイ１４は、以上のようなトレイベース１１とトレイカバー１２を組合わせて構成される。すなわち、トレイベース１１に設けられたそれぞれの窪みに磁気ヘッドスライダ１５を収容した状態で、ベース表面１１ｅとカバー表面１２ｅとを向き合わせる形で、トレイベース１１の段差１１ｄとトレイカバー１２の段差１２ｄとが嵌め合わされる。
【００３０】
また、嵌め合わされたトレイベース１１とトレイカバー１２は、両者の周縁部分を挟み込むクリップ１３によって固定される。このクリップ１３は、磁気ヘッドスライダ１５が収容されている部分、すなわち貫通孔１１ｂ・１２ｂが形成されている部分を塞がない形状とされる。
【００３１】
このようにして得られる収容トレイ１４は、１つの辺に沿うようにして複数箇所に設けられた止め孔１１ｃおよび止め孔１２ｃが位置し、後述するトレイ保持具５０によって収容トレイ１４が保持される場合に使用されるスライダ未収納範囲６０と、磁気ヘッドスライダ１５が収容されているスライダ収納範囲６１と、で構成される。
【００３２】
図４に、収容トレイ１４に収容された磁気ヘッドスライダ１５の状態を表す図を示す。磁気ヘッドスライダ１５は、トレイベース１１の仕切り部１１ａによって囲われた窪みと、この窪みの開口を覆うトレイカバー１２と、により形成される空間内に収容されている。このように磁気ヘッドスライダ１５を取り囲む構成が、磁気ヘッドスライダ１５の収容部である。また、トレイベース１１に形成された貫通孔１１ｂおよびトレイカバー１２に形成された貫通孔１２ｂは、それぞれ外部から収容部内へ通じている。
【００３３】
図５（Ａ）に、収容トレイ１４を保持するためのトレイ保持具５０の構造を示す。また、図５（Ｂ）には、収容トレイ１４がトレイ保持具５０によって保持された状態（保持体１０）を表す。
【００３４】
トレイ保持具５０は、環状の平板形状を有しており、周縁に沿って収容トレイ１４を保持するためのトレイ保持ピン５３が複数形成されている。このトレイ保持ピン５３は、収容トレイ１４の止め孔１１ｃ・１２ｃに差込まれるものである。ここで、トレイ保持具５０は、周縁に沿って１０個の収容トレイ１４を保持可能なようにトレイ保持ピン５３が設けられているが、収容トレイ１４を保持する数はこれに限られない。
【００３５】
また、トレイ保持具５０は、環状部分の内側に、それぞれのブロック２〜４において回転させられる際に使用される複数（ここでは２つ）の保持孔５１と、それぞれのブロック２〜４の間を搬送される際に搬送機構によって把持されるハンドル５２と、を有している。
【００３６】
このトレイ保持具５０は、それぞれのブロック２〜４において回転させながら用いられるものであり、その回転中心は環状部分の中央に位置する。そのため、トレイ保持具５０は、環状部分の周縁に沿って形成されたトレイ保持ピン５３によって、収容トレイ１４を回転中心から離れた位置に保持する。これにより、収容トレイ１４は、トレイ保持具５０の回転によって、回転中心の周りを公転移動することになる。
【００３７】
また、収容トレイ１４は、トレイ保持具５０によって保持された状態において、磁気ヘッドスライダ１５を収容するスライダ収納範囲６１が環状部分の外側に位置する。すなわち、収容トレイ１４の止め孔１１ｃ・１２ｃにトレイ保持具５０のトレイ保持ピン５３が差込まれることから、収容トレイ１４のうち、止め孔１１ｃ・１２ｃが位置するスライダ未収納範囲６０のみがトレイ保持具５０の周縁部分と重なっており、磁気ヘッドスライダ１５が収容されているスライダ収納範囲６１は、どちらの主面側も解放された状態となっている。すなわち、スライダ収納範囲６１の両主面に形成されている貫通孔１１ｂ・１２ｂがトレイ保持具５０によって遮られていない。
【００３８】
次に、洗浄装置１００のそれぞれのブロック２〜４について詳細に説明する。
【００３９】
図６は、洗浄装置１００の洗浄ブロック２による洗浄工程の説明図である。図６において、下側の図は洗浄ブロック２の正面図であり、上側の図は上面図である。洗浄ブロック２において、洗浄槽２００は、界面活性剤を純水で希釈した洗浄液２１を貯留している。洗浄液２１は、これに限らず、界面活性剤を含む水溶性溶剤や油溶性溶剤であっても良い。洗浄槽２００の側面と底面には、洗浄槽２００内の洗浄液２１に超音波振動を付与する超音波発振器２０１・２０２が取付けられている。洗浄液２１に付与される超音波の周波数は、２０ＫＨｚ〜２００ＫＨｚ程度（例えば、１７０ＫＨｚ）とすることができる。ここで、洗浄槽２００の側面と底面に超音波発振器２０１・２０２を取付けるのは、洗浄槽２００内の洗浄液２１にムラなく超音波振動を付与するためである。
【００４０】
また、洗浄槽２００内の洗浄液２１の貯留部分の脇には、貯留部分から溢れ出した洗浄液２１を加温および濾過する機構へ送り出すためのオーバフロー槽２０７が設けられている。洗浄液２１は、このオーバフロー槽２０７から、洗浄槽２００の下部に位置する加温槽２０３に送り込まれる。この加温槽２０３には、洗浄液２１を加温するためのヒータ２０４が設けられている。洗浄液２１の加温温度は、被洗浄物の汚染度合や洗浄液の性質によって適宜決定することができる（例えば、３５℃〜４５℃）。この加温槽２０３で加温された洗浄液２１は、循環ポンプ２０５を経由して、フィルタ２０６に送り込まれて濾過される。このフィルタ２０６で濾過された洗浄液２１は、加温槽２０３に戻される。このような洗浄液２１の循環は、循環ポンプ２０５の動作によって行われる。
【００４１】
また、洗浄ブロック２には、洗浄槽２００内で保持体１０を支持する回転アーム２０８が設けられている。回転アーム２０８に支持された保持体１０は、洗浄槽２００内の洗浄液２１に浸漬される。回転アーム２０８は保持ピン２１１を有しており、この保持ピン２１１が保持体１０におけるトレイ保持具５０の保持孔５１に差込まれることで、保持体１０が支持される。この保持体１０は、洗浄槽２００内で水平に支持されている。すなわち、板状に構成されている収容トレイ１４およびトレイ保持具５０が洗浄槽２００の底面と平行な状態となっている。
【００４２】
また、回転アーム２０８は、洗浄槽２００の上部に設けられたアーム回転モータ（洗浄用回転機構）２０９に接続されている。このアーム回転モータ２０９により、回転アーム２０８は、自身が支持している保持体１０とともに回転する。ここで、保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の周縁に沿って水平方向に回転し、収容トレイ１４は、洗浄槽２００内を公転移動する。また、アーム回転モータ２０９は、揺動機構（洗浄用揺動機構）２１０に接続されている。この揺動機構２１０により、回転アーム２０８は、自身が支持している保持体１０とともに揺動する。揺動機構２１０による揺動距離は、１０ｍｍ〜３００ｍｍ程度（例えば、８０ｍｍ）とすることができる。ここで、保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の板厚方向に沿って揺動し、収容トレイ１４は、洗浄槽２００内を底面付近から液面付近まで上下移動する。
【００４３】
以上に説明した洗浄動作によれば、収容トレイ１４は、洗浄槽２００内の超音波振動が付与された洗浄液２１の中を、公転移動および上下移動により幅広く移動することになる。このように、収容トレイ１４が洗浄槽２００内を幅広く移動することで、超音波発振器の配置位置による超音波の強度分布のばらつきの影響や、定在波ができることによる超音波の強度分布のばらつきの影響を極力低減して、十分な洗浄を行うことができる。
【００４４】
また、洗浄槽２００内で支持されている保持体１０は、収容トレイ１４のスライダ収納範囲６１と、洗浄槽２００の底面および側面と、の間に遮る物が何もない状態となることから、洗浄槽２００の底面および側面に取付けられた超音波発振器２０１・２０２からの超音波振動が十分に照射されることになり、十分な洗浄を行うことができる。
【００４５】
図７は、洗浄装置１００の濯ぎブロック３による濯ぎ工程の説明図である。濯ぎブロック３において、濯ぎ槽３００は、純水からなる濯ぎ液３１を貯留する。濯ぎ液３１は、これに限らず、界面活性剤を含まない水溶性溶剤や油溶性溶剤であっても良い。なお、濯ぎ槽３００には、上述の洗浄槽２００のような超音波発振器が取付けられておらず、濯ぎ槽３００内の濯ぎ液３１に超音波振動が付与されない。
【００４６】
濯ぎ槽３００内には、保持体１０を支持する円板状の回転テーブル３０１が設けられている。回転テーブル３０１には、保持体１０のトレイ保持具５０が載置される。また、回転テーブル３０１は、濯ぎ槽３００の下部に設けられた回転モータ（濯ぎ用回転機構）３０２にシャフトを介して接続されている。この回転モータ３０２により、回転テーブル３０１は、自身が支持している保持体１０とともに回転する。ここで、保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の周縁に沿って水平方向に回転し、収容トレイ１４は、濯ぎ槽３００内を公転移動する。
【００４７】
また、濯ぎ槽３００の上部には、濯ぎ槽３００内で支持されている保持体１０に濯ぎ液３１をシャワー状にして浴びせかけるシャワーノズル（噴液機構）３０３が設けられている。このシャワーノズル３０３は、濯ぎ槽３００内で支持されている保持体１０のうち収容トレイ１４の上側に位置するように複数（ここでは２つ）設置されており、保持体１０が回転することによって、全ての収容トレイ１４の貫通孔（ここでは貫通孔１２ｂ）が形成された面に濯ぎ液３１を浴びせかけられるようになっている。
【００４８】
また、濯ぎ槽３００の底には、濯ぎ液３１を排出するためのバルブ３０５が設けられており、このバルブ３０５が開放されることによって、濯ぎ槽３００内の濯ぎ液３１は、濯ぎ槽３００の下部に設けられた排水タンク３０６に排水パイプ３０８を通って排出される。
【００４９】
次に、濯ぎ工程の具体的な流れについて説明する。
【００５０】
まず、手順１では、洗浄工程が終了して洗浄ブロック２から搬送されてきた保持体１０を、濯ぎ槽３００内の回転テーブル３０１上に載置し、固定する。このとき、濯ぎ槽３００の底面に設けられた排水用のバルブ３０５を開いたままにしておく。そして、この状態で回転モータ３０２を駆動し、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させる。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分５０回転〜２５０回転程度で回転させる。これにより、保持体１０に付着している洗浄液、ひいては保持体１０の収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５に付着している洗浄液を、振り切ることができる。また、ここで振り切った洗浄液は、濯ぎ槽３００の底に落ち、開いているバルブ３０５から排水タンク３０６へ排出される。この手順を行うことによって、手順３以降で濯ぎ槽３００に貯留して使用される濯ぎ液３１に洗浄液の成分（例えば、界面活性剤）が混ざってしまうことを極力防ぐことができる。
【００５１】
次に、手順２では、バルブ３０５を開いたままの状態で、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させ、回転している保持体１０の収容トレイ１４の部分に対してシャワーノズル３０３から濯ぎ液３１をシャワー状にして浴びせかける。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分５回転〜２０回転程度で回転させる。これにより、収容トレイ１４の収容部には、一方の貫通孔（ここでは貫通孔１２ｂ）から濯ぎ液３１が入り込み、他方の貫通孔（ここでは貫通孔１１ｂ）から流れ出るので、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５を濯ぐことができる。また、バルブ３０５を開いたままにしておくことで、濯ぎに使用された濯ぎ液３１が、濯ぎ槽３００の底に落ち、開放されたバルブ３０５から排水タンク３０６へ排出される。この手順を行うことによって、手順３以降で濯ぎ槽３００に貯留して使用される濯ぎ液３１に洗浄液の成分（例えば、界面活性剤）が混ざってしまうことを極力防ぐことができる。
【００５２】
次に、手順３では、バルブ３０５を閉じて、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させ、回転している保持体１０の収容トレイ１４の部分に対してシャワーノズル３０３から濯ぎ液３１を浴びせかけ続ける。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分５回転〜２０回転程度で回転させる。そして、保持体１０の収容トレイ１４が浸る程度まで濯ぎ槽３００に濯ぎ液３１が溜まったら、シャワーノズル３０３からの濯ぎ液３１の供給を止める。濯ぎ液３１を浴びせかけている間、上述したように、濯ぎ液３１が収容トレイ１４の収容部内を通り抜けるので、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５を濯ぐことができる。
【００５３】
次に、手順４では、保持体１０の収容トレイ１４が濯ぎ液３１に浸った状態で、回転テーブル３０１とともに保持体１０を回転させる。これにより、収容トレイ１４は、濯ぎ液３１の中を公転移動することになる。ここでは、回転テーブル３０１を、例えば、毎分８０回転〜１３０回転程度で回転させる。
【００５４】
図８に、手順４における磁気ヘッドスライダ１５の状態を示す。磁気ヘッドスライダ１５は、トレイベース１１の仕切り部１１ａによって囲われた窪みと、この窪みの開口を覆うトレイカバー１２と、により形成される収容部内に収容されている。収容トレイ１４を濯ぎ液３１に浸漬することによって、収容部内は、貫通孔１１ｂ・１２ｂから入り込んだ濯ぎ液３１で満たされる。そのため、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５は、収容部内の底にある状態（図４参照）から浮力を得て浮き上がりやすくなり、その結果、濯ぎ液３１が外面全体に接触することとなって、十分な濯ぎを行うことができるようになる。
【００５５】
また、収容トレイ１４を濯ぎ液３１に浸漬することで、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５には、収容部内に入り込んだ濯ぎ液３１から水圧が加わることになるので、これにより、十分な濯ぎを行うことができる。さらに、収容トレイ１４を濯ぎ液３１の中で公転移動させることで、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５には、収容部内に入り込んだ濯ぎ液３１からより大きな水圧が加わることになるので、これにより、十分な濯ぎを行うことができる。
【００５６】
ここで、収容トレイ１４は、濯ぎ液３１の中で、貫通孔１１ｂ・１２ｂの貫通方向とは交差する方向（ここでは直交方向）に公転移動する。これによれば、磁気ヘッドスライダ１５が、収容部内で貫通孔１１ｂ・１２ｂが形成された壁面へ当接してしまうことを防止でき、収容部内で浮き上がった状態を維持しやすくなる。また、磁気ヘッドスライダ１５が、収容部内で貫通孔１１ｂ・１２ｂを塞いで、濯ぎ液３１の流れを遮ってしまうことを防止することができる。
【００５７】
また、収容トレイ１４を貫通孔１１ｂ・１２ｂの貫通方向とは交差する方向に公転移動させると、収容部内の磁気ヘッドスライダ１５は、回転方向の後側に寄って仕切り部１１ａで構成された壁面に当接し、これによって、この当接した部分に濯ぎ液３１が回り込みにくくなるが、保持体１０を回転させる回転モータ３０２の回転方向を定期的に切替えるようにすることで、磁気ヘッドスライダ１５の外面全体に濯ぎ液３１を十分に接触させることができる。
【００５８】
なお、本実施形態では、収容トレイ１４を濯ぎ液３１の中で公転移動させているが、これに限らず、流れを付与した濯ぎ液３１の中で収容トレイ１４を保持するようにしても良い。すなわち、両者とも、濯ぎ液３１に対して収容トレイ１４を相対的に移動させているため、同様の効果を得ることができる。
【００５９】
図７の説明に戻り、次に、手順５では、濯ぎ槽３００の底面に設けられた排水用のバルブ３０５を開くことで、濯ぎ槽３００に貯留されている濯ぎ液３１を排水タンク３０６へ排水する。そして、手順５が終了したら手順３に戻り、以上に説明した手順３〜手順５の動作を複数回に渡って繰り返す。このように、収容トレイ１４に濯ぎ液３１を浴びせかける手順３と、収容トレイ１４を濯ぎ液３１の中で公転移動させる手順４と、を交互に行うことによって、収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５を十分に濯ぐことができる。
【００６０】
以上に説明した濯ぎ動作によれば、濯ぎ槽３００内の濯ぎ液３１に超音波振動を付与することなく、収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５を十分に濯ぐことができる。濯ぎ液３１に超音波振動を付与しないことにより、濯ぎ槽３００や収容トレイ１４から発塵した汚染物が磁気ヘッドスライダ１５に付着してしまったり、濯ぎ液３１中に発生した気泡が収容トレイ１４の貫通孔１１ｂ・１２ｂを塞いでしまうような事態を引き起こすことがない。
【００６１】
図９は、洗浄装置１００の乾燥ブロック４による乾燥工程の説明図である。乾燥ブロック４には、乾燥槽４００が設けられており、この乾燥槽４００内には、保持体１０を支持する円板状の回転テーブル４０１が設けられている。回転テーブル４０１には、保持体１０のトレイ保持具５０が載置される。また、回転テーブル４０１は、乾燥槽４００の下部に設けられた回転モータ４０２にシャフトを介して接続されている。
【００６２】
この回転モータ４０２により、回転テーブル４０１は、自身が支持している保持体１０とともに回転する。保持体１０は、板状に構成されているトレイ保持具５０の周縁に沿って水平方向に回転し、収容トレイ１４は、乾燥槽４００内を公転移動する。ここでは、回転テーブル４０１を、例えば、毎分２０００回転〜３０００回転程度で回転させる。ここで、収容トレイ１４は保持体１０の回転中心から離れた位置に保持されていることから、保持体１０の回転によって収容トレイ１４には十分な速度を与えることができ、これによって、保持体１０に付着している濯ぎ液、ひいては保持体１０の収容トレイ１４に収容されている磁気ヘッドスライダ１５に付着している濯ぎ液を、十分に振り切って乾燥させることができる。
【００６３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の形式に限定されない。
【００６４】
例えば、上記の実施形態では、洗浄装置１００の洗浄ブロック２で洗浄工程、濯ぎブロック３で濯ぎ工程、乾燥ブロック４で乾燥工程を行っていたが、これに限らず、１つのブロックで複数の工程を行うことができる。具体的には、濯ぎ工程が終了した後に、濯ぎ槽３００の底面に設けられた排水用のバルブ３０５を開いて濯ぎ液３１を排出し、空となった濯ぎ槽３００内で乾燥工程を行っても良い。これによれば、同じブロックで濯ぎ工程と乾燥工程を行うことができ、乾燥工程用のブロックを別に設ける必要がない。
【００６５】
以上に説明した本発明の実施形態の効果について説明する。図１０は、洗浄装置１００による洗浄結果および濯ぎ結果を表す図である。
【００６６】
図１０（Ａ）は、洗浄装置１００による洗浄結果を表す図である。磁気ヘッドスライダに残留した汚染物の率を調査し、汚染物残り率を洗浄結果として表している。比較例としては、特許文献１のように、磁気ヘッドスライダを洗浄籠に収容し、洗浄液に超音波振動を付与しながら洗浄籠を洗浄槽内で揺動させたものを用いた。他の洗浄条件は、同じとしている。この結果、比較例では汚染物残り率が８％〜１５％であるのに対し、本発明の実施例では汚染物残り率が２％以下と、大きな差が生じており、本発明の実施例の方が良好な洗浄結果を得ることができた。
【００６７】
図１０（Ｂ）は、洗浄装置１００による濯ぎ結果を表す図である。磁気ヘッドスライダに残留した洗浄液の成分（界面活性剤）を高感度有機分析であるＴＯＦ−ＳＩＭＳにて分析し、界面活性剤の検出強度を濯ぎ結果として表している。比較例としては、特許文献２のように、濯ぎ液としての純水中に超音波を付与して磁気ヘッドスライダの濯ぎを行ったものを用いた。洗浄条件および他の濯ぎ条件は、同じとしている。この結果、比較例では界面活性剤検出強度が３〜４４であるのに対し、本発明の実施例では界面活性剤検出強度が５以下と、大きな差が生じており、本発明の実施例の方が良好な濯ぎ結果を得ることができた。
【００６８】
以上により、本発明の実施形態では、磁気ヘッドスライダを十分に洗浄すること及び濯ぐことができるので、これにより、良好な清浄度を有する磁気ヘッドスライダを得ることができる。このようにして得られた磁気ヘッドスライダは、磁気ディスク装置に搭載された際に、安定した浮上性能および高い耐摺動性能を実現することができ、ひいては信頼性の高い磁気ディスク装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】磁気ヘッドスライダの製造工程の説明図である。
【図２】磁気ヘッドスライダの洗浄装置の概略構成を表す図である。
【図３】収容トレイの構造を表す図である。
【図４】収容トレイに収容された磁気ヘッドスライダの状態を表す図である。
【図５】トレイ保持具の構造を表す図である。
【図６】洗浄装置の洗浄ブロックを表す図である。
【図７】洗浄装置の濯ぎブロックを表す図である。
【図８】濯ぎ工程時の磁気ヘッドスライダの状態を表す図である。
【図９】洗浄装置の乾燥ブロックを表す図である。
【図１０】洗浄装置による洗浄結果および濯ぎ結果を表す図である。
【符号の説明】
【００７０】
２ 洗浄ブロック、３ 濯ぎブロック、４ 乾燥ブロック、１０ 保持体、１４ 収容トレイ、１５ 磁気ヘッドスライダ、２１ 洗浄液、３１ 濯ぎ液、５０ トレイ保持具、１００ 洗浄装置、２００ 洗浄槽、２０１，２０２ 超音波発振器、２０３ 加温槽、２０４ ヒータ、２０５ 循環ポンプ、２０６ フィルタ、２０７ オーバフロー槽、２０８ 回転アーム、２０９ アーム回転モータ（洗浄用回転機構）、２１０ 揺動機構（洗浄用揺動機構）、２１１ 保持ピン、３００ 濯ぎ槽、３０１ 回転テーブル、３０２ 回転モータ（濯ぎ用回転機構）、３０３ シャワーノズル（噴液機構）、３０５ バルブ、３０６ 排水タンク、３０８ 排水パイプ、４００ 乾燥槽、４０１ 回転テーブル、４０２ 回転モータ、５００ ローダ、６００ アンローダ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波振動を付与した洗浄液中に磁気ヘッドスライダを浸漬する洗浄工程と、
前記磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイの該収容部内に前記磁気ヘッドスライダを収容し、濯ぎ液に超音波振動を付与せずに、前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる濯ぎ工程と、
を含むことを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法であって、
前記濯ぎ工程は、前記収容トレイを前記濯ぎ液中で前記通孔の貫通方向と交差する方向に移動させることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項３】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法であって、
前記濯ぎ工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける手順と、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる手順と、を交互に行うことを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項４】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法であって、
前記洗浄工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを、超音波振動を付与した前記洗浄液中に浸漬し、前記洗浄液中で移動させることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法を含むことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項６】
磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイと、
前記収容トレイを自身の回転中心から離れた位置に保持するトレイ保持具と、
洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液に超音波振動を付与する超音波発振器と、
前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で回転させる洗浄用回転機構と、
濯ぎ液を貯留する濯ぎ槽と、
前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記濯ぎ槽に貯留された前記濯ぎ液中に浸漬した状態で回転させる濯ぎ用回転機構と、
を備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄装置。
【請求項７】
請求項６に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄装置であって、
前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で、前記洗浄用回転機構により回転する前記トレイ保持具の回転軸方向に沿って揺動させる洗浄用揺動機構を備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄装置。
【請求項８】
請求項６に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄装置であって、
前記濯ぎ槽内で前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける噴液機構を備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄装置。
【請求項１】
超音波振動を付与した洗浄液中に磁気ヘッドスライダを浸漬する洗浄工程と、
前記磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイの該収容部内に前記磁気ヘッドスライダを収容し、濯ぎ液に超音波振動を付与せずに、前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる濯ぎ工程と、
を含むことを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項２】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法であって、
前記濯ぎ工程は、前記収容トレイを前記濯ぎ液中で前記通孔の貫通方向と交差する方向に移動させることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項３】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法であって、
前記濯ぎ工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける手順と、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを前記濯ぎ液中に浸漬し、前記濯ぎ液中で移動させる手順と、を交互に行うことを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項４】
請求項１に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法であって、
前記洗浄工程は、前記磁気ヘッドスライダを収容した前記収容トレイを、超音波振動を付与した前記洗浄液中に浸漬し、前記洗浄液中で移動させることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄方法を含むことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項６】
磁気ヘッドスライダの収容部と外部から該収容部内へ通じる少なくとも２つの通孔とを有する収容トレイと、
前記収容トレイを自身の回転中心から離れた位置に保持するトレイ保持具と、
洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液に超音波振動を付与する超音波発振器と、
前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で回転させる洗浄用回転機構と、
濯ぎ液を貯留する濯ぎ槽と、
前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記濯ぎ槽に貯留された前記濯ぎ液中に浸漬した状態で回転させる濯ぎ用回転機構と、
を備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄装置。
【請求項７】
請求項６に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄装置であって、
前記収容トレイを保持した前記トレイ保持具を、前記洗浄槽に貯留された前記洗浄液中に浸漬した状態で、前記洗浄用回転機構により回転する前記トレイ保持具の回転軸方向に沿って揺動させる洗浄用揺動機構を備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄装置。
【請求項８】
請求項６に記載の磁気ヘッドスライダの洗浄装置であって、
前記濯ぎ槽内で前記収容トレイに前記濯ぎ液を浴びせかける噴液機構を備えることを特徴とする磁気ヘッドスライダの洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００８−７７７６４（Ｐ２００８−７７７６４Ａ）
【公開日】平成２０年４月３日（２００８．４．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２５６０８３（Ｐ２００６−２５６０８３）
【出願日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【出願人】（５０３１１６２８０）ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ (1,121)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月３日（２００８．４．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【出願人】（５０３１１６２８０）ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ (1,121)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]