【課題】 電子ビーム蒸着による金属薄膜の形成において、２次電子等の被成膜面への到達を防止すると共に、陽イオンの被成膜面への到達を防止して、金属薄膜が帯電状態になることを回避する。
【解決手段】 基板１の被成膜面１ａに電子ビーム蒸着によってＡｌ等の金属薄膜を形成する成膜装置であって、成膜源２内に収容された金属材料３に電子ビーム発生器（電子銃）より電子ビームＥ_Ｂを照射させる電子ビーム照射手段４を備えると共に、成膜源２への電子ビーム照射によって発生する電子Ｅｓ及び陽イオンＰｏの進行軌道を被成膜面１ａへ到達しないように変更する電荷軌道変更手段５を備えている。 （もっと読む）

【課題】 ２次電子等の被成膜面への到達を防止する磁場を設けた電子ビーム蒸着による金属薄膜の形成において、形成された金属薄膜の帯電状態を適正な状態にする。
【解決手段】 基板１の被成膜面１ａに電子ビーム蒸着によって金属薄膜を形成する成膜装置であって、成膜源２内に収容された金属材料３に電子ビーム発生器４より電子ビームＥ_Ｂを照射させてこれを溶解し、発生した金属蒸気が基板１の被成膜面１ａに蒸着して金属薄膜が形成される。成膜源２へ電子ビーム５を照射することによって成膜源２から被成膜面１ａに向かう負電荷Ｅ_Ｓを防止するように、被成膜面１ａと成膜源２との間に被成膜面１ａと平行な磁場Ｍを形成する磁場形成手段５（磁石５Ａ，５Ｂ）を備え、被成膜面１ａ周辺の正電荷をモニタする電荷モニタ手段６と、電荷モニタ手段６のモニタ結果に基づいて被成膜面に形成される金属薄膜の電荷状態を調整する電荷調整手段（負電荷発生手段７又は磁場調整手段８）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 長尺なプラスチックフィルムの基材上に電子ビームを使い蒸着薄膜を連続的に形成する巻き取り式電子ビーム真空蒸着装置の除電器に関する。除電器の長期間使用においても除電装置の電極起因のゴミのプラスチックフィルムに巻き込まれによる不良を防ぎ、ゴミの電極とアースとの間に入り短絡することを防ぐ。
【解決手段】 除電器の電極表面を炭素材料により構成する。 （もっと読む）

【課題】特定の位相シフトと減衰の特性を有する材料を局所的に堆積させる方法を提供すること。
【解決手段】本発明はハーフトーン型位相シフト・フォトマスクの修復に特に応用可能である。修復される領域の透過率および位相の制御が可能である。好ましい実施形態では、修復領域を透過する光の位相は堆積材料の厚さを制御することによって制御され、修復領域の透過率は修復領域への不純物の導入を制御することによって制御される。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料中の酸素含有量を増やすことが非吸収性の層の形成に有利であるが、酸素含有量が過度に高い場合は望ましくない圧力の上昇をもたらすことになる。本発明の課題は、現実の蒸発工程を変更する必要なくこの矛盾を克服することのできる蒸着材料を提供することである。
【解決手段】本発明は、Ｔａ₂Ｏ_x（ｘ＝４．８１〜４．８８）を含む蒸着材料の提供、その蒸着材料の調製方法の提供、および高屈折率層を製造するためのその蒸着材料の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバにおける高レート電子ビーム蒸着によって少なくとも１つの対象上に光触媒性酸化チタン層を析出する方法に関する。この方法においては、真空チャンバ内に酸素含有雰囲気が発生され、主としてＴｉ成分を有する材料が電子ビームを用いて蒸発され、析出がプラズマによって支援され、この際プラズマはカソードとして接続されている蒸発すべき材料の表面における拡散アーク放電により形成され、コーティング速度が少なくとも２０ｎｍ／ｓであり、析出中の対象温度が１００℃〜５００℃に維持され、酸化チタン層が結晶性であり、且つ主としてアナターゼ相として析出される。
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本発明は、クリーン・ルーム対応の、ＰＶＤ法またはＣＶＤ法用のコーティング・システムに関する。前記システムは、ガラス様の層、ガラス・セラミック層および／またはセラミック層が堆積される、少なくとも１つの真空コーティング・チャンバを備える。真空コーティング・チャンバの第１の開口部が、真空排気可能な別個の真空ロック・チャンバ（ロード・ロック）を介してクリーン・ルームに接続される。この真空ロック・チャンバは、基板を真空コーティング・チャンバ内に供給し、基板を真空コーティング・チャンバから取り出すために使用される輸送手段を備える。真空コーティング・チャンバの第２の開口部が、真空コーティング・チャンバをクリーン・ルームから切り離されたグレイ・ルーム領域に接続する。
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【課題】 輝尽性蛍光体と支持体との付着性（接着性）が良好で、輝度に優れた放射線画像変換パネルの製造方法、該製造方法で得られる放射線画像変換パネル及び蒸着装置の提供。
【解決手段】 支持体上の輝尽性蛍光体層が気相堆積法（気相法）により形成される放射線画像変換パネルの製造方法において、該支持体を固定設置する支持体ホルダと該輝尽性蛍光体層との間に磁性材料又は磁性材料を有する層を設けることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】真空中で基質の両面を疎水性層で被覆するための装置は、従来から基質保持体と、疎水性層を形成するための物質を蒸発させるための蒸発器とを備えていた。しかし、従来の装置は、基質保持体の一側に唯１個の蒸発器を備えるだけであったため、基質の両面を被覆するために、基質を装置内で裏返しにする必要があり、そのために装置が複雑となり、また種々の問題を生じていた。
【解決手段】この発明は、従来付設されていた蒸発器とは別に第２の蒸発器を設けることとし、第２の蒸発器を基質保持体に対し従来の蒸発器の付設位置と反対側に配置する。 （もっと読む）