【課題】電子ビームの照射に対して分解し易い蒸発材料に好適な電子ビーム蒸発源、蒸着装置、並びに蒸着方法及びその蒸着方法により形成された光学膜を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射に対して分解し易い蒸発材料１２ａを収納した材料収納部１２と電子銃とを備え、真空中で材料収納部１２内の蒸発材料１２ａに前記電子銃から出射された電子ビームＥＢを照射して蒸発材料１２ａを溶融し蒸発させる電子ビーム蒸発源において、材料収納部１２はグランドから電気的に絶縁されており、材料収納部１２内の蒸発材料１２ａは負に帯電した状態で電子ビームＥＢが照射される。 （もっと読む）

【課題】異なる蒸気圧を有する材料の複数の源から被覆を蒸着するための物理蒸着（ＰＶＤ）法と装置を提供する
【解決手段】装置（１２０）の被覆室（１２２）において、第１材料と第２材料の溶融プール（１１４、１１５）を形成すること、被覆室の中で物品（１３０）を支持すること、及びエネルギービーム（１２６）によって溶融プール（１１４、１１５）を蒸発させて物品の上に制御された合成物によって被覆（１３２）を蒸着することを必然的に伴い、この制御された合成物は、１つの第１金属と、第１金属よりも低い蒸気圧を有する比較的少量の反応性金属を含む。第１材料は少なくとも第１金属を含み、第２材料は反応性金属と少なくとも第２金属とを含む。第２金属と反応性金属は結合されて、第２材料は反応性金属の溶融温度よりも低い溶融温度を持ち、また反応性金属よりも広い溶融範囲を有するようになる。 （もっと読む）

【課題】有害熱環境の中で使用することを意図される部品の多孔質熱障壁被覆膜などの被覆膜として使用するのに適するセラミック材料の提供。
【解決手段】被覆膜材料は、本質的に、少なくとも１つの希土類金属酸化物により安定化され且つ限定された量のチタニアを含有するように更に合金化されたジルコニアから構成される。特に関心ある希土類金属酸化物は、ランタナ、セリア、ネオジミア、ユーロピア、ガドリニア、エルビア、ジスプロシア及びイッテルビアであり、それらは、個別に又は組み合わせて使用される。ジルコニア、希土類金属酸化物及びチタニアは、主に正方晶系相結晶構造を実現する量で被覆膜材料中に存在する。被覆膜中のチタニアの量は、正方晶系相を維持しつつ、すなわち、立方晶系（蛍石）相を回避しつつ、より高い安定剤のレベルを可能にするように適合される。 （もっと読む）

【課題】 種々の金属組成の合金被膜を希土類系永久磁石などの個片の表面に簡易に蒸着形成するための方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の真空蒸着方法は、金属Ａと金属Ｂの２種類の金属を少なくとも含む合金被膜（但し金属Ｂは金属Ａよりも高蒸気圧である）を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Ａの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Ａと金属Ｂを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Ａの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】 成膜対象に影響を与えずに蒸着を行うことができ、かつ成膜効率及び成膜分布の均一性に優れた電子ビーム真空蒸着方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 開口を有する容器に収容された蒸発物質を成膜対象に成膜する真空蒸着法であって、容器の開口が成膜対象と対向しない第１の位置で電子ビームを蒸発物質に照射して該蒸発物質を加熱する加熱工程と、成膜対象と対向する第２の位置に容器を移動させ、余熱により該開口から蒸発物質を放出させて成膜対象に成膜する成膜工程と、容器を第２の位置から第１の位置に戻す位置戻し工程とをこの順序で繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 半導体結晶成長処理されるべき基板を保持する基板ホルダが、大気に曝されることを防止し、基板ホルダに付着する堆積物を除去することによって、基板ホルダおよび堆積物が半導体結晶を成長させる際の酸素汚染源となることを防止し、特性に優れた半導体結晶を得る。
【解決手段】 半導体結晶の成長が完了した基板２７の取外された基板ホルダ２８が、基板導入室２２の所定位置から取出されるとき、半導体結晶成長の過程において基板ホルダ２８に付着した堆積物を基板ホルダ処理室２６で除去するとき、および堆積物が除去された基板ホルダ２８を基板導入室２２の所定位置にセッティングするとき、のいずれのときにおいても、基板ホルダ２８は、不活性ガス雰囲気または真空雰囲気中で取り扱われる。 （もっと読む）

【課題】成膜過程における酸素欠損や不純物の混入を防止して二次電子放出特性に優れたＳｒＯとＣａＯを主成分とする蒸着膜を形成する方法及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ＳｒＯとＣａＯを主成分とする蒸発材料を用い、真空処理槽内において処理対象基板上に蒸着膜を形成する方法であって、当該蒸着の際、真空処理槽内を真空排気しつつ、真空処理槽内にＯ₂ガスを導入してその分圧が所定の範囲となるように制御するとともに、真空処理槽内における残留不純物ガスの分圧が所定の値以下となるように制御する（Ｓ１２）ものである。このとき、真空処理槽内におけるＯ₂ガスの分圧は、１×１０^-3Ｐａ〜０．１Ｐａとすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高く、緻密なＭｇＯ膜を提供する。
【解決手段】真空槽１２内に蒸発源２３を配置し、酸素ガスを導入しながら電子線２８を照射してＭｇＯの蒸気を放出させ、制限板１８に形成された開口１７を通過させ、パネル１０の表面に到達させる。このとき、制限板１８とパネル１０の間の位置に気体の水を導入すると、屈折率が高く、(１ １ １)ピーク強度の大きいＭｇＯ膜が得られる。酸素分圧に対するＨ₂の分圧の比には適量があり、０．２以上１．５以下の範囲で導入するとよい。 （もっと読む）

本発明は、ジルコニア系成分、例えば、イットリア安定化ジルコニア、及び（アルミナ＋シリカ）系成分、例えば、ムライトを含むセラミック粉末に関する。このセラミック粉末は、溶射装置で堆積することにより、同じ組成を有する耐熱衝撃性被覆を形成するのに有用である。本発明は、ガスタービンエンジンの熱的環境のような高温環境に曝される部品を保護するのに適した熱障壁被覆組織にも関する。本発明は、更に、自立した固体セラミック物品を形成することにも関する。 （もっと読む）

【課題】量産性向上と経時変化改善の両立が可能となるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）およびその製造方法を提供する。
【解決手段】走査電極と維持電極とからなる複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに、誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板ＰＡ１と、第１の基板ＰＡ１との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、保護膜が厚み方向に変化する屈折率を有し、かつ保護膜の誘電体層に近い下層側の屈折率が上層側の屈折率よりも小さい構成とする。 （もっと読む）