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国際特許分類[C23C14/30]の内容

国際特許分類[C23C14/30]に分類される特許

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【課題】容易に溶け跡の平坦化作業を行える電子銃蒸着用電子銃装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム軌道を所定角度曲げてるつぼ6内の蒸着材料7に照射し、該蒸着材料7を溶融してその蒸着材料の蒸気を上部に配置された被蒸着基板に付着させて薄膜を形成させるように構成させた電子ビーム蒸着用電子銃装置において、偏向コイル3による電子ビーム軌道と、走査コイル5による電子ビーム軌道とを制御する電子ビーム軌道制御手段と、該電子ビーム軌道制御手段により前記蒸着材料7へ入射する電子ビーム8の入射角を制御する入射角制御手段とを設け、これら電子ビーム軌道制御手段と入射角制御手段とを動作させることにより、るつぼ6内の蒸着材料の溶け具合の平均化を図る。 (もっと読む)


【課題】昇華する昇華材料を安定的に合成樹脂フィルム上に付着させることにより成膜して合成樹脂フィルムの上の成膜の特性を向上させること。
【解決手段】本発明の真空成膜装置1は、真空雰囲気下にある真空室内において合成樹脂フィルム7の少なくとも一方の面に昇華される昇華材料を蒸着して成膜する。真空成膜装置1は、材料容器9に収容された昇華材料9aを電子線発生手段8の電子線により昇華させる手段と、昇華材料9aの近傍に加熱水蒸気を供給する加熱水蒸気供給手段14と、昇華材料9a及び前記加熱水蒸気の両方にマイクロ波を照射させて昇華材料9aの蒸気を酸化反応させるマイクロ波発生手段12と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】膜材の気化によりハースに付着した成膜堆積物の再気化を抑制、または成膜堆積物がハースに堆積するのを抑制して、ワークに安定した膜特性を有する被膜を成膜することができるイオンプレーティング装置および成膜方法を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ3の内部におけるハース5の露出面5bの表面温度を、タブレット21の気化によりハース5の露出面5bに付着した成膜堆積物の再気化を抑制する第1の温度領域、または気化したタブレット21のハース5の露出面5bに対する付着を抑制する第2の温度領域に制御する構成にした。 (もっと読む)


【課題】蒸着速度を低下させることなくX線による悪影響を避け得る電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内に配置された坩堝2内の蒸着材料に電子ビームEBを照射し、この電子ビームの照射により蒸発した蒸着材料を真空容器1内の基板ホルダー4に保持された基板K表面に付着させて薄膜を形成するための蒸着装置であって、坩堝2と基板Kとの間に円筒体からなるX線遮蔽体11を水平軸心回りで回転自在に配置するとともに、このX線遮蔽体11を加熱するヒータ13を具備し、且つX線遮蔽体11を、坩堝2の開口部からX線を被蒸着部材に照射した際に、X線RによるX線遮蔽体11の投影部分が被蒸着部材の薄膜形成範囲に略一致するような大きさにしたものである。 (もっと読む)


【課題】ピアス式電子銃の円盤状のカソード2を、カソード2より大径の外周リング21に3本以上の支持ロッド22を介して支持させるカソード支持構造において、カソード及び支持ロッドの熱膨張により支持ロッドの座屈を生ずることを防止できると共に、カソードからの熱引けを効果的に抑制できるようにする。
【解決手段】各支持ロッド22を、カソード2と外周リング21との間に、支持ロッド22の軸線が該軸線と外周リング21の内周面との交点とカソード2の中心とを結ぶ直線Lに対しカソード2の周方向一方に傾むくように配置する。また、支持ロッド22の軸線に合致する直線とこの直線に平行でカソード2の中心を通る直線とをカソード2の軸線に直交する平面に射影したときの2直線間の距離を偏心量δとして、δが全ての支持ロッド22で等しくなるようにする。 (もっと読む)


基板上に薄膜を堆積するための方法及びシステムは、基板上方に位置付けた蒸気供給流源からの蒸発可能材料を導入することを含む。蒸発可能材料は蒸発され、蒸気供給流源から蒸気供給流として基板から離れる方向に向けられる。蒸気供給流は、リディレクタから基板の方へ向きなおされて、基板上に薄膜として堆積される。 (もっと読む)


【課題】 コアにコイルを巻いて構成した電磁偏向器により電子ビームを被照射物に照射する際に、所望の位置に正確に電子ビームを照射することが出来る様にする。
【解決手段】
強磁性体をコアに持つ電磁偏向器2のコイルに電流を流すことによって、電子銃5から発生された電子ビームを偏向し、被照射物に照射する様にした電子ビーム照射方法において、前記電磁偏向器2による電子ビームの偏向範囲において、最大偏向させる電流を前記コイルに流す工程と、最小偏向させる電流を前記コイルに流す工程とを、交互に複数回くり返した後に、前記コイルに所望の電流を流す様にした電子ビーム照射方法。 (もっと読む)


【課題】 反射電子トラップの反射電子捕獲率を大幅に向上させる。
【解決手段】 真空チャンバ1内において、坩堝8内に収容された蒸発材料7に電子銃9からの電子ビームEBを照射することにより蒸発材料7を蒸発させ、蒸発粒子を基板4上に付着させる様に成す。真空チャンバ1内に設けられ、蒸発材料7で反射した電子ビームを捕獲するための反射電子トラップ21は、反射電子が入射する開口部を有する箱状の形状を成しており、反射電子を偏向させる磁界をその箱の内部に発生させるための磁極と、磁界により偏向された反射電子が入射する面に配置される電子吸収体とを成す。 (もっと読む)


【課題】砂付着に対して強い耐性を有し、粒子衝突時の表面仕上げ、硬度、高サイクル疲労強度の劣化が最小限又はゼロに抑えられ、且つ、エアフォイル領域及び表面形状に与える影響が最小限になる表面を有するタービンエンジン部品を提供すること。
【解決手段】耐砂付着性を有するタービンエンジン部品10の表面14であって、基材12と、該基材上に堆積されてコーティング表面16を形成する炭化物及び/又は窒化物コーティングとから成り、該コーティングの表面の粗度(Ra)が12マイクロインチ未満である、タービンエンジン部品10の表面14。 (もっと読む)


【課題】本発明はロールツーロールタイプの薄膜形成装置に関する。
【解決手段】薄膜パターン形成装置は、マスク積載部と、上記マスク積載部と開閉可能な開放口が設けられた成膜空間部を有する真空チャンバと、上記成膜空間部に配置され、シートを走行させる巻出ロール及び巻取ロールと、蒸着ソースを収容して蒸着ソースを蒸発させ蒸着領域上に位置した上記シート上に薄膜を蒸着させるように装着されたソース載置部と、上記シート上に蒸着しようとする薄膜のパターンを定義するパターンを有し、上記マスク積載部に備えられた少なくとも一つのマスクと、上記マスク積載部において備えられた少なくとも一つのマスクを上記成膜空間部の蒸着位置にまたはその反対に搬送させることができるよう構成されたマスク移動部と、上記ソース載置部において上記マスクに蒸発される蒸着ソースの進行を選択的に遮蔽させるシャッタ部とを含む。 (もっと読む)


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