【課題】金属酸化物を蒸発材料とする金属酸化膜の蒸着方法に関するものであり、特にプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の保護膜の形成に関するもので、保護膜としての＜１１１＞配向したＭｇＯ膜の成膜速度を早くして、生産性の向上とパネル特性の向上を図る。
【解決手段】金属酸化物を蒸発材料とする蒸着方法において、前記蒸発材料の加熱手段として電子銃を使用し、該電子銃からの電子ビームを絞り、該電子ビームの直径をもとに蒸発材料への電子ビームの照射面積に合わせて、電子ビームの揺動波形を制御することを特徴とする金属酸化膜の蒸着方法であり、走査電極、維持電極、誘電体層及び保護膜から成る前面基板とアドレス電極、バリアリブ及び蛍光体からなる背面基板から構成されているプラズマディスプレイの保護膜であるＭｇＯ膜の成膜速度が速くなり、かつ良好なパネル特性が得られた。 （もっと読む）

【課題】幅方向における膜厚分布・膜質分布を均一にすることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、被処理対象を走行させる搬送手段と、被処理対象の走行方向に対して直交する方向に沿うように、被処理対象の成膜面に対向して設けられたライン状の蒸着原料と、蒸着原料を溶融するための複数の電子ビーム装置２３と、蒸着原料からの蒸着粒子を活性化させるイオンビームを放出する複数の第１イオンソース３１とを備える。 （もっと読む）

【課題】 良好な膜質の薄膜を形成することができる成膜装置の提供。
【解決手段】
ターゲット１１を保持するターゲットホルダ１０と、ターゲットホルダ１０を回転可能な回転機構８０と、成膜用基板２１を保持する基板ホルダ２０と、電子線を発生する電子線発生装置３０と、電子線収束装置４０と、レーザ光照射装置５０とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置４０は、回転機構８０により回転するターゲット１１に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置３０から発生された電子線を収束させ、もってターゲット１１の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置５０は、液体化されたターゲット１１の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。 （もっと読む）

【課題】コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置において、導電体から成る筒状のコレクター電極及びコレクター電極に巻装された高周波誘導コイルを備え、コレクター電極は側面に開口部を有し、開口部が高周波誘導コイルの高圧側端部に対応して配置されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】 より低い加速電圧により高いエミッション電流を出力することによって、蒸着材料の蒸発に必要な電力量を得ることができる蒸着用電子銃を実現する。
【解決手段】 電流が流れて加熱することにより熱電子を放出するフィラメント１０として、素材がタングステンであり、巻き数が10〜30ターン、線径が0.55〜0.8mmおよび巻き外径が３〜５mmであるものを用いる。フィラメント１０より放出された熱電子を集束して電子線束を生成する、電子線束の射出側の開口がテーパ状に形成され内部にフィラメント１０が配設される孔部２１を有するウェーネルト２０を用いる。ウェーネルト２０により生成された電子線束を加速する、グランド電位に保たれるアノード１２０を用いる。 （もっと読む）

【課題】基板に入射する電子を効果的に減らす。
【解決手段】蒸着装置１Ａは、基板Ｐの表面に成膜材料を蒸着させる蒸着装置である。成膜材料５０を蒸着可能な範囲として予め設定された所定の範囲Ａ１に、基板Ｐの蒸着面Ｐａを下方に向けて基板Ｐを配置可能な基板配置部３と、基板配置部３の下方に配置され、所定の範囲Ａ１に放射される成膜材料５０を収容する収容部４と、収容部４に電子ビームＥＢを照射する照射部５と、収容部４の側方に配置され、電子を吸着する吸着部６と、収容部４から所定の範囲Ａ１に向う成膜材料５０の放射範囲Ａ２の外側における少なくとも吸着部６の上方に配置され、上方に向う電子を水平方向に偏向させる磁界Ｍ３を発生させる磁界発生部７と、を備える。 （もっと読む）

基材のＣＭＡＳ浸透を低減するためのコーティングシステムは、少なくとも内側セラミック層と、外側アルミナ含有層とを含む。外側層は、最大で約５０重量％までのチタニアを含む。追加のセラミック層及びアルミナ含有層を設けることができる。コーティングは、ガスタービンエンジン構成要素に用いることができる。コーティング層の堆積法は、構成要素の最終用途に応じて決めることができる。コーティングされた製品は、基材と、基材上の任意選択のボンドコートと、記ボンドコートの上又は該ボンドコートがない場合には前記基材上にあるコーティングと、を含む。内側セラミック層が、溶射法、物理蒸着法、及びサスペンションプラズマ溶射法から選択された堆積法の徴候である微細構造を示し、外側アルミナ含有層が、サスペンションプラズマ溶射法、溶液プラズマ溶射法、及び高速酸素燃料溶射法から選択された堆積法の徴候である微細構造を示す。 （もっと読む）

【課題】蒸着源の加熱初期時に蒸着源からの輻射熱によりシャッターが加熱され、シャッター表面に吸着した水分等を不純ガスとして放出するのを抑制して、高純度の金属膜形成ができる真空蒸着装置を得る。
【解決手段】真空槽と、真空槽の内部に設けられた蒸着源と、蒸着源を加熱する加熱手段と、蒸着源に対向配置され、基板を保持する基板ホルダーと、蒸着源と基板との間を開閉するシャッターを備え、このシャッター表面のうち、少なくとも基板側の表面をＡｕ又はＰｔの層で覆う。 （もっと読む）

【課題】 放電原因解消のための電力遮断回数を最小にする。
【解決手段】 直流高圧発生装置１６、電子銃５、電子銃５のフィラメント６とアノード８間の電圧から放電を検出する手段、放電検出手段からの放電信号が特定時間続いているか否かを検知する検知回路、検知回路からの信号に基づきトリガ信号を発生するトリガ発生回路２４、フィラメント６とアノード８間の電流を遮断する遮断手段１８ａ、両電極間の電流遮断状態を非遮断状態に戻す正常復帰信号発生回路２０を備え、トリガ発生回路２４からのトリガ信号に基づいて前記両電極間の電流を遮断状態にし、トリガ信号に基づいて正常復帰信号発生回路２０により遮断状態を遅延して非遮断状態に戻す様に成しており、非遮断状態に戻した時に検知回路から発生される信号又はトリガ信号をカウントし、カウント値に応じて正常復帰信号発生回路２０により遮断状態を非遮断状態に戻す際の遅延時間を設定する様に成した。 （もっと読む）

【課題】電子が反射現象または拡散現象によって蒸着材料以外の箇所を加熱してしまう問題を解消し、大面積のフィルム基材への連続蒸着にも対応できる電子吸収体およびそれを用いた電子線加熱蒸着装置を提供する。
【解決手段】電子を反射する反射部と電子を吸収する吸収部とからなる電子線吸収体１８を、電子線加熱蒸着装置１１の蒸着室２０内に設置する。電子線吸収体１８の反射部の材質はカーボン、吸収部の材質は金属であることが好ましい。 （もっと読む）