【課題】カソードおよびアノード間の異常放電の発生率を十分に低下させる。
【解決手段】熱電子を放出するカソード２２と、カソード２２から熱電子が放出されている状態においてカソード２２との間に印加されているグリッド電圧の電圧値に応じた量の電子を放出するグリッド２３と、カソード２２との間にアノード電圧が印加されて電子を加速させるアノード２４と、加速された電子を集束して電子ビームＥＢを生成する集束部２５とを備えた電子ビーム蒸着装置用の電子ビーム照射装置６であって、カソード２２は、アノード２４側の一面２２ｓの十点平均粗さＲｚが０．１０μｍ以上０．２８μｍ以下の範囲内となるように研磨されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低屈折率ガラスにおいて優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生の少なく、かつ優れたヤケ防止効果を有し、耐久性、耐擦性にも優れた反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置を提供する。
【解決手段】基板上に、第１層〜第５層を基板側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、波長領域400〜700 nmの光において、基板の屈折率が1.42〜1.55であり、各層は所定の光学膜厚を有し、第１層はアルミナを主成分であり、第２層〜第４層は所定の屈折率を有し、第５層がシリカを主成分とする多孔質層である反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】SiOを蒸着材料としたガスバリア性フィルムにおいて、反応ガスを導入しなくても、黄色を呈さず高い透明性を備えながら、優れたガスバリア性を有するガスバリア性フィルムおよびその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも一方の面に、ＳｉＯｘ蒸着材料を用い、反応ガスを導入しない雰囲気下でエレクトロンビーム蒸着方法によりＳｉＯｘ膜を形成し、前記ＳｉＯｘ蒸着材料が結晶質のＳｉＯ_２の回折パターンを有するものであり、かつ、前記ＳｉＯｘ蒸着材料の真密度に対する嵩密度が７０％以上８０％未満であるガスバリア性フィルムの製造方法。該製造方法を用いて形成したことを特徴とするガスバリア性フィルムであって、前記ＳｉＯｘ膜の膜厚が２００ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】複合材料膜中の組成均一性を改善するための成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、真空チャンバー１１内に、被蒸着材料としてＳｉ，Ｃｏを個別に格納した第１，第２銅るつぼ１３ａ，１３ｂを備えている。電子銃１６により、Ｓｉ，Ｃｏを個別に加熱し、第１，第２水晶振動子１５ａ，１５ｂおよび制御装置５０により、Ｓｉ，Ｃｏの蒸着量を個別に制御する。真空蒸着前に、真空チャンバー１１の圧力を２×１０^−３Ｐａ以下に減圧してから、Ａｒガスを１×１０^−２〜１×１０^−１Ｐａの圧力範囲で導入する。真空蒸着を行うと、Ａｒガスの存在によって、各粒子の衝突回数が増大するので、Ｓｉ，Ｃｏが十分混合されて、基材シート３１上に、組成均一性の良好なＳｉ−Ｃｏ合金膜３５が形成される。 （もっと読む）

【課題】連続して多数の電子ビームパルスを発生することが可能なパルス電子ビーム発生装置およびこの装置を用いたパルス電子ビーム成膜装置を得る。
【解決手段】パルス状の電子ビームを発生するためのパルス電子ビーム発生部（８a）と、絶縁材料で構成された中空のチューブであって、パルス電子ビーム発生部（８a）に連結され、発生させた電子ビームをターゲット表面に案内するためのガイドチューブ（８ｂ）とを備えるパルス電子ビーム発生装置（８）において、ガイドチューブ側面の少なくとも一部を被覆する筒状構造物（８ｃ）を、ガイドチューブ（８ｂ）表面と空隙を設けて取り付ける。 （もっと読む）

【課題】長期間に亘って安定して動作するパルス電子ビーム発生装置およびこの装置を用いたパルス電子ビーム成膜装置を得る。
【解決手段】パルス状の電子ビームを発生するためのパルス電子ビーム発生部（８a）と、絶縁材料で構成された中空のチューブであって、パルス電子ビーム発生部（８a）に連結され、発生させた電子ビームをターゲット表面に案内するためのガイドチューブ（８ｂ）とを備えるパルス電子ビーム発生装置（８）において、ガイドチューブ（８ｂ）の側面に、その長手方向と交差する方向に高さを有する絶縁材料のフィン（８ｃ）を、ガイドチューブ側面をほぼ一周するように設ける。 （もっと読む）

【課題】発熱体ＣＶＤ（化学蒸着）法において、作成される薄膜中への不純物の混入を抑制する方法を提供する。
【解決手段】処理容器１内にガス供給系２によって供給された原料ガスが、エネルギー供給機構３０により所定の高温に維持された発熱体３の表面で分解及び又は活性化して基板９の表面に薄膜が作成される。発熱体３は、タングステン製の基体の表面に、不純物金属含有量が０．０１重量％以下のタングステン粉末を蒸発源とした電子ビーム蒸着法又は六フッ化タングステンの水素による還元反応を利用した化学蒸着法により、不純物金属含有量が０．０１重量％以下のタングステンの被覆膜を形成したものである。発熱体３からの不純物金属の放出が抑制され、作成される薄膜中への不純物金属の混入も抑制される。 （もっと読む）

【課題】 固体ポリマー電解質またはその他のイオン導電性ポリマー表面上に金属、金属酸化物または金属合金を被覆するための新規方法を提供することである。
【解決手段】 薄い金属または金属酸化物のフィルムを備えたイオン導電性の膜を製造するための方法であって、減圧下、イオン導電性膜を低エネルギーの電子ビームに賦して、その膜表面を清浄とし、この清浄とした膜を、減圧下、析出されるその金属のイオンを含有する高エネルギービームに賦して、金属フィルムを形成することを含む方法。この方法によって得られる金属化された膜構造物およびそれを内蔵する燃料電池も、また、本発明の範囲に含まれる。 （もっと読む）

【課題】 合成樹脂フィルム上に成膜される昇華材料膜の特性を向上させるために、昇華した昇華材料を安定的に合成樹脂フィルム上に付着させる工程を有する方法を提供する。
【解決手段】 マイクロ波発生手段を用いて予備的に、かつ、均一的に昇華材料を加熱する。また、電子線発生手段を用いて電子線を照射する昇華材料表面がほぼ平滑であり、かつ、材料容器が可動式である。また、材料容器と冷却ロールとの間に高融点材料からなる網目状のフィルターを備えている。 （もっと読む）

【課題】蒸着（スパッタリング）金属による形成成膜の接着力が強く、形成速度の速い電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】プラズマ電子銃から発射される電子ビームパルスは、大きい断面積であってエネルギ密度が低いと言う特徴がある。スパッタリングに利用する場合には面積の大きなターゲットを使用できることと、スパッタ粒子が微細であるという利点がある反面、ターゲットと基板は近接しなければならないと言う制約がある。そこで、基板の周囲にターゲットを配置し、プラズマ電子銃からの電子ビームをターゲットに照射してスパッタ粒子を発生させるとき、基板表面に並行する磁力線を作っておくと、電荷を持つ金属イオンの運動との相互作用（ローレンツの力）により方向が偏向させられ、基板面に誘導されて薄膜が堆積される。 （もっと読む）