【課題】 充填容器内の液体材料の液量を正確に管理し、過充填を防止でき、かつ定期的な一定量の補充を行うことができる充填容器内の液体材料の供給装置および該液体材料の供給装置における充填容器内の液面管理方法を提供すること。
【解決手段】 充填容器１内の液体材料が搬送ガスに同伴して供給される液体材料の供給装置において、充填容器１の上部に配設され一定量の内容積を有する定量供給器２と、一端が定量供給器２の下部と接続され、他端が充填容器１内の液体材料の液層内に浸される配管Ｌａと、一端が定量供給器２の上部と接続され、他端が充填容器１内にあり配管Ｌａの他端よりも上部に位置する配管Ｌｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】シランカップリング剤の加水分解に必要な水分が不足することを防止して、未反応の官能基が被膜の表面に残存することを防止できる表面処理方法および表面処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧よりも低い圧力下で処理剤を気化させ、処理剤の雰囲気に被処理基板を晒すことで被処理基板上に処理剤の被膜Ｃ１を形成する表面処理工程を有し、表面処理工程の後に、被処理基板を冷却する冷却工程と、被処理基板の表面に水分を供給する水分供給工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 類縁構造化合物を含有していてもルテニウム含有薄膜を製造することができる（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム、その製造方法、それを用いたルテニウム含有薄膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 類縁構造化合物を含有する（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムから、類縁構造化合物を分離することにより、５重量％以下の類縁構造化合物を含有する（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウムを得て、それを原料として用いて薄膜を製造する。 （もっと読む）

ルテニウムを堆積するための組成物及び方法。四酸化ルテニウムＲｕＯ_４を含有する組成物を前駆体溶液６０８として使用し、ＡＬＤ、プラズマ強化堆積、及び／またはＣＶＤによって基板４００を被覆する。周期的プラズマ濃縮を使用することもできる。
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【課題】固体から昇華した蒸気流れを制御する新規システムを提供する。
【解決手段】昇華された蒸気５０の定常流れを真空チャンバ１３０へ送達する蒸気送達システムは、固体物質２９の気化器２８、機械式スロットルバルブ１００および圧力ゲージ６０、真空チャンバへの蒸気導管３２を備える。蒸気の流量は、その気化器の温度およびその気化器とその真空チャンバとの間に置かれる機械式スロットルバルブのコンダクタンスの設定の両方により決定される。気化器の温度は閉ループ制御３５により設定点温度に決定される。機械式スロットルバルブは電気制御され、バルブの位置は圧力ゲージの出力に対する閉ループ１２０で制御される。蒸気の流量は圧力ゲージの出力に比例し得る。気化器から真空チャンバへの蒸気に曝露されるすべての表面３７は、凝縮を防ぐために加熱される。ゲートバルブおよび回転式バタフライバルブが、上記スロットルバルブとして作用し得る。 （もっと読む）

【課題】高速で再現性のある、均一性が高く、かつ高速な半導体又は液晶ディスプレイの製造を可能とする装置を提供する。
【解決手段】設定流量より任意の過剰のガスを任意の時間供給することが可能である装置内の圧力及び複数のガス分圧の制御システムを装置の上流に備え、制御システムと装置の下流に備えられた開度可変型流体制御バルブもしくは排気速度可変型真空排気装置とを連動させる事により装置内の圧力及び複数のガス分圧を一定に保つ事が可能なフィードフォワード方式の製造が可能である。 （もっと読む）

【課題】コバルト前駆体の使用効率の高い、化学気相成長方法によるコバルト膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】上記コバルト膜の形成方法は、基体上にコバルト膜を形成する方法であって、少なくとも（Ａ）一酸化炭素を含む気体の存在下でコバルトカルボニル錯体を昇華する工程と（Ｂ）基体上にコバルトカルボニル錯体の昇華物を供給してコバルトに変換する工程とを含むことを特徴とする方法である。 （もっと読む）

【課題】 キャリアガス中の原料ガスの濃度を安定化させ、原料の巻き上げや飛散による影響を抑制する。
【解決手段】 容器内に収容された常温常圧下において固体である原料を固体から液体に変化させる工程と、液体に変化させた前記原料を固体に戻す工程と、固体に戻した前記原料を昇華させて前記容器内で原料ガスを生じさせる工程と、前記容器内で生じさせた前記原料ガスを基板に対して供給し、基板を処理する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】原子層成長において、所望とする供給比で複数の原料ガスが供給できるようにする。
【解決手段】原料ガスＡ供給部１０５は、原料Ａ気化器１５１，バッファタンクＡ１５２，充填弁Ａ１５３，供給弁Ａ１５４，および圧力計Ａ１５５を備える。また、原料ガスＢ供給部１０６は、原料Ｂ気化器１６１，バッファタンクＢ１６２，充填弁Ｂ１６３，供給弁Ｂ１６４，および圧力計Ｂ１６５を備える。制御部１０９は、圧力計Ａ１５５により計測されたバッファタンクＡ１５２内の圧力値をもとに、充填弁Ａ１５３の開度を制御する。また、制御部１０９は、圧力計Ｂ１６５により計測されたバッファタンクＢ１６２内の圧力値をもとに、充填弁Ｂ１６３の開度を制御する。 （もっと読む）

【課題】気化器の液体原料流路内からの有機金属液体原料の除去を促進させ、液体原料流路内の閉塞を抑制する。
【解決手段】基板を収容した処理室内に複数種類の反応物質を複数回供給することにより基板を処理する工程を有し、複数種類の反応物質のうち少なくともいずれか一つは、液体原料を気化部で気化させた原料ガスを含み、基板を処理する工程では、気化部に液体原料を溶解することのできる溶媒を連続的に流すと共に、気化部に液体原料を供給して気化させる気化動作を間欠的に行い、液体原料の気化動作時以外の時であって、液体原料の気化動作を所定回数行う毎に、気化部に溶媒を、液体原料の気化動作時に供給する溶媒の流量よりも大流量で流すフラッシング動作を行う。 （もっと読む）