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国際特許分類[F27D11/02]の内容

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【課題】被処理体の長さを変更する場合、その長さに対応した最適な長さに容易に変更調整することができる熱処理装置及び熱処理方法を提供する。
【解決手段】管状の被処理体2を収容して熱処理するための熱処理装置1であって、上記被処理体2を長手方向に沿って覆うために長手方向に伸縮可能に嵌合された筒状の複数の覆い体3a,3bと、該覆い体3a,3bの内周に設けられ上記被処理体2を加熱する発熱抵抗体4a,4b,5a,5bと、上記覆い体3a,3bの最外側両端に設けられた端板7a,7bと、少なくとも一方の端板7aに形成され上記被処理体2を上記覆い体3a,3bの内部に装入するための開口部8a,8bとを備えている。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造で、熱処理炉とチューブヒータとの間でシール不良を起こすことなく、チューブの変形を防止できる熱処理炉のチューブヒータを提供する。
【解決手段】例えば、ローラハース式連続真空熱処理炉の脱ワックス室11に装入されたワークの加熱源となるチューブヒータ21、24であって、チューブ内に主ヒータ41、44とは別に該主ヒータのワークと対面する側に補助ヒータ51、54を挿入し、該補助ヒータへの通電を該主ヒータとは別に制御するようにした。 (もっと読む)


【課題】垂直焼成炉において、落下中の焼成完了後も被焼成材料を一旦冷却することなく焼成を継続し被焼成物の熱処理時間が長くなり効率的に焼成がなされる垂直焼成炉を提供する。
【解決手段】垂直に設置された炉チューブ36及び該炉チューブの周囲に配置された加熱源52からなる第1加熱炉12と、前記炉チューブの上方に配置されて粉末状の被焼成材料を前記チューブ内に落下させる被焼成材料投入装置14と、前記炉チューブの上端部38から雰囲気ガスを投入する雰囲気ガス投入装置と、前記炉チューブの下端部から雰囲気ガスを含む排気ガスを引出し、冷却して排気する排気装置104と、前記炉チューブの下端部に少なくとも一部焼成され落下した被焼成物を一定時間加熱保持する第2加熱炉16とを有することを特徴とする垂直焼成炉10。 (もっと読む)


【課題】波形に形成した発熱体を炉壁に設けた溝内に配置し、発熱体の端子部を炉壁に固定し、上記発熱体の波高部を上記溝の両側壁に埋め込むことにより、上記発熱体を炉壁に固定する発熱体の固定方法では、発熱体の加熱膨張・収縮により上記発熱体が溝から飛び出し、発熱体同士が接触したりしてしまう欠点がある。
【解決手段】炉壁1と、上記炉壁内面に設けた発熱体収納溝2と、上記発熱体収納溝2内に配置せしめた波形に形成した発熱体3と、上記炉壁1に設けた、上記発熱体3の端子部4を貫通せしめる貫通孔9とよりなり、上記貫通孔9が上記発熱体収納溝2の延びる方向に大きく延びる空隙とする。また、発熱体収納溝2の下側には上記発熱体3の波形端部収納溝8を有する。 (もっと読む)


【課題】 溶解効率と電力原単位とに優れる電気炉の操業方法を提供する。
【解決手段】 クラスト8の溶融温度として予め定められる温度の炉体4内における位置を連ねて形成される炉内プロフィール20を作成し、また炉体内の電極5の位置を求め、炉内プロフィールおよび炉体内の電極の位置を可視化する。この可視化される炉内の状況に基づいて、炉体内への原料の追加投入や、電極に関して操業条件の調整を行う。このような操業条件の調整で、棚吊り等のトラブル発生を防止することも可能になる。 (もっと読む)


【課題】処理材を効率よく加熱する。
【解決手段】制御部6が有する電力関数生成部11が、負荷2の発熱スペクトルと処理材の熱吸収スペクトルとが一致するように、PAM変換器4が有するパワートランジスタG11、G12を制御するための電力波形を生成する。電力関数生成部11からの出力電力がパルス変換器13によりパルス変換された後に、PAM変換器4のパワートランジスタG11、G12をON、OFF制御するパルスに変換する。 (もっと読む)


【課題】比較的面積の大きな試料を均一に加熱できる高温加熱炉を提供する。
【解決手段】試料台14に載置された平板状の試料を最適処理温度まで加熱する本加熱室2を有した高温加熱炉1であって、赤外線を放射して前記試料を加熱するWメッシュヒータ10と、前記Wメッシュヒータ10から放射される赤外線を前記試料台14に向けて反射する反射体11とを前記本加熱室2に設け、前記反射体11の反射面11Sを前記試料台14の位置に焦点S2を有する楕円面に形成すると共に、前記Wメッシュヒータ10を円筒状に形成して面光源とした。 (もっと読む)


【課題】開閉扉の密閉性が保たれない場合でも、ガラス基板にパーティクルが付着するのを防止することができるガラス基板用熱処理装置を提供する。
【解決手段】炉体内部に、ヒータを備える加熱室3を設け、この加熱室の基板収納口4に開閉蓋5を配設したガラス基板用熱処理装置において、前記基板収納口の下方には、排気管7が炉体の左右方向に向けて配設されており、この排気管の上面には、吸気用の吸引孔11穿設しており、この吸引孔を介して加熱室内部の気体や夾雑物を吸引できるようにしている。 (もっと読む)


【課題】溶解処理を効率よく行うことができる溶解装置および溶解処理車を提供する。
【解決手段】被溶解物を収容可能な導電性の容器11を備え、容器11を通電加熱することにより、収容された被溶解物を溶解して容器11の底部に形成される排出孔14を介して連続的に排出可能な溶解装置1であって、容器11の底部に連接し、容器11の下方に延びる導電性材料からなる筒状の発熱体15を備える溶解装置1。 (もっと読む)


【課題】 パイロメーターを備えたランプアニール装置において、パイロメーターに処理対象物を透過した光が入射する場合であっても、精度よく温度検出を行え、もって処理対象物の温度制御を精度よく行えるようにする。
【解決手段】 加熱処理を行うに先立ち、処理対象物11の透過率を求める。処理対象物11が存在しない状態で上部ランプ12からの光が入射したときのパイロメーター14の出力を基準として、処理対象物11を透過した光が入射したときのパイロメーターの出力の比を求め、透過率とする。求めた透過率を記憶部17に記憶させ、加熱処理を行う際、パイロメーター14の出力を透過率に基づいて補正する。これにより、高精度の温度検出及び温度制御が可能になる。 (もっと読む)


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