【課題】昇温および降温時におけるヒータの膨張および収縮による影響を適切に抑えつつ、ワークの大型化に対応することが可能なヒータユニットおよび熱処理装置を提供する。
【解決手段】ヒータユニット２０は、ヒータ２１、ヒータラック１８、およびサポートプレート１９を備える。ヒータ２１は、ワーク１４よりも小さなサイズの複数のヒータ片２１０〜２１９を有する。ヒータラック１８およびサポートプレート１９には、複数のヒータ片２１０〜２１９が載置される。ヒータラック１８およびサポートプレート１９に載置されるヒータ片２１０〜２１９の少なくとも一部は、ヒータラック１８に対して滑動可能に配置される。 （もっと読む）

【課題】予熱発熱体のコンパクト化やＦｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金製のヒータの使用を可能として装置の小型化や低価格化を実現できる熱間等方圧加圧装置を提供する。
【解決手段】被処理物Ｗが収容されると共に酸化性ガスを注入可能とされた高圧容器２と、高圧容器２内に配備されると共に内部に被処理物Ｗの処理室４を包含する断熱構造体３と、被処理物Ｗを取り囲むように配設される処理室４を構成すると共に使用温度領域に予熱されることで発熱が可能になる発熱体５と、発熱体５を使用温度領域まで加熱する予熱発熱体６と、を備えており、高圧容器２内には、予熱発熱体６で加熱された酸化性ガスを処理室下部領域１７を経由して予熱発熱体６に戻す循環路１５と、循環路１５に沿って酸化性ガスを強制循環させる強制循環手段１６と、が設けられている。 （もっと読む）

【解決手段】
処理対象であるワークピースまたは媒体を第１の処理温度まで加熱する第１の処理セクションと、ワークピースまたは媒体を均一温度とする温度適応化セクションと、ワークピースまたは媒体を第２の処理温度に遷移させる第２の処理セクションとを備える熱処理プラントであって、温度適応化セクションの少なくとも大部分が、ワークピースまたは媒体が、実質的に自身の熱輻射の再帰反射によって均一温度まで遷移して均一温度を維持するように、ワークピースまたは媒体の熱輻射を反射する反射性材料でライニングされている。 （もっと読む）

【課題】耐久性を高めて長寿命化を図ることができる通電加熱装置を提供する。
【解決手段】導電性を有する容器３、容器３の上部に接続される上部電極４、及び、容器３の下部に接続される下部電極５を備え、上部電極４及び下部電極５間に電圧を印加して容器３に通電することにより、容器３に収容された材料を加熱する通電加熱装置１であって、容器３と下部電極５との間に、通電加熱により発熱した容器の熱によって溶解可能な導電性の金属部材７が配置されている通電加熱装置１。 （もっと読む）

【課題】炉ハウジング（Ｉ．２，ＩＩ．２，ＩＩＩ．２）によって取り囲まれた筒状レトルト（Ｉ．３，ＩＩ．３，ＩＩＩ．３）を用いる金属加工品の熱処理のためのレトルト炉（Ｉ．１，ＩＩ．１，ＩＩＩ．１）の実際的な価値を増加させ、かつ使用可能性を増加させる。
【解決手段】第１の変形形態に従って装入物の重量がレトルト（Ｉ．３）に加わらないようにし、第２の変形形態に従って第２の循環装置（ＩＩ．１８．２）をレトルト（ＩＩ．３）の加熱素子（ＩＩ．６）に対して配置し、第３の変形形態に従ってレトルト（ＩＩＩ．３）の底部（ＩＩＩ．９）に第２の底部（ＩＩＩ．９．１）及び／または調整弁（ＩＩＩ．２０，ＩＩＩ．２１）を設ける。 （もっと読む）

【課題】ヒータ断線時に炉内の加熱バランスが大きく崩れるのを防止することができ、しかもヒータ交換などのメンテナンスが容易なシリコン加熱炉を提供する。
【解決手段】２つの円筒炉半体２４ａ，２４ｂを円筒状に組み合わせることによって構成され、その内部にて加熱対象となる原料シリコン塊１２を加熱するシリコン加熱炉１０において、２つの円筒炉半体２４ａ，２４ｂの内側に、円筒炉半体２４ａ，２４ｂの胴長と略同等の長さに形成され、且つ石英管６４で被覆された複数の直線状のヒータＨが、円筒炉半体２４ａ，２４ｂの内周方向にて互いに離間し且つ円筒炉半体２４ａ，２４ｂの胴長方向に沿って配置されると共に、ヒータＨのそれぞれが並列に電気接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】バッチ式熱処理装置において、複数枚の基板を面内の温度が均一になるように同時に熱処理する。
【解決手段】本発明に係るバッチ式熱処理装置は、複数枚の基板１０に対して熱処理空間を提供するチャンバ１００と、複数枚の基板１０を搭載支持するボート１０８と、基板１０の積載方向に一定間隔で配置されかつ各々が複数の主ヒータ２００で構成されるような複数の主ヒータユニット１２０とを含み、基板１０が、複数の主ヒータユニット１２０の間に配置されるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板と基板支持部の接触面積を増加させることにより、焼成装置の内部温度が上昇及び下降することで、基板支持部が収縮・膨脹しながら、基板にスクラッチを発生させることを防止できる基板焼成装置を提供する。
【解決手段】焼成炉１０内部に熱を供給して基板Ｓを焼成温度で加熱する加熱部２１と、前記基板Ｓが積載されるように内側面に水平に設置される支持フレーム３０a及び前記支持フレーム３０ａの一領域から中央部側へ突出する少なくとも１つの支持ピン３０ｂとを備え、上下方向に一定間隔で設置される石英材質の第１支持部３０、前記第１支持部３０の前記支持ピン３０ｂ上に配置されて前記基板Ｓ下部面の枠と一定領域だけ接触するように設置される石英材質の第２支持部４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】ヒーター表面でのアンモニアガスの分解量を一定にして、炉内の残留アンモニア濃度を安定させ、浸窒焼入れ部品の品質を向上することができる浸窒焼入れ方法、浸窒焼入れ用ヒーター、浸窒焼入れ装置を提供する。
【解決手段】鉄または鉄合金にて構成されるワーク１１をアンモニアが供給される熱処理炉１内に設置し、金属部材にて構成され熱処理炉１内雰囲気に接触するように配置されるヒーター１３により前記熱処理炉１内を加熱することで、前記ワーク１１に窒素を浸透拡散させるとともに焼入れを行う浸窒焼入れ方法であって、前記ヒーター１３の表面における酸化膜の形成範囲を調整することにより、ヒーター１３表面でのアンモニアの分解度合いを制御する。 （もっと読む）

【課題】 搬送治具に載置した反射板を長期間、連続使用でき、反射板の耐久性が向上すると共に、高いエネルギー効率で被処理物に皮膜材を焼成して成膜する焼成炉および皮膜形成方法を提供すること。
【解決手段】 赤外線を照射し、皮膜材３を被処理物２に焼成して成膜する皮膜形成方法であって、皮膜材３を塗布した被処理物２を載置すると共に、反射板１３〜１６を配備した搬送治具１１を有する搬送装置１０により、被処理物２を焼成ゾーン２０に搬送し、焼成ゾーン２０のランプユニット２１からの赤外線を直接、被処理物２に照射すると共に、反射板１３〜１６で反射させ被処理物２の皮膜材３の塗布部分２ａと、塗布部分２ａ以外の照射部分２ｂ、２ｃに照射し皮膜材３を焼成する。次に搬送装置１０で被処理物２を冷却ゾーン３０に搬送し、皮膜材３を焼成した被処理物２と反射板１３〜１６とを冷却する。 （もっと読む）