【課題】 絵素領域毎に液晶分子が軸対称配向した液晶領域を有する、視角特性の優れた高コントラストの液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 液晶分子は負の誘電異方性を有し、電圧無印加時には、該液晶分子が一対の基板に対して垂直に配向し、電圧印加時には、該液晶分子が複数の絵素領域毎に軸対称状に配向する液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】コントラスト特性、ペーパーホワイト性に優れた反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 一対の基板と、該一対の基板の間に狭持された液晶層と、一枚の偏光板と、反射層とを有する液晶表示装置であって、該反射層と該偏光板とは、該液晶層の異なる側に設けられ、該反射層は、光を反射する面が凹凸を有し、該凹凸の表面に対する接線の傾斜角度が２°未満である領域の該基板の面積に対する比率が２０％以上６０％以下である液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】 表示品質の優れた液晶−高分子複合系液晶表示装置の製造に適した、重合性光重合開始剤を提供する。
【解決手段】 高分子壁に実質的に包囲された複数の液晶領域が規則的に形成された液晶層を形成するための光重合性組成物に用いられる光重合開始剤であって、分子内に重合性官能基を有する。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置のバックライトパネルに適した樹脂被覆金属板を見出すこと。
【解決手段】 金属板の表面粗度を、Ｒａで０．８μｍ以下で、かつＲｚで５μｍ以下に調整し、その表面に塗膜厚５μｍ以下で摩擦係数０．２以下の樹脂塗膜を有し、かつ反射率が６０％以上であることを特徴とする成形性に優れた液晶表示装置のバックライトパネル用樹脂被覆金属板である。 （もっと読む）

【課題】 人間の色知覚特性に適応させるように目盛付けした方法で色パラメータを制御することが可能な色制御アセンブリを備えた投射装置の実現。
【解決手段】 ビーム色制御アセンブラ２２１を含む１または２つ以上の光投射器を有する照明応用のための光投射装置の色制御と色設計において、その光投射器は；（１）照明応用に好適な輝度を有するビームを発生する光ビーム源；（２）ビームに関して置き換え可能な一組の色フィルタ素子からなり、また（３）その色フィルタ素子の中のいくつかはフィルタ遮断波長および透過波長がその素子の位置決めによって調整可能となるように形成された可変ダイクロイックフィルタリング材料からなる。フィルタ素子は色相パラメータが円周方向に変わり、色の濃さ（飽和度彩度）が半径方向に変わる円形の素子である。フィルタ素子をビームを通して回転すれば色相が変わり、一方ビーム軸を横に直角に移動すれば濃度制御が行える。 （もっと読む）

【課題】 スペーサを帯電させた状態でスペーサを液晶基板上に散布する方法において、散布ノズルの影響や基板上の導体の影響を低減して、スペーサの均一な分布を実現できる新規の散布方法を提供する。
【解決手段】 基板ホルダ１は、導電体からなる基体２と、この基体２に嵌合された絶縁体からなる絶縁板３とから構成される。基体２は、平面矩形状に形成され、周縁部に形成された縁枠部２ａと、中心部に形成された平面円形の凸部２ｂと、縁枠部２ａと凸部２ｂとの間に形成された凹部２ｃとを備える。一方、絶縁板３は、基体２の凹部２ｃに嵌合している。基板ホルダ１の表面上に液晶基板を、基板端が基板ホルダ１の縁枠部２ａ上に配置されるようにして載置して、この状態において帯電したスペーサが散布される。 （もっと読む）

【課題】半田印刷の繰り返しを無くして高品質の半田膜を印刷することができる半田印刷用マスクとこのマスクで形成した半田膜に半田付けした電子部品を搭載したプリント回路基板を実装した液晶表示装置等の電子機器を提供する。
【解決手段】液晶表示装置等の電子機器に実装するプリント回路基板１の印刷配線上に電子部品１１，１２，１３，１４のリードピンを半田付けして搭載するための半田膜を印刷形成する半田印刷用マスク５の板厚を、前記電子部品および当該電子部品を搭載する印刷配線の近傍で、搭載する前記電子部品のリードピン１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａのピッチの大きさに応じて局部的に変化させた。 （もっと読む）

【課題】 駆動基板にブラックマトリクスが形成された場合の層間ショート不良および液晶プロジェクタ用として使用された場合の光リークの影響を回避する液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、洗浄したガラス基板４上に、スパッタ等により、本発明のブラックマトリクス２５をＴｉ、Ｃｒ、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｐｂおよびこれらの合金等で２００ｎｍの膜厚にてデポジションして形成する。その後、ＣＶＤ等を用いて５ｗｔ％のリン濃度の燐シリケートガラスＰＳＧ等の層間絶縁膜１６を全面的に１μｍ堆積し、９００°Ｃで約１時間のアニールを加える。以下、層間絶縁膜１６上に常法にてＴＦＴ５や保持容量６を形成する。従って、ブラックマトリクスによる層間ショート等を減少することができる。 （もっと読む）

【課題】 多孔質板を用いた真空チャック装置からなる基板保持盤を使用しても、半導体ウエハの被研磨面全面が極めて高い精度を以て均一な厚みに研磨できる薄板状基板の研磨方法を得ること。
【解決手段】 本発明の研磨方法は、回転研磨定盤２とこの研磨定盤２の研磨面に対して研磨しようとする半導体ウエハＳを平行状態で真空吸引により保持する多孔質板５Ａからなる基板保持盤５などから構成されている研磨装置１を用い、前記多孔質板５Ａの微細孔が開口している面５Ｄに、比較的均一な多数の通気孔７Ａが形成されており、そして均一な厚さの弾性パッド７を介して半導体ウエハＳを真空吸引しながら、その吸着された半導体ウエハＳを研磨する方法を採っている。 （もっと読む）