【課題】透明性、表面硬度、耐擦傷性、耐熱クラック性、耐クラック性及びＩＴＯ透明導電膜に対する密着性に優れ、さらに十分な感度をも有する表示素子用又はタッチパネル用の保護膜又は層間絶縁膜の提供。
【解決手段】［Ａ］ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、及び［Ｂ］エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のカルバゾール構造を有するオキシムエステル化合物からなる光重合開始剤を含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン加工性に優れ、ＵＶ硬化および熱硬化により高硬度、高透明であり、耐薬品性の優れる硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）光ラジカル重合開始剤、（Ｃ）多官能モノマーおよび（Ｄ）下記式（１）〜（３）のうちいずれか１種類以上の官能基を有するシランカップリング剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が、（ａ−１）カルボキシル基とラジカル重合性基を有するポリシロキサンおよび／または（ａ−２）カルボキシル基を有するアクリル樹脂とラジカル重合性基を有する一置換エポキシ化合物とを反応させて得られるアクリル樹脂であるネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、更には、現像残渣が少ないパターンを高解像度で形成可能なパターン形成方法、パターン形成材料、並びに、これらを用いた感光性膜、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】感光性組成物により感光性膜を形成する工程、該感光性膜を露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であって、前記感光性組成物が、（Ａ）中空又は多孔質粒子、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び（Ｃ）前記活性種の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する化合物を含有する感光性組成物である、パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】保護膜や層間絶縁膜等の表示素子の硬化膜に対する要求特性を高水準でバランスよく両立させることの可能なポリシロキサン組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分［Ａ］〜［Ｄ］；
［Ａ］（ａ１）ラジカル重合性有機基を有するシラン化合物と、（ａ２）ラジカル重合性有機基を有しないシラン化合物とを共加水分解縮合して得られるラジカル重合性有機基を有するポリシロキサンであって、該ポリシロキサン中の（ａ１）ラジカル重合性有機基を有するシラン化合物の割合が１５モル％を超えるポリシロキサン、
［Ｂ］ラジカル重合性有機基を有しないポリシロキサン
［Ｃ］ラジカル重合開始剤、及び
［Ｄ］溶剤
を含有するポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率が低く、更には、膜強度に優れ、現像欠陥が少ないパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）中空又は多孔質粒子、（Ｂ）前記粒子（Ａ）に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び（Ｄ）前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は吐出ノズル式塗布法に好適であって、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性（膜厚均一性）及び高速塗布を達成でき、かつ透明性、耐擦傷性に優れる保護膜及び層間絶縁膜としての硬化膜を形成可能なシロキサンポリマー組成物を提供することである。
【解決手段】［Ａ］ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、［Ｂ］ラジカル重合開始剤、及び［Ｃ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が５質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含むシロキサンポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性感光性樹脂組成物の添加成分として、基材との高い接着特性を示すシリコン系カップリング剤を用いることで、熱硬化後、基板との高い耐水接着性を有し、析出などの問題がなく、かつ良好な硬化レリーフパターンを形成する感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、またはポリヒドロキシスチレンの誘導体である重合物１００質量部に対して、（Ｂ）感光性ジアゾナフトキノン１〜１００質量部、（Ｃ）有機溶剤１００〜１０００質量部、及びアルコキシシリル基含有の有機化合物である（Ｄ）接着助剤０．１〜２０質量部を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成する場合であっても、露光部の強度や現像液耐性低下による現像欠陥や焼成欠陥の発生しにくい感光性ペースト、およびそれに最適な新規のポリマーを提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構成単位（Ａ）とアルカリ可溶性基を含有する特定構成単位（Ｂ）の両方を有することを特徴とするポリマーおよびこれを用いた感光性ペースト。
（もっと読む）

【課題】有害物を用いずに、高解像性、高感度、優れた耐水性、耐溶剤性、耐摩耗性、スクリーンメッシュとの密着性を有する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の成分Ａ、成分Ｂ及び成分Ｃからなることを特徴とする感光性樹脂組成物、およびこの感光性樹脂組成物を用いたにスクリーン印刷用ステンシル。
成分Ａ：ポリビニルアルコールおよび（または）部分けん化ポリビニルアルコール
成分Ｂ：水溶性光架橋剤
成分Ｃ：シランカップリング剤 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、かつ、ヤング率及び耐熱性が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基とかご状シルセスキオキサン構造を有する重合体と、（Ｂ）ＳｉＨ結合を有する化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。 （もっと読む）