【課題】高速塗布時においても、塗布欠陥がなく、膜厚のむらが少なく、得られたカラーフィルタの膜面状が良好で、高色純度でかつ高コントラストという良好な色特性とすることができる着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、該着色硬化性樹脂組成物を用いてなるカラーフィルタ、その製造方法、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示素子を提供することにある。
【解決手段】（ａ）色材、（ｂ）溶剤、（ｃ）重合性モノマー及びバインダー樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種、（ｄ）光重合開始剤、及び（ｅ）フルオロ脂肪族基を側鎖に有する高分子界面活性剤を含むことを特徴とする着色硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成及び工程で、フイルムの詰まりを可及的に阻止することができ、停止しているフイルムの先端部を保持し、前記フイルムを搬送路に沿って円滑且つ確実に搬送することを可能にする。
【解決手段】フイルム搬送装置４８は、ユニット本体９４を備え、このユニット本体９４は、長尺状感光性ウエブ２２が停止された状態で、搬送路８８に沿って搬送方向とは逆の反搬送方向に移動される。ユニット本体９４には、長尺状感光性ウエブ２２を切断する切断機構１０６と、前記切断機構１０６の搬送方向上流側に配置される第１フイルム搬送ローラ対１１２ａ及び第２フイルム搬送ローラ対１１２ｂと、前記切断機構１０６の搬送方向下流側に配置される第３フイルム搬送ローラ対１１２ｃとが収容される。 （もっと読む）

【課題】プリウエット効果が安定して得られ、レジスト膜厚の均一性を向上させることができるとともに、レジスト塗布処理装置毎のプリウエット効果のばらつきを軽減できるレジスト塗布処理方法を提供する。
【解決手段】コントローラ９から発信されたダミー吐出信号に応じて、レジスト塗布手段にレジストを吐出させて、ダミー吐出信号が発信された発信時点とレジストが吐出された吐出時点との時間差である遅延時間をコントローラ９に算出させるダミーディスペンス工程と、プリウエット溶剤をウェハ３上に塗布し、所定時間よりも遅延時間分短い乾燥時間でプリウエット溶剤の乾燥処理を終了させるプリウエット工程と、乾燥処理が終了したことに応じてコントローラ９から発信されるレジスト吐出信号に応じて、レジスト塗布手段にレジストを吐出させて、ウェハ３上にレジストを塗布するレジスト塗布工程とを備えるレジスト塗布処理方法とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパーティクルに起因するパターン欠陥による製造歩留まりの低下を抑制することができる半導体製造装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成するレジスト膜形成ユニット１２を備える。また、レジスト膜形成ユニット１２において基板上にレジスト塗布が開始されてから、レジスト膜形成ユニット１２と隔離されたバッファユニット１３への当該基板の搬出が完了するまでの時間、または、レジスト膜形成ユニット１２において基板上へのレジスト塗布が終了してから、バッファユニット１３への当該基板の搬出が完了するまでの時間を算出する停滞時間算出手段２１を備える。さらに、停滞時間算出手段２１が算出した時間が設定値以上のときにアラームを発生する報知手段２２を備える。また、報知手段２２は、算出された時間が設定値以上のときは、異常として、該当基板の再生処理を指示する。 （もっと読む）

【課題】基板とプレートとの隙間の有無を選択的に行って、角形の基板の回転処理においても、四角い形状の影響をなくすようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】角形の基板Ｇを水平状態に保持し、鉛直軸回りに回転するスピンチャック１０と、スピンチャック１０にて保持された基板Ｇの各辺の外方近傍に位置すると共に、基板Ｇの表面と略同一平面の表面を有する気流調整用のプレート１１と、スピンチャック１０にて保持された基板Ｇの表面に処理液を供給する塗布液供給ノズル１２と、スピンチャック１０にて保持された基板Ｇの裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル１３と、を具備する基板処理装置において、各プレート１１を基板Ｇの辺に対して選択的に接離移動するプレート移動機構２０を設ける。これにより、プレート移動機構２０を作動して、基板Ｇとプレート１１との隙間の有無を選択的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】長尺状感光性ウエブに形成された加工部位の位置を簡易な構成で高精度に検出することができるとともに、高品質な感光性積層体を効率的に製造することのできる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】ロータリエンコーダ５１によってカウントされたパルス数が所定の規定パルス数となった時点でＣＣＤカメラ７２を駆動してハーフカット部位３４ａの画像を撮影し、位置ずれ量算出部１２８において、基準位置に対するハーフカット部位３４ａの位置ずれ量を算出する。制御パルス補正部１３２は、前記位置ずれ量に従って基板間送り量を補正し、貼り付け機構における長尺状感光性ウエブの基板間送り量を調整した後、貼り付け機構にガラス基板を搬入してラミネート処理を行う。 （もっと読む）

【課題】処理液が塗布された被処理基板に対し前記処理液の乾燥処理を行うことにより塗布膜を形成する基板処理装置において、装置にかかるコストを低減し、且つ、複数の被処理基板を処理する際のスループットを向上することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理液が塗布された被処理基板Ｇに対し前記処理液の乾燥処理を行うことにより塗布膜を形成する基板処理装置５０において、前記被処理基板Ｇを仰向けの姿勢とし搬送路上を水平方向に搬送する搬送手段３２と、前記搬送路上に設けられ、前記搬送手段３２により搬入された前記基板に対し乾燥処理を施すチャンバユニット１、２、３とを備え、前記チャンバユニット１、２、３内には、搬送される前記基板Ｇの上面に接する乾燥空気流が形成される。 （もっと読む）

【課題】長尺状感光性ウエブが貼り付けられた基板の位置を高精度に計測して、基板と、基板間を切断する切断部との干渉を確実に回避することができるとともに、感光性積層体の製造に寄与することなく廃棄される長尺状感光性ウエブの量を減少させることのできる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】貼り付け機構においてガラス基板２４に長尺状感光性ウエブ２２が貼り付けられた感光性積層体は、ガラス基板２４の先端部のコーナ部９６が撮影部９４の撮影域９８に到達した時点において、コーナ部９６及び基準片９９を含む画像が撮影され、その画像情報に基づいて基準片９９に対するコーナ部９６の位置ずれ量ΔＫが算出される。算出された位置ずれ量ΔＫが許容範囲内でない場合、カッタ機構による切断処理を禁止し、あるいは、切断位置を変更することにより、カッタ機構とガラス基板２４との干渉を回避することができる。 （もっと読む）

【課題】平坦な主部に対して少なくとも１つの窪み領域を備える支持体表面へのポリマ層の堆積方法の提供。
【解決手段】ポリマ層３は、少なくとも以下の連続するステップ、すなわち、少なくともポリマを、または、少なくとも前記ポリマの前駆物質を備える所定量の液体混合物の、支持体４の表面５の平坦な主部５ａ上への堆積ステップと、表面５の平坦な主部５ａ上に置かれたシリンダを動かすことにより、該液体混合物の少なくとも一部の、窪み領域５ｂ内への導入するステップと、追加的な量の液体混合物の、該表面５の平坦な主部５ａ上への堆積ステップと、支持体４の、該表面５の面に対して垂直な軸に沿った回転ステップと、によって実現される。 （もっと読む）

【課題】既設の着色パターン上にスリット塗布により重ね塗りして複数色の着色パターンを形成する場合に、耐溶剤性及び支持体密着性に優れた着色パターンの形成を可能とし、現像残渣の発生を抑制する。
【解決手段】スリット法による塗布に用いられるカラーフィルタ用着色重合性組成物が、着色剤、カルボキシル基含有バインダー、光重合性化合物、ブロックイソシアネート基を有する化合物、光重合開始剤、及び溶剤を含有している。 （もっと読む）