【課題】高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池の実現を可能とする負極基材、この負極基材を用いた二次電池、この負極基材の形成に用いられるポジ型ホトレジスト組成物、及びこの負極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物により形成された有機膜を備えた支持体に、金属膜を形成してなることを特徴とする負極基材、又は前記有機膜をパターン露光により所定形状にパターン化したパターン化有機膜を備えたことを特徴とする負極基材によれば、高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた電圧保持特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
エポキシ樹脂を変性してなる（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、芳香族ビニル単量体（ａ１）を必須構成単量体とする樹脂（Ｂ）および光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物であって、該樹脂（Ｂ）が樹脂（Ｂ）の重量に基づいて芳香族ビニル単量体（ｂ１）を４５〜１００重量%含有する、アルカリ現像可能な垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に用いられる感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】露光の際に充分な深部硬化性が得られ、現像溶解性、現像マージン、パターン形成性に優れた着色パターンを形成でき、高コントラストを実現するカラーフィルタ用着色感光性組成物を提供する。
【解決手段】メルカプト化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、顔料、及び、顔料分散剤を含有するカラーフィルタ用着色感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】近年の半導体デバイスのさらなる微細化に対応し得るレジストパターン微細化用被覆形成剤、及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンを有する基板上に被覆され、微細パターンを形成するために用いられるレジストパターン微細化用被覆形成剤であって、水溶性ポリマー（Ａ）と、少なくとも１以上のヒドラジド基を有するヒドラジド化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とするレジストパターン微細化用被覆形成剤、及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、構造（１）のラクタム基を含むポリマーを含む、フォトレジストパターンを被覆するための水性コーティング組成物に関する。


式中、Ｒ_１は独立して水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキルアルコール、ヒドロキシ（ＯＨ）、アミン（ＮＨ_２）、カルボン酸及びアミド（ＣＯＮＨ_２）から選択され、


は、ポリマーへの結合を表し、
ｍは１〜６であり、そしてｎは１〜４である。
また本発明は、微細電子デバイスの製造方法にも関する。
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【課題】基材との密着性に優れ、かつ良好な導電性を有するパターンを形成することができる導電性パターン形成方法、及び前記導電性パターン形成方法に用いることができる積層体を提供する。
【解決手段】ガラス基材上に、ラジカル重合開始部位と前記ガラス基材に直接化学結合可能な部位とを有するポリマーが前記ガラス基材に化学結合して形成された厚さ０．１μｍ以上１００μｍ以下の重合開始層、及び、分子内に（メタ）アクリル酸エステル及び（メタ）アクリル酸アミドから選択される構造に由来する骨格を有し且つラジカル重合可能な不飽和部位と無電解めっき触媒を吸着する部位とを有するポリマーを含有するグラフトポリマー前駆体層、を有することを特徴とする積層体、並びに、該積層体を用いた導電性パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】近年の半導体デバイスのさらなる微細化に対応し得るレジストパターン微細化用被覆形成剤、及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンを有する基板上に被覆され、微細パターンを形成するために用いられるレジストパターン微細化用被覆形成剤であって、Ｎ−ビニルピロリドンとＮ−ビニルイミダゾールとの共重合体である第１の水溶性ポリマーを含有することを特徴とするレジストパターン微細化用被覆形成剤、及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来技術では困難であった一方の開口部から他方の開口部まで同一径で、径が５０μｍ以下の微細径貫通孔を形成することを可能とする。また、孔の内部を外部から視認できるようにする。
【解決手段】本発明の一実施形態によれば、第１の樹脂基材１３の一平面に所望の微細径の金属線１９を所望のピッチで配設し、前記金属線１９が配設された第１の樹脂基材１３の一平面と、前記第１の樹脂基材と同じ材質からなる第２の樹脂基材１４の一平面とを、前記第１および第２の樹脂基材の材質を主成分とする接着剤を介して接着して一体化し、一体化された前記第１および第２の樹脂基材１５を所望の厚さに切断し、一体化された前記第１および第２の樹脂基材１７をエッチング液に浸漬して前記金属線１９を溶解すること、を備えることを特徴とする微細径貫通孔を有する樹脂基材１８の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】修正品位の高いパターン修正装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置では、Ｙ軸テーブル６上の被修正対象基板７のパターン同士が繋がっている欠陥部にレーザ光源１からレーザ光を照射して不要な部分を切断した後、レーザ光源１の出力を小さくして欠陥部周辺を照射し、不要な部分の飛散物を除去する。したがって、飛散物による光透過率の低下を防止できる。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｇ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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