【課題】固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な、硬化時の収縮率が小さく、硬化後のパターンの密着性、耐熱性（２６０℃リフロー耐性）、耐湿性、高温でもクラックや剥がれが生じないという耐温度衝撃性に優れ、硬化後のパターンの屈折率が１．４７〜１．５３まで設計することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（I）特定の感光性樹脂；１００質量部、（II）光重合開始剤；該（I）感光性樹脂と下記（III）架橋性モノマーとの合計１００質量部に対して０．１質量部以上５質量部以下、及び（III）架橋性モノマー；１００質量部超過１２００質量部以下を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な、硬化時の収縮率が小さく、硬化後のパターンが密着性、耐熱性（２６０℃リフロー耐性）に優れ、黄変がなく、耐湿性を有し、高温でもクラックや剥がれが生じないという耐温度衝撃性に優れる、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（I）特定の感光性樹脂；１００質量部、（II）光重合開始剤；該（I）感光性樹脂と下記（III）架橋性モノマーとの合計１００質量部に対して０．１〜５質量部、（III）CH_２＝CR−Ｏ−（PO）_ｎ−CR＝CH_２（Rは水素原子又はメチル基、POはプロピレンオキサイド基を示す。ｎは３〜１０の整数である。）で表される化合物を含有する架橋性モノマー；５〜１２００質量部を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】主剤と硬化剤の混合後のポットライフが長く、又は一液としての保存安定性に優れ、皮膜特性に優れる硬化皮膜パターンを形成できる硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法を提供する。
【解決手段】硬化皮膜パターン形成用組成物は、熱硬化触媒を含有しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性組成物、好ましくは熱硬化性成分としてエポキシ樹脂とオキセタン化合物を含有する光硬化性・熱硬化性組成物と、ヒドロキシアニオンを生成する第４級アンモニウム化合物からなる塩基性硬化触媒の水溶液からなる現像液との組合せからなる。上記光硬化性・熱硬化性組成物の皮膜を活性エネルギー線の照射により選択的に露光した後、未露光部を上記現像液で現像して除去する。この際、上記塩基性硬化触媒が光硬化した塗膜に浸透し、ドーピングされることにより、現像パターニング性に加えて熱硬化性にも優れたものとなる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを熱処理することにより微細パターンを形成するに際し、該レジストパターン上に塗布され、熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物、およびこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、樹脂が式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を含有する。
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【課題】凸版印刷版の凸部に任意の形状を高精細に付与することのできる凸版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】１．基板に、樹脂モールドを形成するためのネガ型感光性樹脂層を形成し、２．前記ネガ型感光性樹脂層上に、フォトマスクを配置した後、フォトマスク側から露光し、その後フォトマスクを取り外した後、現像を行い、該基板上に硬化したネガ型感光性樹脂の凸状体が配置された樹脂モールド前駆体を製造し、３．更に、前記樹脂モールド前駆体の該凸状体の表面を紫外線透過性の低い色材で被覆して樹脂モールドを製造する工程と、４．引き続き、前記樹脂モールドの凸状体が配置されている側に、印刷版を形成するためのネガ型感光性樹脂層およびその上に、拡散反射板６を配置し、５．前記基板側から、露光した後、樹脂モールドを取り外して製造する工程とを、経て製造されることを特徴とするネガ型感光性樹脂が硬化してなる印刷版５’の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた電圧保持特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）および光ラジカル重合開始剤（Ｂ）を含有する感光性樹脂組成物であって、感光性樹脂組成物の全固形分の重量に基づいて親水性樹脂（Ａ）を８０重量%以上含有する、アルカリ現像可能な垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に用いられる感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】基板上に配置されているレジストパターンの線幅の均一且つ高精度な細線化を、安価且つ容易な手法で実現することが可能なレジストパターン処理装置及びレジストパターン処理方法を提供する。
【解決手段】 レジストパターン処理装置１は、パターニングされたフォトレジストＲが表面に配置された基板１０を載置するためのステージ１２と、ステージ１２に向けて紫外線を照射する紫外線照射部１４と、基板１０の周囲全体を囲む環状部材１６とを備える。このようにすると、ステージ１２における基板１０の載置面Ｓ近傍に供給されたオゾンが、ステージの周囲へと拡散してしまうことが環状部材１６によって抑制され、ステージ１２に載置された基板１０の表面においてオゾンの濃度が均一となる。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング処理時の支持体ダメージの発生を抑制可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】ドライエッチング法を用いたカラーフィルタの製造方法において、ドライエッチング処理を、フッ素系ガスと酸素ガスとを含む混合ガスを用いて着色層除去部６を形成する第１のエッチング工程と、窒素ガスと酸素ガスとを含む混合ガスを用いて着色層除去部６を除去し支持体露出部を形成する第２のエッチング工程とで行う。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基あるいはオキセタニル基の少なくとも一つを含有する不飽和化合物、（メタ）アクリロイルモルホリンおよび他の不飽和化合物の共重合体ならびに１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、オキセタニル基含有不飽和化合物およびこれらの不飽和化合物以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに１，２−キノンジアジド化合物、ならびにオキセタニリルシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）