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国際特許分類[G03F7/40]の内容

国際特許分類[G03F7/40]に分類される特許

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【課題】グラフトポリマー生成領域と非生成領域との境界が鮮明なパターンを形成することのできるグラフトパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、(a)可視域に吸収を有する増感剤、(b1)該増感剤により増感される重合開始剤、(b2)該増感剤により増感されない重合開始剤、及び(c)重合性不飽和結合を有する化合物を含有する硬化性層を形成し、該硬化性層に対して画像様に可視光を照射して、当該硬化性層に硬化部と未硬化部とを形成する工程と、該硬化性層の未硬化部を現像により除去し、前記硬化性層の残存部と前記支持体の露出部によるパターンを形成する工程と、該パターン上に、グラフトポリマー前駆体を接触させた後、紫外光を照射して、前記硬化性層の残存部上にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とからなるグラフトパターンを形成する工程と、を有するグラフトパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】高感度なCTP印刷版においても、現像安定性、即ち画像部の印刷性能を阻害せず非画像部の溶出性を改良し、高い網点部画像再現性を保持しつつ、同時に画像部の視認性を向上させる平版印刷版の製版方法を提供する事である。
【解決手段】平版印刷版の感光層をレーザー露光により画像部を架橋させ、アルカリ性現像液を用いて未露光部を溶解除去し非画像部とする平版印刷版の製版方法であって、溶出促進剤を含むアルカリ性現像液による現像処理の後に、塩基性染料を含有する水洗液により水洗し、引き続いてガム液を付与する平版印刷版の製版方法。 (もっと読む)


【課題】ArFエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)はヒドロキシナフタレン(メタ)アクリレート構成単位(a0)を有し、さらに架橋性ポリビニルエーテル化合物(G)を含有するポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性を向上させる。
【解決手段】(a)フッ素原子を7つ以上有する繰り返し単位と(b)エステル基を3つ以上有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物、並びにこれを用いた樹脂組成物及び感光性転写材料である。 (もっと読む)


【課題】電子部品の絶縁材料や半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜などの形成する際に、硬化膜の低温硬化性、デガス性、体積収縮率を良好に保ちつつ、下地基板に対する現像によるリソグラフィー特性及び加熱硬化後の接着性に優れた感光性ポリオルガノシロキサン組成物を提供すること。
【解決手段】
下記(a)〜(c)成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
(a)特定のシラノール化合物、特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン100質量部
(b)光重合開始剤0.2〜20質量部
(c)特定の有機ケイ素化合物を0.05〜20質量部 (もっと読む)


【課題】第一のレジスト膜上に第一のレジストパターンを形成した後、第一のレジストパターンの上に第二のレジスト膜を形成し第二のレジストパターンを形成するために、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行って第二のレジスト液に溶解しないように性状を変化させるフリージングプロセスにおいて、第一のレジストパターンが第二のレジスト液に溶解せず、第一のレジストパターンの寸法が変化しない、更には、第一のレジストパターンと第二のレジストパターンのドライエッチング耐性が同じであるという要件を満たすように、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行う為のフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】多価アルコール化合物を含有するパターン形成用表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】マスクの印刷パターンの開口壁面にテーパーを形成することを目的とする。また、めっきもぐりなどを発生させることなく、形成するテーパーの角度をコントロールすることを目的とする。
【解決手段】集光された光の焦点をレジスト11の表面からずらして、レジスト11に集光された光を直接照射して露光し、現像して印刷パターンの開口部分に対応するレジストパターンを形成する。レジストパターンが形成された部分を除いて、基材10に金属層をめっきにより形成し、レジストパターン、基材10を除去してマスクを製造する。開口壁面のテーパーの角度を深くするほど、集光された光の焦点をレジスト11の表面から基材10側へずらす。 (もっと読む)


【課題】複数のレジスト膜を重ね合わせてマスクを形成し、被加工膜を加工する技術において、被加工膜の加工寸法の精度の向上を図る。
【解決手段】マトリクス配置されたグリッド点に対して、一部のグリッド点上にコンタクトホールが配置された設計パターンデータを用意する(ステップST11)。全ての前記グリッド点上に第1の開口パターンが配置された第1のマスクパターンデータを用意する(ステップST12)。前記設計パターンデータにおいて、前記コンタクトホールが配置されている前記グリッド点上に第1の開口パターンを含むように配置された第2の開口パターンと、単位格子を構成する四つの前記グリッド点の内、対角上の一対の前記グリッド点上のみにコンタクトホールが配置された一対の前記グリッド点上に配置された第2の開口パターンとが重ね合わされた第2のマスクパターンデータを設計する(ステップST13〜ステップST15)。 (もっと読む)


【課題】複数のパターンを合成して微細パターンを形成する方法において、プロセスを簡易化し、低コストで実施できる方法を提供する。
【解決手段】第1のパターンを形成する工程と、保護膜を形成する工程と、第2のパターンを保護膜上に形成する工程と、第2のパターンをマスクとして、保護膜と、保護膜により保護されたパターンをドライエッチングする工程と、保護膜を除去する工程とを備え、保護膜の形成工程から保護膜の除去工程までの工程を、単数回または複数回実施する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、感光性樹脂組成物の貯蔵安定性が高く、しかも、感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶解した溶液の濃度が高濃度であって、乾燥後の膜減り率が小さく、しかも、低温(250℃以下、好ましくは200℃以下)で硬化可能であり、更には、良好な感光性機能及び諸特性(特に絶縁被膜にした際の電気絶縁信頼性)を有する感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 プリント配線板表面に塗工・乾燥・露光・アルカリ現像後、硬化する感光性樹脂組成物において、アルカリ現像工程において0.8重量重量%以下の炭酸ナトリウム水溶液で現像可能であることを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることで上記問題点を改善することができる。 (もっと読む)


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