【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｇ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】側壁加工プロセス用のパターンを高い精度で効率良く作成する。
【解決手段】設計パターンを形成するためのマスクパターンである第１のパターンに任意のプロセス条件下でのシミュレーションを実行してウェーハ上でのレジストの仕上がり形状を表す第２のパターンを形成し、前記第２のパターンにリサイズ処理を実行することにより前記第２のパターンよりも太い第３のパターンを形成し、図形データ上での演算処理により前記第３のパターンから前記第２のパターンに相当する部分を除去して中抜きパターンである第４のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）カルボキシル基を有する特定の不飽和化合物、（ａ２）脂環式エポキシ骨格を有する特定の不飽和化合物ならびに（ａ３）上記（ａ１）および（ａ２）以外の不飽和化合物の共重合体ならびに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】高感度で十分なスペーサー形状が得られ、スペーサー形成時に発生する汚染物を抑制することができ、再処理時の強アルカリ水溶液等剥離液に対する耐性や基板との密着性に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、他の不飽和化合物との共重合体、重合性不飽和化合物、光重合開始剤、および上記共重合体と熱により架橋反応しうる官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】パターニング精度を維持したまま高ＯＤ化させる。
【解決手段】ポジ型あるいはネガ型のフォトレジスト中にクロミズム特性を有する材料を含む感光性樹脂組成物を提供する。この感光性樹脂組成物は、加熱あるいは光照射等によってＯＤ値を変化できる。したがって、パターニング工程後に加熱あるいは光照射等を行って高ＯＤ化させることによって、パターニング精度を高く維持すると共に、高ＯＤ化させたブラックマトリクスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 金属（薄膜）層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板とそのポリイミドフィルムのエッチング加工法の改善に関する回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 （もっと読む）

【課題】所要のアスペクト比の微細なパターン、特にアスペクト比が大きい微細なパターンを形成を有するパターン形成基板及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板１上に有機薄膜２と無機レジスト膜３をこの順に成膜し、無機レジスト膜３を所要のパターン４に露光、現像した後、パターン４を有する無機レジスト膜３をマスクに、有機薄膜２を選択エッチングして、有機薄膜３に所望のアスペクト比のパターン７を形成する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】高感度で、１，０００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、さらに現像性に優れ、得られたパターン表面に凸凹状の表面荒れがない液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、１分子中に１つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物の共重合体に、ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネートを反応させて得られる重合体ならびに不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と（ａ３）オキシラニル基またはオキセタニル基を有する不飽和化合物の共重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】主剤と硬化剤の混合後のポットライフが長く、又は一液としての保存安定性に優れ、皮膜特性に優れる硬化皮膜パターンを形成できる硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法を提供する。
【解決手段】硬化皮膜パターン形成用組成物は、熱硬化触媒を含有しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性組成物、好ましくは熱硬化性成分としてエポキシ樹脂とオキセタン化合物を含有する光硬化性・熱硬化性組成物と、ヒドロキシアニオンを生成する第４級アンモニウム化合物からなる塩基性硬化触媒の水溶液からなる現像液との組合せからなる。上記光硬化性・熱硬化性組成物の皮膜を活性エネルギー線の照射により選択的に露光した後、未露光部を上記現像液で現像して除去する。この際、上記塩基性硬化触媒が光硬化した塗膜に浸透し、ドーピングされることにより、現像パターニング性に加えて熱硬化性にも優れたものとなる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを熱処理することにより微細パターンを形成するに際し、該レジストパターン上に塗布され、熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物、およびこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、樹脂が式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を含有する。
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