【課題】感光性ポリイミド樹脂組成物を低弾性率化して低反り性を付与するために、ジアミン成分の一部をジアミノポリシロキサン系化合物やビス（アミノベンゾエート）系化合物で代替した場合であっても、汎用の有機溶媒に対する溶解性を維持したまま、弱アルカリ性水溶液による現像性を実現できるようにする。
【解決手段】特定構造のポリイミドユニットからなるポリイミド樹脂と、メラミンシアヌレート類縁体と、ジアゾアフトキノン類縁体とを含有し、該メラミンシアヌレート類縁体が、ポリイミド樹脂１００重量部に対し５〜５０重量部である弱アルカリ性水溶液でポジ型現像が可能で且つ有機溶媒に可溶な感光性ポリイミド樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い硬度を有することが要求されるマイクロレンズ形成において、レンズ形成時の硬度が良好となる感放射線性樹脂層を有するドライフィルムレジストを提供すること。
【解決手段】ベースフィルム、ベースフィルム上に積層された感放射線性樹脂組成物の層および該積層上に積層されたカバーフィルムからなり、そして上記感放射線性樹脂組成物が（Ａ１）オキセタン基含有アルカリ可溶性共重合体を含有する感放射線性ドライフィルム。 （もっと読む）

【課題】諸性能に優れ、且つ低露光量でも良好な形状のスペーサーが得られる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）少なくとも二つのブロックセグメントを有するブロック共重合体、このブロック共重合体の上記二つのブロックセグメントはそれぞれが（ａ１）アリルメタクリレートに代表される化合物、（ａ２）不飽和カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物および（ａ３）その他の不飽和化合物のうちの一つ以上を重合してなるブロックセグメントであり、各ブロックセグメントのそれぞれを構成する化合物の組み合わせは相異なり、且つ二つのブロックセグメントのうちの少なくとも一つは構成化合物として化合物（ａ１）を含む、（Ｂ）重合性不飽和化合物ならびに（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

新規の現像剤可溶性の反射防止膜組成物およびそれらの組成物を使用する方法を提供する。該組成物は、酸官能基を有し、かつ溶媒系に溶解されるポリマーおよび／またはオリゴマー、および、それとともに、架橋剤、光酸発生剤、および任意に、発色団を含む。好適な酸官能基は、カルボン酸であり、一方、好適な架橋剤は、ビニルエーテル架橋剤である。該組成物を、使用時に、基板に塗布し、熱的に架橋する。光への曝露（および任意に、曝露後の焼成）後、硬化された組成物を、脱架橋し、それらを、典型的なフォトレジスト現像溶液（例えば、アルカリ現像剤）に可溶化させる。一実施形態において、該組成物を使用して、マイクロ電子基板中にイオン注入領域を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
硝子基板やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、高精細パタ−ンを連続的に形成する印刷方法において、精細な画像を正確に形成することができ、高い生産性を得る事が出来る印刷用の印刷平版を提供することを目的とする。
【解決方法】
透明な印刷平版であって、印刷時の画像パターン部に相当する部分が撥インキ性部にパターニングされており、印刷平版上に塗工したインキ液膜のうち撥インキ性部上に塗工されたインキのみを、印刷平版と被印刷物との位置合わせ処理を経て、画像パターンとして被印刷基板に転写することで印刷物を形成するものとする。 （もっと読む）

【課題】撥液性の高い透明膜を形成することができ、さらには優れた現像性又はパターン形成性を有する膜を形成することができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】特定のフッ素系シロキサン化合物をモノマーとして重合してなる重合体（Ａ）と重合性二重結合を有する化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）とを含有する感光性組成物を提供し、重合体（Ａ）にアルカリ可溶性重合体を用いることによってさらに現像性に優れる感光性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジストの硬化やヒビ割れ、開口幅の拡大および下地酸化の少なくとも一つを抑制しつつ、微細パターンのメッキやウエットエッチングを実現する新規な技術を提供する。
【解決手段】下地上にレジスト膜を形成し、その上から選択的に露光および現像を行い、その後メッキ処理またはウエットエッチング処理することを含んでなるパターン形成方法において、メッキ処理またはウエットエッチング処理前に、下地表面を水溶性ポリマーおよび水を少なくとも含んでなる表面処理剤を用いて処理する。 （もっと読む）

【課題】光硬化性・熱硬化性組成物の主剤と硬化剤を混合した後のポットライフ（可使時間）を長くでき、あるいは一液としての保存安定性に優れた組成物とすることができると共に、各種基材に対する密着性、はんだ耐熱性、耐薬品性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性などの諸特性に優れる硬化皮膜のパターンを形成できる方法を提供する。
【解決手段】硬化触媒を含有しない光硬化性・熱硬化性組成物を用いて基材上に形成した皮膜を露光、現像して皮膜パターンを形成する方法であって、その現像方法が、熱硬化反応促進用の塩基性硬化触媒の水溶液を現像液として用いることを特徴としている。好適には、上記塩基性硬化触媒は、窒素含有複素環式化合物、好ましくはアミジン部位を有する複素環式化合物である。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、及び基板との接着性に優れるポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性のポリイミド又はポリイミド前駆体構造を含む樹脂１００重量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０重量部、（Ｃ）テルペン化合物０．０１〜７０重量部、を含むポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】１，５００Ｊ/ｍ^２以下の露光量で十分なスペーサーを形成することを可能とし、密着性、ラビング耐性、耐熱性に優れ、さらに柔軟性と高い弾性回復率、アルカリ現像液に対する優れた現像性を有する表示素子用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ａ２）４−アクリロイルオキシメチル−２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソランに代表される特定構造不飽和化合物、
（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外の不飽和化合物の共重合体を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）