【課題】感度、解像度及び密着性に優れ、十分な剥離特性を有するレジストパターンを得ることができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）（Ｉ）（メタ）アクリル酸、（ＩＩ）スチレン若しくはスチレン誘導体、又はα−メチルスチレン若しくはα−メチルスチレン誘導体、及び、（ＩＩＩ）（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル又は（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル誘導体、又は、（ＩＶ）（メタ）アクリル酸フルフリル、又は（メタ）アクリル酸フルフリル誘導体の少なくとも一種で表される２価の基を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイによって臨界寸法が不良になる問題を除去すると共に、ＤＥＥＴ方法で全形態の微細パターンを形成することが可能な半導体素子の微細パターン形成方法の提供。
【解決手段】半導体基板上にエッチング対象膜、第１補助膜、分離膜および第２補助膜を形成する段階と、第１補助膜に焦点を合わせて第１露光工程を行う段階と、第２補助膜に焦点を合わせて第２露光工程を行う段階と、第２補助膜を現像して第２補助パターンを形成する段階と、第２補助パターンをエッチングマスクとして用いるエッチング工程によって分離膜および第１補助膜をエッチングして第１補助パターンを形成する段階と、第１補助パターンを現像して第３補助パターンを形成する段階と、第３補助パターンを用いてエッチング対象膜をエッチングする段階とを含む、半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）酸の作用によりアルカリ可溶性となる（ａ）樹脂、及び（ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する第一の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に形成された第一のパターンの表面上に、パターンコーティング組成物を塗布して被覆層を形成する工程と、（２）少なくとも被覆層をベーク処理して第二のパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法であり、パターンコーティング組成物が、イソシアネート基、及び加熱によりイソシアネート基を生成する官能基の少なくともいずれかを有する（Ａ）化合物と、（Ｂ）溶剤とを含有するものである。 （もっと読む）

【課題】ArF露光装置を用いて４０ナノメートル以下のラインアンドスペースパターンを形成する。
【解決手段】シリコン含有重合体を含む反射防止膜用組成物を利用して反射防止膜パターンを形成し、前記反射防止膜パターンの間にシリコン含有重合体を含むフォトレジスト組成物を利用してフォトレジストパターンを形成した後、これらパターンを食刻マスクにスピンオンカーボン層と下部被食刻層に対する食刻工程を行なうことにより、工程段階及び製造コストを低減することのできる二重パターニング方法を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高密度に金属粒子が存在し、且つ、支持体に対する密着性に優れた画像様の金属膜を備えた薄層金属膜材料を提供すること。
【解決手段】本発明の薄層金属膜材料は、支持体と、該支持体上に重合性基を有するカップリング剤を用いて形成された中間層と、該中間層に対し、架橋性基を有する化合物を含む組成物を接触させた後、該組成物に画像様にエネルギーを付与して生成した、該中間層表面に直接結合してなるポリマーからなる画像様のポリマー層と、該画像様のポリマー層中に含有される金属粒子と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】幅の異なるパターンを同時に容易に形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工膜１上に複数のライン状のパターンを形成する工程と、複数のライン状のパターンの各側壁に側壁膜を形成する工程と、被加工膜１上、及び複数のライン状のパターンの各側壁に形成された側壁膜間に、複数のライン状のパターンと主元素が同一の材料である材料膜を堆積する工程と、材料膜をエッチングし、側壁膜間でライン状のパターンとして孤立させると共に、被加工膜１上でライン状のパターンより幅の広いパターンを形成する工程と、材料膜をエッチングした後、側壁膜を除去する工程とを備える。 （もっと読む）

スペーサリソグラフィ技術を使用して超微粒な寸法が標的層（１１）に正確かつ効率的に形成され、上記技術は、第１のマスクパターン（１０）を形成し、第１のマスクパターン（１０）の上に架橋可能層（２０）を形成し、第１のマスクパターン（２０）と架橋可能層（２０）との間に架橋スペーサ（３０，３１）を形成し、架橋可能層（２０）、第１のマスクパターン（１０）の上面にある架橋スペーサ（３０）および第１のマスクパターン（１０）を除去して、架橋スペーサ（３１）の残りの部分を含む第２のマスクパターンを形成し、第２のマスクパターン（３１）を使用してエッチングを行い、下の標的層（１１）内に超微細なパターンを形成する。実施形態は、酸を発生可能なフォトレジスト材料から第１のマスクパターン（１０）を形成し、酸の存在下で架橋反応を受けうる材料を含む架橋可能材料（２０）を堆積させ、第１のマスクパターン（１０）の上面から架橋されていない層（２０）および架橋スペーサ（３０）の一部を除去したのち、第１のマスクパターン（１０）の残りの部分および残りの架橋されていない層（２０）を除去する。
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【課題】短い現像時間で使用しても感度、接着性、残渣除去性に優れるポジ型感光性樹脂組成物の提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部に対し、下記の一般式（２）、（３）、及び（４）で表される化合物群から選択される少なくとも１つのカルボニル基を有する化合物０．１〜３０質量部と、感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部とを含有するポジ型感光性樹脂組成物。


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【課題】 感度、解像度及びレジストの剥離特性に特に優れたレジストパターンを得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用及び／又は１３０℃〜２５０℃の熱によって分解可能な結合を有する不飽和二重結合含有化合物からなる構成単位を含むラジカル重合性ポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法。 （もっと読む）

【課題】低温焼成を採用した場合でも、膜厚、解像度、パターン形状、耐熱性、透明性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好な感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光ラジカル発生剤、（Ｄ）一分子中にオキセタニル基を２個以上有する化合物（但し、オキセタニル基を有するアルカリ可溶性共重合体を除く）、ならびに（Ｅ）酸発生剤を含有しそして上記（Ａ）アルカリ可溶性共重合体が（Ａ１）（ａ１）酸性官能基を有する重合性不飽和化合物と、（ａ２）Ｎ位−置換マレイミドおよび（ａ３）前記（ａ１）、（ａ２）と異なる他の重合性不飽和化合物の共重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）