【課題】ホールパターンを高密度に形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工膜１上に複数の柱状の構造物を形成する工程と、複数の構造物に包囲された領域に窪み部が形成されるように、複数の構造物の側壁に側壁膜を形成する工程と、複数の構造物の上、及び窪み部の底部の側壁膜をエッチングして除去する工程と、側壁膜を残し、複数の構造物を選択的にエッチングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】短い現像時間で使用しても感度、接着性、残渣除去性に優れるポジ型感光性樹脂組成物の提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部に対し、下記の一般式（２）、（３）、及び（４）で表される化合物群から選択される少なくとも１つのカルボニル基を有する化合物０．１〜３０質量部と、感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部とを含有するポジ型感光性樹脂組成物。


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【課題】 感度、解像度及びレジストの剥離特性に特に優れたレジストパターンを得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用及び／又は１３０℃〜２５０℃の熱によって分解可能な結合を有する不飽和二重結合含有化合物からなる構成単位を含むラジカル重合性ポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターン用保護膜の形成方法及びこれを用いた微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、露光工程を用いて前記フォトレジスト膜に露光領域及び非露光領域を画定する工程と、前記露光領域を有する前記フォトレジスト膜上に反応物質層を形成する工程と、化学結合工程を用いて前記反応物質層を反応させて前記露光領域上に保護膜を形成する工程と、前記非露光領域及び反応後に残存する前記反応物質層を現像工程により除去してフォトレジストパターンを形成する工程と、を含むフォトレジストパターン用保護膜の形成方法を提供する。この際、前記保護膜は前記フォトレジストパターン上に残存する。
また、基板を準備する工程と、上記形成方法によりフォトレジストパターン用保護膜を形成する工程と、前記保護膜及び前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする工程と、を含む微細パターンの形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】液状版感光性樹脂凸版をスムーズに搬入することができる乾燥装置を提供する。
【解決手段】傾斜ガイドに沿って上方から吊り下げた状態でケーシング内に搬入され、同ケーシングの底面を滑らせながら略水平状態とされた液状版感光性樹脂凸版を、前記ケーシング内に備えられた乾燥手段によって乾燥処理する乾燥装置において、傾斜ガイドの上面には、前記液状版感光性樹脂凸版の搬入方向と略平行に複数本の凸部が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トレンチパターンやホールパターンの寸法を実効的に微細化したパターンをスカムを発生させずに形成する方法の提供。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、（ウ）ネガ型現像液を用いて現像を行い、レジストパターンを形成する工程、及び（エ）該レジストパターンに架橋層形成材料を作用させ、該レジストパターンを構成する樹脂と架橋層形成材料とを架橋させ、架橋層を形成する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】自己整列されたダブルパターニングを採用する微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】微細パターン形成方法は基板を提供する工程を備える。前記基板上に第１マスクパターンを形成する。前記第１マスクパターンを有する基板上に反応膜を形成する。化学的付着工程により前記第１マスクパターンに隣接した前記反応膜を反応させて前記第１マスクパターンの外壁に沿って前記犠牲膜を形成する。未反応の前記反応膜を除去して前記犠牲膜を露出させる。前記第１マスクパターンの向い合う側壁と隣接した前記犠牲膜との間に第２マスクパターンを形成する。前記犠牲膜を除去して前記第１および第２マスクパターンと共にその間の前記基板を露出させる。前記第１および第２マスクパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】厚膜の場合でもパターン寸法安定性に優れ、パターン密着性、エッジのシャープ性等が良好なパターンを形成でき、熱焼成工程で熱硬化収縮による表面粗度の悪化が生じず、遮光材としてカーボン等の導電性材料を用いた場合でも体積抵抗の低下のないブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（イ）光硬化性樹脂及び／又は光硬化性単量体、（ロ）黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる少なくとも１種以上の遮光性顔料、及び（ハ）粒状シリカを含有して成るブラックレジスト用感光性樹脂組成物において、（ハ）成分の粒状シリカの一次粒子径の平均値が１０〜５０ｎｍ、遮光性顔料（ロ）と粒状シリカ（ハ）との一次粒子径の平均値の比（（ハ）／（ロ））が０．２〜５．０、及び組成物中の粒状シリカ（ハ）と遮光性顔料（ロ）との重量比（（ハ）／（ロ））が０．１〜１．０であるブラックレジスト用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】最終的なレジストパターンの寸法精度の向上が可能な、ＲＥＬＡＣＳ処理で用いる水溶性微細パターン形成材料の膜形成方法を提供すること。
【解決手段】膜形成方法は、酸を含有するレジストパターンが形成された被処理基板を回転させた状態で、前記レジストパターンの上に酸の存在下で熱架橋性を有する水溶性パターン形成材料を塗布しながら広げる工程と、前記水溶性パターン形成材料が前記レジストパターンの上に広がった後も前記工程と同じ雰囲気下で前記被処理基板を継続して回転させることにより、前記水溶性パターン形成材料を乾燥させる工程を含み、前記雰囲気中の飽和蒸気圧（ｍｍＨｇ)をＸとし、相対湿度（％）をＹとしたとき、Ｘ（１−Ｙ／１００）＞１２．２ｍｍＨｇを満たす。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアセタール構造を有する酸解離性基を有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤及び（Ｄ）密着助剤を少なくとも含有するポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）