【課題】 一回の焼成で、所定の凹凸パターンを有する無機層を十分高精度に形成することができる無機層の形成方法を提供すること。
【解決手段】 無機層の形成方法は、（ａ）反応性二重結合を有するポリマー、（ｂ）光重合開始剤、及び（ｃ）第１無機粒子を含有する樹脂組成物からなる第１層を基板上に設ける第１工程と、第２無機粒子を含有する感光性樹脂組成物からなる第２層を第１層上に設ける第２工程と、第２層の所定部分に活性光線を照射して第２層に所定パターンの光硬化部を形成させる第３工程と、第２層のうち光硬化部以外の部分を除去する第４工程と、第１層及び光硬化部を焼成して第１無機粒子及び第２無機粒子に由来する無機層を形成する第５工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 フローによる線幅の増加量のばらつきの管理を光学的検査装置を用いて高い測定精度、且つ高スループットに行うことができるプロセス管理方法を提供する。
【解決手段】 半導体基板上に第１ラインと第１ラインと平行に配置され、第１ラインより細い複数の第２ラインを有する検査用パターン、及び第１ラインの延伸する方向に対して直交する方向に基準パターンをそれぞれレジストにより形成するステップと、レジストを加熱して、検査用パターン及び基準パターンをそれぞれフローさせるステップと、フロー後の検査用パターンと基準パターンの中心間距離を測定するステップと、中心間距離の測定に基づいて、フロー後の検査用パターン及び基準パターンの線幅の増加量のばらつきを調べるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】フレキソ印刷要素を熱現像して表面にレリーフ像を露呈する改良された装置、及びフレキソ印刷要素を露光及び現像する該装置の使用方法。
【解決手段】該装置は、通常、フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面上の未架橋感光性ポリマーを軟化又は溶融する手段、フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面の軟化又は溶融した未架橋感光性ポリマーを除去するためにフレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能、及びフレキソ印刷要素の画像形成表面の少なくとも一部上を移動可能な少なくとも１つのロール、及び、少なくとも１つのロールとフレキソ印刷要素の露光された画像形成表面との接触を維持する手段を含む。フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面上の未架橋感光性樹を軟化又は溶融する手段は、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接配置される加熱器、及び／又はフレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能な少なくとも１つのロールの加熱を含む。装置は、また、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を架橋及び硬化する露光装置を含む。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの優れた解像度および密着性を維持し、かつ感光性樹脂積層体を基板にラミネートする際のラミエアーを抑制し、もって微細な導体パターンの製造に適した感光性樹脂積層体を提供する。
【解決手段】 少なくとも、（Ａ）支持層、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層をこの順に積層してなる感光性樹脂積層体であって、（Ａ）支持層が、少なくとも（Ａ−１）第一の有機ポリマーフィルム、（Ａ−２）熱可塑性樹脂層、（Ａ−３）第二の有機ポリマーフィルムをこの順に積層して一体とした積層体であり、（Ａ−２）熱可塑性樹脂層のガラス転移温度が（Ａ−１）第一の有機ポリマーフィルム及び（Ａ−３）第二の有機ポリマーフィルムのガラス転移温度より低く、（Ａ−３）第二の有機ポリマーフィルムが感光性樹脂層に接触し、厚みが１〜２０μｍであり、Ｂ）感光性樹脂層の厚みが０．１〜１５μｍである感光性樹脂積層体、を用いる。 （もっと読む）

【課題】 シリコンを含有する自己組立分子層を備えるマスクパターンとその形成方法、及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターンを形成するために、まず基板上の下地膜１１０上に、下地膜１１０を第１幅ほど露出させる開口部を備えたレジストパターン１２０を形成する。次いで、レジストパターン１２０の表面にシリコンを含有する自己組立分子層１３２を形成する。レジストパターン１２０及び自己組立分子層１３２をエッチングマスクとして下地膜１１０をエッチングして、微細パターンを具現する。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。
【解決手段】 支持体（Ａ）、アルカリ現像可能な感光性樹脂層（Ｂ）、非感光性耐アルカリ性樹脂層（Ｃ）を順次積層してなるサンドブラスト用感光性樹脂積層体を用いて、サンドブラスト表面加工を行う。 （もっと読む）

【課題】パターニング特性のより一層の向上と、耐インク性や基板に対する密着性といった性能の向上と、の両立が可能な新規な光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を提供すること、更には、本発明の他の目的は、上述の樹脂組成物の硬化物からなる微細構造体、およびその製造方法といった関連する諸発明を提供すること。
【解決手段】光照射によるパターンニングを利用した構造体形成用の樹脂として、（ａ）エポキシ樹脂、
（ｂ）光カチオン重合開始剤、
（ｃ）カチオン重合阻害物質、
（ｄ）フルオロアルキル基を有し、かつ前記エポキシ樹脂のエポキシ基と架橋反応する置換基を末端に有する化合物及び
（ｅ）熱カチオン重合触媒
を含む光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

本発明は、（Ｉ）導電性、電気抵抗性および誘電性の粒子から選択される機能相粒子と、３２５〜６００℃の範囲のガラス転移温度を有する無機結合剤とを含む無機材料の微細粒子を含み、（ＩＩ）（ｅ）コポリマー、インターポリマーまたはそれらの混合物である水性現像可能な非感光性ポリマーであって、各コポリマーまたはインターポリマーが、（１）Ｃ_１−１０のアルキルアクリレート、Ｃ_１−１０のアルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまたはそれらの組合せを含む非酸性コモノマーと（２）エチレン性不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含む水性現像可能な非感光性ポリマーと、（ｄ）第１および第２の官能性単位を有する二官能性ＵＶ硬化性モノマーであって、第１の官能性単位がビニル基であり、第２の官能性単位が、カルボン酸部分との反応によって化学結合を形成することができる、二官能性ＵＶ硬化性モノマーとを含む有機媒体中に分散された、光画像形成性前駆組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 オキシムスルホネート系酸発生剤を含むレジスト組成物において、コーティン
グ時の酸発生剤の析出を低減する。
【解決手段】 ベース樹脂成分（Ａ）と、オキシムスルホネート系酸発生剤（Ｂ）を、メ
チルｎ−アミルケトンを含有する有機溶剤（Ｃ）に溶解してなることを特徴とするレジス
ト組成物。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度にすぐれるばかりでなく、低い熱処理温度でも、良好な機械物性を有する、ポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００質量部とアクリレート系化合物１〜１００質量部と感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
（もっと読む）